來源:Park Systems
SEMICON CHINA 2024將于3月20-3月22日在上海舉辦,連續(xù)參展的Park Systems將以“創(chuàng)新 卓越 優(yōu)質(zhì)”為主題,攜旗下的核心產(chǎn)品重磅亮相此展覽會。
公司簡介速覽
Park Systems成立于1988年, 是全球首個推出商業(yè)原子力顯微鏡產(chǎn)品的上市公司 。Park公司成立30多年來,始終致力于納米領域的形貌&力學測量和半導體先進制程工藝的計量的新技術新產(chǎn)品的開發(fā)。其納米計量系統(tǒng)(包括 AFM 和橢偏儀)被半導體、電子、材料科學、生命科學等眾多行業(yè)的研究人員和科學家廣泛使用。
Park Systems為半導體制造計量、器件失效分析以及各種工業(yè)應用提供了一系列自動化原子力顯微鏡。其產(chǎn)品組合能夠滿足半導體和顯示行業(yè)的需求,提供對納米級結構的精準控制和測量,這對于器件制造和性能提升尤為重要。Park原子力顯微鏡技術所提供的測量準確性、重復性和全面性顯著提高了制成效率,并提升了終端產(chǎn)品的質(zhì)量。
核心產(chǎn)品搶“鮮”看
Park NX-Wafer
用于半導體晶圓制程
·為FA和研究實驗室提供精準的原子力顯微鏡解決方案
·實現(xiàn)高量率的精準且高重復性的測量
·低噪聲Z探測器可精確測量原子力顯微鏡表面形貌
·使用真正非接觸模式掃描方式,實現(xiàn)樣品無損檢測
Park NX-3DM
自動化工業(yè)AFM用于高分辨率三維計量
·專為凹陷和懸垂結構的側(cè)壁分析進行了優(yōu)化
·采用創(chuàng)新設計的旋轉(zhuǎn)掃描器,實現(xiàn)精準的3D計量
·能夠在精細的光刻膠表面進行非破壞性測量
Park NX-eAFM
·通過C-AFM和EFM實現(xiàn)晶圓級電學分析
·面向納米器件的電測試解決方案和納米成像能力
·對薄膜擊穿電壓及相關特性、閾值電壓的成像
Park NX-Mask
用于半導體光掩模修復
·緊密集成到產(chǎn)線過程中,實現(xiàn)即時、無縫修復
·自動化原子力顯微鏡用于表面粗糙度和圖案步高測量
·兼容自動化雙POD系統(tǒng),用于EUV掩模處理
·綜合解決方案,用于缺陷檢測和修復后驗證
·準確、無損的機械缺陷去除
Park NX-Hybrid WLI
AFM和WLI聯(lián)用技術,Park NX-Hybrid WLI 應運而生!
·它結合了頂級的半導體計量技術:白光干涉儀(WLI)和原子力顯微鏡(AFM)
·WLI和AFM一起在范圍、分辨率和速度方面表現(xiàn)出色
·兩個物鏡可通過電動線性鏡頭更換器自動更換
Park NX-TSH
用于大型平板顯示器計量
·專為建立下一代平板顯示器生產(chǎn)工廠的制造商而開發(fā)
·為OLED、LCD和光掩模提供可靠且高分辨率的AFM圖像
·克服了樣品尺寸和重量的限制
售后服務優(yōu)質(zhì)暖心
和客戶對接中,工程師能積極參與工廠的生產(chǎn)規(guī)劃環(huán)節(jié),再根據(jù)中國市場情況,去工廠對客戶的設備需求進行出廠檢查以及調(diào)試。如有需要,我們的工程師還會陪同客戶去工廠對設備進行預驗收。
當問題出現(xiàn)時,客戶可以通過電話、微信、網(wǎng)絡留言等多種方式聯(lián)系到我們。如果條件允許,我們不僅可以進行視頻協(xié)助,甚至可以派遣就近人員上門處理。在中國,我們的備件倉庫可以實現(xiàn)80%以上的本土維修。
在Park Systems,我們致力于向全球客戶提供高水準的服務質(zhì)量,并提供全面的技術支持,幫助客戶實現(xiàn)他們的目標。我們的專業(yè)技術團隊隨時提供Park原子力顯微鏡安裝、操作等相關方面的幫助。我們承諾及時、有效地解決客戶的相關疑問。
審核編輯 黃宇
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