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為什么半導(dǎo)體無(wú)塵室有黃光區(qū)

半導(dǎo)體封裝工程師之家 ? 來(lái)源:半導(dǎo)體封裝工程師之家 ? 作者:半導(dǎo)體封裝工程師 ? 2024-03-27 08:38 ? 次閱讀

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什么是光刻?

光刻是集成電路IC芯片)生產(chǎn)中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單地說(shuō),就是利用光掩模和光刻膠在基板上復(fù)制電路圖案的過(guò)程。

硅片上涂有二氧化硅絕緣層和光刻膠。光刻膠在紫外光照射下很容易被顯影劑溶解,經(jīng)過(guò)溶解和蝕刻后,電路圖案就會(huì)留在基板上。

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什么是光刻膠?為什么500nm紫外線波長(zhǎng)必須被阻擋?

光刻膠與樹(shù)脂、溶劑和添加劑結(jié)合在一起。光刻膠的感光范圍為200nm-500nm。因此,許多半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室會(huì)采用黃光來(lái)阻擋500nm紫外波長(zhǎng),以防止光刻膠曝光過(guò)度或過(guò)早曝光的情況。

為什么用黃光?

因?yàn)辄S光的波長(zhǎng)較長(zhǎng), 難以使得光刻膠曝光, 因此將黃光作光刻區(qū)域的照明光源。

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審核編輯 黃宇

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