7月6日消息,據臺媒報道,ASML試圖規避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國大陸市場推出特別版DUV ***。
消息稱如果該項目繼續推進,中芯國際、華虹等半導體企業可以繼續使用ASML的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。
消息稱該特別版 DUV ***基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造,而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號,不在本次官方禁令范圍內。1980Di 是 ASML 現有效率比較低的***,支持 NA 1.35 光學器件、分辨率可以達到 <38 nm,理論上可以支持 7nm 工藝。大多數晶圓廠使用 1980Di ***,主要生產 14nm 及以上工藝芯片,很少使用其生產 7nm 芯片。
不過,ASML對此最新回應表示:一直以來ASML都遵守所適用的法律條例,我們并沒有面向中國市場推出特別版的***。
但行業人士表示,報道指出的特別版DUV***是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系統改造,作為10年前就已經推出的型號,因為技術已經嚴重退檔,所以不在新的和舊有的禁令中。雖然這類***理論上可以支持7nm芯片的制造,但因其生產效率極低,良品率太差,很少半導體公司在使用。
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原文標題:ASML向中國推出“特供版”光刻機?
文章出處:【微信號:CSF211ic,微信公眾號:中國半導體論壇】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
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