MIT研究院用銦鎵砷化合物造出史上最小晶體管
MIT的微系統(tǒng)實驗室（Microsystems Technology Laboratories）聲稱已經造出了史上最小的晶體管，用的卻是硅以外的材料。該晶體管由已經應用于光纖和雷達技術上的銦鎵砷化物（indium gallium arsenide，IGA）制造，厚度僅有22nm（約9股人類DNA）。因為這是在微處理器里使用的相同類型的晶體管，這意味著芯片可以更加密集、提供更高的性能。
研究人員希望找到一個替代硅的材料，在更小的尺度上實現更高的速度和效率，以迫近摩爾定律所預測的進程。合作開發(fā)人員和麻省理工學院的教授Jesus del Alamo稱，這方面的發(fā)展“將確保摩爾定律達到硅片所不能達到的程度”（take Moore‘s Law beyond the reach of silicon）。
MIT News的報道稱，研究人員下一步將提高晶體管的電氣性能和整體速度。若小組成功達到了這個目標，他們將繼續(xù)朝著小于10nm的目標前進。
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