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3000億!大基金來了,制造設(shè)備受益……附已投資名單

感知芯視界 ? 來源:芯榜、集成電路前沿 ? 作者:芯榜、集成電路前 ? 2023-09-07 09:35 ? 次閱讀

來源:芯榜、集成電路前沿

惠及一大波行業(yè)

編輯:感知芯視界

據(jù)知情人士表示,中國集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(也稱為大基金)將推出第三只基金,且是三只基金資金規(guī)模最大的一只。

大基金三期擬募集400億美元,約合人民幣3000億元,以加快國內(nèi)半導(dǎo)體發(fā)展進程。

大基金三期來了?

公開資料顯示,2014年9月24日,國開金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動、上海國盛、中國電科、紫光通信、華芯投資等作為發(fā)起人共同簽署了《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金股份有限公司發(fā)起人協(xié)議》和《國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金股份有限公司章程》,標(biāo)志著大基金正式設(shè)立。

大基金采取股權(quán)投資等多種形式,重點投資集成電路芯片制造業(yè),兼顧芯片設(shè)計、封裝測試、設(shè)備和材料等產(chǎn)業(yè)。一期募資1387億元,二期募資2041.5億元。

大基金三期募集目標(biāo)3000億元,超過了2014年和2019年的同類基金。三位知情人中有兩位表示,大基金三期一個主要的投資領(lǐng)域?qū)⑹切酒圃煸O(shè)備。

出口限制政策的升級,讓我國芯片自主可控的需求變得更加緊迫,基于此,大基金三期或?qū)⒃诎雽?dǎo)體設(shè)備持續(xù)投入。

前兩位消息人士表示,基金籌款過程可能需要數(shù)月時間,目前尚不清楚第三只基金何時啟動,或者是否會對計劃進行進一步修改。

國家集成電路大基金投資項目匯總

芯片制造會用到哪些設(shè)備?

清洗設(shè)備:清洗設(shè)備用于去除芯片制造過程中產(chǎn)生的污染物,保持芯片表面的純凈度。清洗設(shè)備通常使用酸、堿或溶劑等化學(xué)物質(zhì)進行清洗,并通過高速旋轉(zhuǎn)或超聲波來增加清洗效果。

制備設(shè)備:制備設(shè)備用于在芯片的基礎(chǔ)材料上形成各種層和結(jié)構(gòu)。例如,物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)用于在基底上沉積薄膜,化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)用于在基底上化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。

照相設(shè)備:照相設(shè)備用于將設(shè)計好的電路圖案轉(zhuǎn)移到芯片上。這通常通過光刻技術(shù)實現(xiàn),其中光源照射到光掩膜上,然后通過透鏡系統(tǒng)將圖案縮小并傳遞到芯片上。

雷射曝光設(shè)備:雷射曝光設(shè)備是利用激光光束通過光刻膠將芯片上的圖案曝光到硅片上的關(guān)鍵設(shè)備。它能夠提供高分辨率和精確度,以實現(xiàn)微米級別的電路結(jié)構(gòu)。

離子注入設(shè)備:離子注入設(shè)備用于在芯片表面注入雜質(zhì),根據(jù)需要改變材料的電導(dǎo)率。這種設(shè)備可以控制注入的離子類型、能量和劑量,以在芯片上形成所需的區(qū)域。

薄膜沉積設(shè)備:薄膜沉積設(shè)備用于在芯片表面沉積各種功能性薄膜,如金屬電極、絕緣層或封裝材料。常見的薄膜沉積技術(shù)包括物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和濺射沉積等。

制程控制設(shè)備:制程控制設(shè)備用于監(jiān)測和控制芯片制造過程中的各項參數(shù),以確保產(chǎn)品的一致性和質(zhì)量。這些設(shè)備通常包括溫度、濕度和壓力傳感器,以及自動化的控制系統(tǒng)

測試和封裝設(shè)備:測試和封裝設(shè)備用于對制造完成的芯片進行功能測試,并將芯片封裝成最終的封裝形式,如芯片級封裝(CSP)或球柵陣列封裝(BGA)。這些設(shè)備包括測試探針、焊線機器和封裝機器等。

審核編輯:湯梓紅

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