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三星與Arm攜手,運用GAA工藝技術提升下一代Cortex-X CPU性能

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-02-22 09:36 ? 次閱讀

三星電子宣告將深化其與ARM公司多年來的深入合作關系,以利用其全球最先進的Gate-All-Around(GAA)制程技術優化下一代Arm ? Cortex ? -X CPU。雙方有雄心壯志,期望革新2nm GAA制程工藝,而這項技術將專供于極具前景的數據中心及基礎設施定制芯片。此外,他們還將共同研發創新型AI芯片解決方案,極大地改變emerging AI移動計算市場。

三星繼續推進工藝技術的進步,近年來首次量產了基于2022年GAA技術的3nm MBCFET ? 。GAA技術不僅能夠大幅減小設備尺寸,降低供電電壓,增強功率效率,同時也能增強驅動電流,進而實現更高的性能表現。

借助三星最新的GAA工藝節點,AMD也對其最新的Cortex-X CPU進行了深度優化,由此實現更高的性能和效率,大大提升了用戶體驗的水平。

面對不斷提升的產品交付需求,確保在首次制造中即能夠生產出綜合功耗最小化、性能最高和面積最佳的硅片變得尤為重要。為此,設計與制造過程必須彼此融合。雙方團隊一直以來采取設計技術協同優化,以此最大化發揮下一代Cortex-X CPU設計架構和GAA工藝技術的PPA優勢。

目前,生成式AI已經成為提升用戶體驗的關鍵驅動因素。三星與ARM的此次聯手將加大在下一代GAA工藝技術基礎上優化Cortex-X CPU的執行力度,從而加速推動下一代產品性能的提升。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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