光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。

伴隨著晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移。

01光刻膠定義

光刻膠，也被稱為“光致抗蝕劑”，是一種用于光刻的載體介質(zhì)，它可以利用光化學(xué)反應(yīng)將光信息在光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射和過濾后轉(zhuǎn)化為化學(xué)能，從而將微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待處理的基板。

按顯影效果不同，光刻膠可分為正光刻膠和負(fù)光刻膠；按化學(xué)結(jié)構(gòu)不同可分為光聚合型、光分解型和光交聯(lián)型；按下游應(yīng)用可分為半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠、PCB光刻膠。具體如圖所示：

02光刻膠行業(yè)發(fā)展政策

近年來，光刻膠行業(yè)受到各級(jí)政府的高度重視和國家產(chǎn)業(yè)政策的重點(diǎn)支持。國家陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展，為光刻膠行業(yè)的發(fā)展提供了良好的環(huán)境。中國光刻膠行業(yè)具體政策如下：

03光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

1.市場規(guī)模

目前，我國光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈雛形初現(xiàn)，從上游原材料、中游成品制造到下游應(yīng)用均在逐步完善，且隨著下游需求的逐漸擴(kuò)大，光刻膠市場規(guī)模顯著增長。中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029全球及中國光刻膠和光刻膠輔助材料行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》顯示，我國光刻膠市場規(guī)模由2017年58.7億元增至2022年98.6億元，年均復(fù)合增長率為10.9%。中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，預(yù)計(jì)2023年我國光刻膠市場規(guī)模可達(dá)109.2億元。

2.產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

光刻膠可以分為面板光刻膠（LCD光刻膠）、PCB光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠（芯片光刻膠），其中半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)難度較高。全球光刻膠產(chǎn)品占比中，三種光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)較為均衡，相比之下，我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中PCB光刻膠占比達(dá)94%，而半導(dǎo)體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進(jìn)口，自給率較低。未來隨著光刻膠企業(yè)生產(chǎn)能力的提高，我國光刻膠生產(chǎn)結(jié)構(gòu)將會(huì)進(jìn)一步優(yōu)化。

3.競爭格局

光刻膠市場被東京應(yīng)化、杜邦、JSR、住友化學(xué)等國外巨頭所壟斷，日企在全球光刻膠市場中占據(jù)重要地位。其中，東京應(yīng)化市場份額占比最高達(dá)26%，杜邦、JSR、住友化學(xué)市場份額占比分別為17%、16%、10%。

4.企業(yè)布局情況

以上信息僅供參考，如有遺漏與不足，歡迎指正！

優(yōu)可測在光刻膠行業(yè)有諸多應(yīng)用：

白光干涉儀AM系列常用于測量光刻膠的表面粗糙度、線寬線高等；

薄膜厚度測量儀AF系列常用于測量光刻膠上的涂層厚度、鍍膜厚度等。

下面是部分檢測案例：

白光干涉儀AM系列測量光刻膠線寬、線高

薄膜厚度測量儀測量光刻膠涂層厚度