牛津儀器推出突破性超快ALD產品,用于量子技術和先進研發
來源：牛津儀器
牛津儀器（Oxford Instruments）推出PlasmaPro ASP系統，這是其Atomfab?產品系列中的一款高速原子層沉積（ALD）研究系統。PlasmaPro ASP受益于新的專利遠程等離子體源設計、優化的腔室幾何形狀和用于離子能量控制的晶圓臺偏置。這些特性結合在一起，為量子應用提供了三倍快的ALD速率、低電阻率和高Tc超導氮化物薄膜，這是此次發布的最初應用重點。
等離子體源設計涉及與埃因霍溫理工大學（TU/e）的合作，該大學獲得了一個開發模塊，用于研究等離子體參數空間并確認高速率低損傷源特性。與TU/e聯合開發后發表的論文（Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices）在去年的AVS ALD/ALE。
會議上榮獲最佳論文獎。牛津儀器與TU/e的合作一直持續到工藝開發，過去一年，TU/e一直充當量子和其他應用的PlasmaPro ASP應用開發加速器。
PlasmaPro ASP系統是牛津儀器現有ALD工具集的絕佳補充，旨在通過創新的高速率源設計和超長機器正常運行時間，以及直觀軟件用戶界面來解決關鍵的量子挑戰。它在生產率和等離子體功能方面與眾不同，為在電子、光子學和量子技術領域的研究提供了一些獨特的機會。
審核編輯：湯梓紅
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