UV***一般可以分為5種,即:接觸式***,接近式***,掃描投影式***,步進投影式***,步進掃描投影式***。我們目前芯片廠使用較多的stepper與scanner則包含在這5種之中。今天就來仔細剖析一下,這五種***的區(qū)別及應(yīng)用場景。
接觸式***
接觸式***是上世紀(jì)70年代最主要的***臺,不過在目前的研究機構(gòu)中用的也比較多。接觸式***又可以分為硬接觸,軟接觸,真空接觸。
硬接觸
掩膜版與晶圓上的光刻膠直接地接觸,緊貼晶圓,沒有任何間隙。但是掩膜版與晶圓之間接觸,晶圓的光刻膠會污染掩膜版.
軟接觸
將掩膜版輕輕地放置在晶圓上,使得掩膜版和晶圓之間實際上是有接觸的,但接觸的壓力比"硬接觸"要小得多。這種方式的目的是在確保高分辨率的同時,減少掩膜版和基材之間的損壞風(fēng)險。
真空接觸
先將掩膜版與晶圓之間抽至真空,由于氣壓的作用,掩膜版會被壓向硅片,從而確保兩者之間的均勻接觸。
接近式***
掩膜版與晶圓并不真正接觸,而是處于非常小的距離(大約幾微米),這種方式中掩膜版與晶圓之間有一個小間隙,大于軟接觸但小于投影式光刻的間隙。雖然這個間隙相對較小,但它能夠使使掩模和硅片不會直接接觸,從而降低了損壞的風(fēng)險。
掃描投影式曝光機
注意,這里說的不是Scanner。該種***中掩膜版與圖案的大小是1:1,即掩膜版上的尺寸與光刻膠上的圖案尺寸相同。那為什么叫掃描?這是因為光是透過一條細長的狹縫射在晶圓上,一般是一次曝光晶圓的數(shù)行,晶圓需要挪動位置,使光能將晶圓所有的區(qū)域都曝光。
步進投影式***(stepper)
它使用透鏡系統(tǒng)將掩模上的圖案在小面積上逐個投影到硅片上。每次曝光一個小區(qū)域后,硅片會移動到下一個位置,直到整個硅片都被曝光。一個曝光區(qū)域就是一個“shot”。因為它是通過透鏡系統(tǒng)投影,一般I線stepper使用的是5倍版,即掩膜版上圖形尺寸是實際光刻膠上的尺寸的5倍,所以在掩膜板上可以設(shè)計更復(fù)雜的圖形。
步進掃描投影式***(scanner)
在高端的半導(dǎo)體制造中一般會用到此種機型。Scanner的特點是在曝光過程中,掩膜版在一個方向上移動,同時晶圓在與其垂直的方向上同步移動。Scanner通常比其他曝光機具有更高的生產(chǎn)效率,設(shè)計和制造都非常復(fù)雜,Scanner的購買和維護成本都很高。
UV***的類型大致就這幾種,今天只講個梗概,后續(xù)我再分開一一詳細描述。
審核編輯:劉清
-
半導(dǎo)體
+關(guān)注
關(guān)注
334文章
27295瀏覽量
218107 -
晶圓
+關(guān)注
關(guān)注
52文章
4891瀏覽量
127934 -
光刻機
+關(guān)注
關(guān)注
31文章
1150瀏覽量
47383
原文標(biāo)題:什么是接觸式/接近式/投影式/步進式光刻機?
文章出處:【微信號:處芯積律,微信公眾號:處芯積律】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
評論