近日,“2023功率與光電半導體器件設計及集成應用論壇”于西安召開。論壇由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟(CASA)指導,西安交通大學、極智半導體產業網(www.casmita.com)、第三代半導體產業主辦,西安電子科技大學、中國科學院半導體研究所、第三代半導體產業技術創新戰略聯盟人才發展委員會、全國半導體應用產教融合(東莞)職業教育集團聯合組織、西安和其光電股份有限公司等單位協辦。
期間,天津工業大學副教授李龍女帶來了《基于***的平面型封裝1700V碳化硅模塊開發與性能表征》的主題報告。
SiC/GaN器件具有低導通電阻、快速開關、高耐壓、低開關損耗和高工作溫度當前亟需針對SiC器件/模塊的先進封裝,需要創新低寄生/雜散阻抗、高散熱效率的高可靠封裝結構,以及高耐溫 (> 200oC), 高導電性和高可靠的封裝材料。
報告介紹了開發采用全燒結銀互連和DBC的平面型封裝SiC功率模塊的研究成果,研究指出材料方面采用氮化鋁基板和燒結銀墊塊的封裝結構,可明顯降低雙面封裝結構整體應力,有利于提高模塊可靠性。
封裝結構方面采用模塊-C間隔排布MOS芯片和二極管方式,最高結溫更低,且各芯片間的溫度差異更小,且寄生電感較小,更有利于保持模塊性能?;谡n題組低溫納米銀燒結工藝,制備基于***的平面型封裝1700V碳化硅半橋模塊,模塊整體厚度約5 mm。
通過測試,各柵源電壓下柵源漏電流均很小。70A輸出時,漏源導通壓降為1.6V,與芯片I-V曲線一致,表明封裝過程寄生阻抗低,雙面互連也未引起芯片預損傷和老化退化。
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原文標題:天津工業大學李龍女:基于國產芯片的平面型封裝1700V碳化硅模塊開發與性能表征
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