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國內(nèi)外塑封器件聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)現(xiàn)狀及問題

半導(dǎo)體封裝工程師之家 ? 來源: 趙海龍,裴選,彭浩,宋玉璽 ? 作者: 趙海龍,裴選,彭浩 ? 2024-05-20 15:59 ? 次閱讀
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作者: 趙海龍,裴選,彭浩,宋玉璽(中國電子科技集團(tuán)公司第十三研究所) 在此特別鳴謝!

摘要:

由于結(jié)構(gòu)和材料等因素影響,塑封器件中存在一些潛在的缺陷。聲學(xué)掃描顯微鏡檢查是一種無損檢測(cè)技術(shù),能有效識(shí)別和剔除有潛在缺陷的器件,降低使用風(fēng)險(xiǎn)。該文研究了國內(nèi)外主要的3 類聲學(xué)掃描顯微鏡檢查標(biāo)準(zhǔn),重點(diǎn)研究了國內(nèi)最常用的GJB 4027A- 2006 和正在編制的GB/T 4937.35- XXXX,指出了其中存在的問題。

0 引言

塑料封裝作為主要的電子封裝形式之一,近年來隨著芯片設(shè)計(jì)業(yè)、制造業(yè)和封裝業(yè)的發(fā)展得到了快速發(fā)展。同時(shí),因塑封料成本低、生產(chǎn)工藝簡單、適合大規(guī)模生產(chǎn)等優(yōu)勢(shì),塑料封裝占據(jù)了整個(gè)微電子封裝97%以上的市場(chǎng)。

但是塑封微電路器件(Plastic EncapsulatedMicrocircuits,PEM)結(jié)構(gòu)和材料特殊,常存在一些潛在缺陷,如氣密性不良、易受溫度開裂變形等,塑封器件的結(jié)構(gòu)和缺陷形式如圖1 所示。為了提高塑封器件可靠性,降低使用風(fēng)險(xiǎn),使用前需要對(duì)其進(jìn)行篩選、鑒定和DPA等試驗(yàn)。

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聲學(xué)掃描顯微鏡檢查技術(shù)(Scanning AcousticMicroscope,SAM, 簡稱聲掃)是一種非破壞性的試驗(yàn)方法,能夠有效檢測(cè)塑封器件內(nèi)部缺陷而不損壞器件,如器件內(nèi)部空洞、裂紋及各部件之間的離層等。由于聲掃試驗(yàn)可以獲得其他試驗(yàn)手段不能獲得的信息而被廣泛使用,但目前國內(nèi)外的聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)較少,給聲掃試驗(yàn)人員造成了一定的困難。本文對(duì)常用的聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了研究,指出了其中存在的問題。

1 塑封器件SAM 標(biāo)準(zhǔn)概述

目前國內(nèi)常用的聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)主要有GJB 4027A-2006《軍用電子元器件破壞性物理分析方法》和GJB548B-2005《微電子器件試驗(yàn)方法和程序》,本單位正在編制GB/T4937.35- XXXX《半導(dǎo)體器件機(jī)械和氣候試驗(yàn)方法第35 部分:塑封電子元器件的聲學(xué)掃描顯微鏡檢查》。國外常用的聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)主要有美國NASA 標(biāo)準(zhǔn)PEM- INST- 001: Instructions forPlastic Encapsulated Microcircuit(PEM)Selection, Screening, and Qualification、美國國防部標(biāo)準(zhǔn)MIL- STD883E:Microcircuits Test Method Standard、國際電工技術(shù)委員會(huì)國際標(biāo)準(zhǔn)IEC60749- 35:Semiconductordevices- Acoustic microscopy for plasticencapsulated electric components 和美國聯(lián)合產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)IPC/JEDECJ-STD-035:AcousticMicroscopy for Nonhermetic Encapsulated Electronic Components。國內(nèi)外塑封器件SAM標(biāo)準(zhǔn)對(duì)照表如表1 所示。

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GJB 4027A- 2006 中塑封集成電路聲學(xué)掃描顯微鏡檢查部分是2006 年修訂時(shí)新增加的,是目前國內(nèi)進(jìn)行聲掃試驗(yàn)依據(jù)的主要標(biāo)準(zhǔn)。其內(nèi)容與PEM-INST- 001 相對(duì)應(yīng),在其基礎(chǔ)上進(jìn)行了修改完善。

GJB 548B- 2005 方法2030是芯片粘接的超聲檢測(cè),主要對(duì)半導(dǎo)體器件芯片粘接材料中的未粘附區(qū)域和空洞提供接收或拒收依據(jù),其內(nèi)容與MIL-STD 883E 相對(duì)應(yīng)。

GB/T 4937.35- XXXX 是目前本單位正在編制的國家標(biāo)準(zhǔn),其內(nèi)容等同采用IEC 60749- 35。此外IPC/JEDEC J- STD- 035 與IEC 60749- 35 內(nèi)容基本一致。

2 GJB 4027A- 2006

本標(biāo)準(zhǔn)工作項(xiàng)目1103 規(guī)定了塑封半導(dǎo)體集成電路的DPA 項(xiàng)目和程序,其中第二章第四條為聲學(xué)掃描顯微鏡檢查,內(nèi)容包括概述、設(shè)備和材料、檢查項(xiàng)目和缺陷判據(jù)。

2.1 檢查項(xiàng)目

將每一只樣品分6 個(gè)區(qū)域進(jìn)行迭層分離,檢查下列包封區(qū)域的空洞和裂紋:

(1)芯片和模塑化合物的界面;

(2)引線架和模塑化合物的界面(頂視圖);

(3)引線引出端焊板邊緣和模塑化合物的界面(頂視圖);

(4)芯片與引線引出端焊板的粘接界面(如果存在)。這可以使用直通傳輸掃描評(píng)估;

(5)引線引出端焊板與模塑化合物的分界面(后視圖);

(6)引線架和模塑化合物的分界面(后視圖)。

對(duì)于安裝在基片上或熱沉上的芯片,芯片粘接檢查應(yīng)按照GJB548A- 1996 方法2030(芯片粘接的超聲檢查)規(guī)定進(jìn)行[1]。

2.2 缺陷判據(jù)

檢查器件時(shí),呈現(xiàn)任何下列缺陷的器件應(yīng)拒收:

(1)塑封鍵合絲上的裂紋;

(2)從引線腳延伸至任一其他內(nèi)部部件(引腳,芯片,芯片粘接側(cè)翼)的內(nèi)部裂紋,其長度超過相應(yīng)間距的1/2;

(3)導(dǎo)致表面破碎的包封上的任何裂紋;

(4)跨越鍵合絲的模塑化合物的任何空洞;

(5)塑封和芯片之間任何可測(cè)量的分層;

(6)引線引出端焊板與塑封間界面上,分層面積超過其后側(cè)區(qū)域面積的1/2;

(7)引腳從塑封完全剝離(上側(cè)或后側(cè));

(8)包括鍵合絲區(qū)域的引腳分層;

(9)連筋頂部分層超過其長度的1/2;

(10)如果不能確認(rèn)內(nèi)部裂紋或疊層分離是否應(yīng)拒收,則需要將樣品剖切并拋光進(jìn)行驗(yàn)證[1]。

2.3 存在的問題

本標(biāo)準(zhǔn)是目前對(duì)塑封器件進(jìn)行DPA、篩選試驗(yàn)聲學(xué)掃描顯微鏡檢查所依據(jù)的主要標(biāo)準(zhǔn)。但在使用時(shí)發(fā)現(xiàn)本標(biāo)準(zhǔn)存在很多問題,對(duì)試驗(yàn)人員造成了一定的困擾,主要問題如下:

(1)檢查項(xiàng)目與缺陷判據(jù)不能一一對(duì)應(yīng),如檢查項(xiàng)目第1 條“芯片和模塑化合物的界面”對(duì)應(yīng)的缺陷判據(jù)為第5 條“塑封和芯片之間任何可測(cè)量的分層”;

(2)檢查項(xiàng)目中的6 個(gè)區(qū)域不能完全覆蓋10 個(gè)缺陷判據(jù)中涉及的缺陷形式,如沒有檢查項(xiàng)目與缺陷判據(jù)第1~4 條中提到的裂紋和空洞相匹配;

(3)檢查項(xiàng)目和缺陷判據(jù)中部分描述不夠準(zhǔn)確,如“引線引出端焊板”、“連筋頂部”等指向容易讓人誤解,龍承武等人認(rèn)為將檢查項(xiàng)目中“后視圖”改為“底視圖”、“直通傳輸掃描”改為“透射掃描”、缺陷判據(jù)中“后側(cè)”改為“下側(cè)”更為妥當(dāng)[2];

(4)檢查項(xiàng)目和缺陷判據(jù)的描述過于籠統(tǒng),不同試驗(yàn)人員在使用時(shí)容易造成偏差。

3 GJB 548B- 2005

3.1 標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容

本標(biāo)準(zhǔn)方法2030 是芯片粘接的超聲檢測(cè),針對(duì)的是半導(dǎo)體器件芯片粘接材料中的未粘附區(qū)域和空洞。本標(biāo)準(zhǔn)中“芯片粘接界面”指硅芯片和粘接的基板之間的全部區(qū)域,包括芯片粘接材料和芯片之間的界面、芯片粘接材料和基板之間的界面和芯片粘接材料本身[3]。標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容包括試驗(yàn)?zāi)康摹⒃囼?yàn)設(shè)備要求、試驗(yàn)程序和其他說明。

3.2 檢驗(yàn)和接收判據(jù)

在器件檢驗(yàn)中,表現(xiàn)出下列缺陷的器件應(yīng)被拒收:

(1)接觸區(qū)多個(gè)空洞總和超過應(yīng)該具有的總接觸區(qū)的50%;

(2)超過預(yù)計(jì)接觸區(qū)15%的單個(gè)空洞,或超過總預(yù)計(jì)接觸區(qū)10%的單個(gè)拐角空洞;

(3)當(dāng)用平分兩對(duì)邊方法把圖像分成四個(gè)面積相等的象限時(shí),任一象限中的空洞超過了該象限預(yù)計(jì)的接觸區(qū)面積的70%。

當(dāng)用超聲圖示器件時(shí),對(duì)某些種類的安裝材料可能不會(huì)顯示出真正的空洞,因此檢測(cè)此類器件時(shí),應(yīng)在檢測(cè)報(bào)告中注明采用的安裝材料[3]。

3.3 存在的問題

本標(biāo)準(zhǔn)僅用于芯片粘接界面的聲掃檢查,適用面較窄。

4 GB/ T 4937.35- XXXX

4.1 標(biāo)準(zhǔn)編制情況

本標(biāo)準(zhǔn)是2016 年第一批國家標(biāo)準(zhǔn)計(jì)劃項(xiàng)目,標(biāo)準(zhǔn)名稱為《半導(dǎo)體器件機(jī)械和氣候試驗(yàn)方法第35 部分:塑封電子元器件的聲學(xué)顯微鏡檢查》,計(jì)劃代號(hào)為20162477- T- 339,由中華人民共和國工業(yè)和信息化部提出,全國半導(dǎo)體器件標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 78)歸口,主要承辦單位為中國電子科技集團(tuán)公司第十三研究所,項(xiàng)目起止時(shí)間為2016 年12 月~2017 年12 月。

目前本標(biāo)準(zhǔn)已完成立項(xiàng)批復(fù),編制工作組對(duì)等同采用的IEC 標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了翻譯、研究、分析和比較,到國內(nèi)具有聲學(xué)掃描顯微鏡檢查試驗(yàn)?zāi)芰Φ膯挝婚_展了深入調(diào)研。通過召開討論會(huì),修改、完善標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容,形成了標(biāo)準(zhǔn)的征求意見稿,并編寫了編制說明。編制工作組將形成的征求意見稿及編制說明寄送給有經(jīng)驗(yàn)的專家,下一步將根據(jù)書面反饋修改意見對(duì)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行進(jìn)一步修改、完善,并召開專家征求意見會(huì)。征求意見會(huì)之后將形成送審稿依次進(jìn)入審定階段和報(bào)批階段。

4.2 標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容

本標(biāo)準(zhǔn)為半導(dǎo)體器件機(jī)械和氣候試驗(yàn)方法,屬于基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)[4]。為保證半導(dǎo)體器件試驗(yàn)方法與國際標(biāo)準(zhǔn)一致,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體器件檢驗(yàn)方法、可靠性評(píng)價(jià)、質(zhì)量水平與國際接軌,本標(biāo)準(zhǔn)等同采用IEC 60749- 35:2006《半導(dǎo)體器件機(jī)械和氣候試驗(yàn)方法第35 部分:塑封電子元器件的聲學(xué)顯微鏡檢查》。與IPC/JEDEC J- STD-035 相比,聲掃觀察區(qū)域增加了倒裝焊器件頂層未填充/ 模子內(nèi)區(qū)域界面,其余內(nèi)容基本一致。

本標(biāo)準(zhǔn)定義了塑封電子元器件進(jìn)行聲學(xué)掃描顯微鏡檢查的程序,提供了一種使用聲學(xué)掃描顯微鏡對(duì)塑料封裝進(jìn)行缺陷(分層、裂紋、模塑化合物空洞等)檢測(cè)的方法,這種方法可重復(fù)進(jìn)行并且沒有破壞性。主要內(nèi)容包括范圍、術(shù)語和定義、試驗(yàn)設(shè)備、試驗(yàn)程序和資料性附錄部分。

本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)給出了聲掃試驗(yàn)所涉及的術(shù)語和定義,包括掃描模式(A 模式、B 模式、C 模式、透射模式)、觀察區(qū)(基板背面觀察區(qū)、芯片粘接層觀察區(qū)、芯片表面觀察區(qū)、引線框架觀察區(qū)(L/F)、芯片側(cè)基板觀察區(qū)、倒裝焊器件頂層未填充/ 模子內(nèi)區(qū)域)、掃描參數(shù)(焦距(FL)、焦面、傳輸時(shí)間(TOF))和兩種聲學(xué)顯微鏡(反射聲學(xué)顯微鏡、透射聲學(xué)顯微鏡)。

試驗(yàn)設(shè)備部分列出了反射聲學(xué)顯微鏡系統(tǒng)和透射聲學(xué)顯微鏡系統(tǒng)的組成部分、參考件或標(biāo)準(zhǔn)件要求和樣品固定裝置要求。

試驗(yàn)程序部分包括換能器選擇、設(shè)置確認(rèn)、樣品放置、換能器調(diào)整、聚焦和聲掃試驗(yàn),其中聲掃試驗(yàn)包括異物檢查、潛在圖像缺陷、評(píng)價(jià)和記錄。

附錄A 是一個(gè)聲掃參考樣例,列出了所有需要檢查的界面及詳細(xì)記錄試驗(yàn)結(jié)果的參考模板,附錄B 給出了潛在圖像缺陷和可能的原因,附錄C 給出了聲學(xué)顯微鏡方法的一些局限及解釋,附錄D 是當(dāng)前可用的掃描數(shù)據(jù)參考清單。附錄對(duì)于試驗(yàn)操作人員解決試驗(yàn)中遇到的實(shí)際問題有很大的指導(dǎo)意義。

4.3 存在的問題

本標(biāo)準(zhǔn)的側(cè)重點(diǎn)在于術(shù)語和定義、試驗(yàn)程序以及對(duì)聲掃圖像中的異常現(xiàn)象和聲學(xué)掃描顯微鏡的局限進(jìn)行解釋,試驗(yàn)程序評(píng)價(jià)部分缺少失效判據(jù),需要用相關(guān)規(guī)范詳述的失效標(biāo)準(zhǔn)評(píng)價(jià)聲學(xué)圖像。因此,在使用本標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行聲學(xué)掃描顯微鏡檢查時(shí)要與其他標(biāo)準(zhǔn)或規(guī)范結(jié)合使用。

5 結(jié)論

綜上所述,目前國內(nèi)外塑封器件的聲掃試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)主要有3 類,各有優(yōu)缺點(diǎn)。GJB 4027A- 2006 和PEM- INST-001 有明確的檢查項(xiàng)目和缺陷判據(jù),但標(biāo)準(zhǔn)描述過于簡單,不利于試驗(yàn)人員使用。GJB 548B- 2005 和MIL-STD883E 僅針對(duì)芯片粘接界面,適用范圍較窄。GB/T4937.35- XXXX(制定中)和IEC 60749- 35(或IPC/JEDECJ- STD- 035)有詳細(xì)的試驗(yàn)程序說明,但缺少失效判據(jù)部分。因此,建議在進(jìn)行聲學(xué)掃描顯微鏡檢查時(shí)幾類標(biāo)準(zhǔn)結(jié)合使用,下一步需要繼續(xù)完善聲掃標(biāo)準(zhǔn)體系。

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本報(bào)告將自動(dòng)駕駛領(lǐng)域最為關(guān)鍵的傳感器——激光雷達(dá)作為中心,通過調(diào)研其所扮演重要角色的領(lǐng)域——自動(dòng)駕駛,以及自動(dòng)駕駛和激光雷達(dá)的國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀,深入了解激光雷達(dá)的技術(shù)背景。
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國內(nèi)外銅線鍵合拉力試驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn)對(duì)比分析

歡迎了解 張秋?閆美存 中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院 摘要: 為滿足銅線鍵合拉力試驗(yàn)需求,從拉力施加位置、失效模式分類、最小拉力值以及試驗(yàn)結(jié)果的應(yīng)用等4 個(gè)方面對(duì)國內(nèi)外銅線鍵合拉力
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<b class='flag-5'>國內(nèi)外</b>銅線鍵合拉力<b class='flag-5'>試驗(yàn)</b>方法<b class='flag-5'>標(biāo)準(zhǔn)</b>對(duì)比分析

STM32國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀

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