有報道稱,三星集團計劃向半導體設備領域投資10萬億韓元,并大量采購ASML的EUV***。據韓國今日電子新聞報道,三星計劃增加進口ASML極紫外(EUV)光刻設備的數量。因為保密條款的存在,盡管具體細節未能披露,但根據證券市場消息,據稱該協議將使ASML在五年內提供50套設備,每套設備的單價約為2000億韓元,總價值高達10萬億韓元(當前約551億元人民幣)。
目前還不清楚該合同中的產品是現有的EUV光刻設備還是下一代“HighNAEUV”光刻設備。然而,目前EUV光刻設備的最大問題是產量有限。根據官方介紹,它的復雜程度甚至超過衛星零部件們是三星電子、臺積電、英特爾、SK海力士和美光。其中,臺積電約占供應量的70%,剩下的30%由其他四家公司爭奪。
去年6月,三星電子推出了全球首個使用全柵極(GAA)技術的3納米代工技術。由此以來,該公司一直在努力采購更多的EUV光刻設備,計劃在明年上半年進入3納米世代的第二代工藝,并于2025年進入2納米工藝,最終在2027年進入1.4納米工藝。
為了落地這個計劃,去年6月,李在镕董事長訪問了ASML總部,與首席執行官PeterBennink討論了EUV采購問題。隨后,在去年11月訪問韓國期間,他與Bennink進行了進一步的會談。考慮到EUV設備的交付周期至少需要一年(從下單到收貨),這些會議似乎確實取得了實際的成果。
事實上,就三星電子增加購買EUV光刻設備的計劃而言,半導體領域的分析師也持有積極的態度。來自祥明大學的半導體工程教授表示:“三星已引進數十臺EUV光刻設備,據稱每一臺的成本大約為2000億韓元,這表明該公司計劃擴大3納米芯片的量產,并在未來推進2納米計劃。”
在此之前,三星電子表示計劃在2025年之前擁有100臺EUV***。根據市場預測,目前三星擁有大約40臺EUV設備。如果這批50臺設備能夠按時交付,那么到2028年,三星將能夠擁有約100臺EUV設備。
荷蘭應用科學研究所(TNO)的韓國代表Byung-hoonPark解釋道:“通常情況下,半導體工藝會將每臺機器的10%用于工藝研發和測試。因此,如果有100臺機器的話,那就意味著它們可以全天候地用于研發。”他指出,通過這種方式,我們可以保證擁有足夠的工藝能力來正確使用設備。他補充道,預計這種方法可以減少工藝過程中所需的時間和成本,并提高產量。
金陽邦(KimYang-pang)是工業研究所的專家研究員,他表示:“只有在擁有大量EUV設備并穩定運行的情況下,我們才能增加生產量,并在代工方面取得進展。”
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