6月29日,中國電科48所宣布,他們自主研制的8吋SiC外延設備首次亮相,并且已經完成首輪工藝驗證。
在SEMICON China 2023上海展上,中國電科集團攜集成電路、第三代半導體、半導體顯示、光伏及熱工等領域設備和工藝整體解決方案重裝亮相,全面展示了最新實踐和成果。
展會期間,48所重磅發布了最新研制的8英寸碳化硅外延設備。該設備將進一步推進SiC電力電子器件制造降本增效,牽引SiC行業向低成本、規模化方向發展。
48所黨委書記王平介紹,“當前主流的SiC單晶與外延生長還處于6吋階段,擴大尺寸成為產業鏈降本增效的主要路徑。48所聚焦第三代半導體產業發展的迫切需求和瓶頸問題,搶灘布局,奮力開展8吋SiC外延設備關鍵技術突破及工藝研發,目前該設備已完成首輪工藝驗證,為48所駛入SiC產業‘快車道’打下了堅實基礎。”
經過一年的技術攻關,48所研發團隊在6吋SiC外延設備基礎上,進一步優化水平進氣裝置設計、熱壁式反應室構型等設計,克服了大尺寸外延生長反應源沿程損耗突出、溫流場分布不均等問題,滿足了大尺寸、高質量外延生長需求,實現了外延裝備從6吋到8吋的技術迭代。
目前,48所自研的8吋SiC外延設備核心技術指標取得了關鍵性突破,8英寸生長厚度均勻性<1.5%,摻雜濃度均勻性<4%,表面致命缺陷<0.4個/cm2,這些技術指標的突破,標志著48所已成功掌握8吋SiC外延設備相關技術。
48所表示,作為我國半導體裝備領域的“國家隊”,他們將始終致力于半導體微細加工設備的技術研究,堅持在創新實踐中奮進領跑,加速推進產品迭代升級和產業化應用,為實現我國半導體裝備領域關鍵核心技術自立自強作出積極貢獻。
編輯:黃飛
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原文標題:關鍵性突破!這款8吋SiC設備完成首輪驗證
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