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三星公布最新工藝路線圖

半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 來源:半導(dǎo)體芯科技SiSC ? 作者:半導(dǎo)體芯科技SiS ? 2024-06-17 15:33 ? 次閱讀

來源:綜合報(bào)道

近日,三星電子在加州圣何塞的設(shè)備解決方案美國(guó)總部舉辦三星晶圓代工論壇(Samsung Foundry Forum, SFF),公布了其最新代工技術(shù)路線圖和成果。

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以下是主要亮點(diǎn):

1. **新節(jié)點(diǎn)和技術(shù)進(jìn)展**:三星宣布了兩個(gè)新的尖端節(jié)點(diǎn)——SF2Z 和 SF4U。SF2Z 是一種2nm工藝,采用背面電源輸送網(wǎng)絡(luò)(BSPDN)技術(shù),這種技術(shù)將電源軌置于晶圓背面,以提高功率、性能和面積(PPA),并降低電壓降(IR降),主要面向高性能計(jì)算和人工智能應(yīng)用。SF4U 則是4nm工藝的變體,通過結(jié)合光學(xué)縮小技術(shù)來提供PPA改進(jìn)。

2. **超越臺(tái)積電**:三星計(jì)劃在2025年推出SF2節(jié)點(diǎn)(原稱為SF3P),這是一種2納米級(jí)工藝技術(shù),主要針對(duì)高性能計(jì)算和智能手機(jī)應(yīng)用。這使三星在2nm級(jí)節(jié)點(diǎn)上正式領(lǐng)先于臺(tái)積電,后者計(jì)劃在2025年底開始采用N2工藝制造芯片

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3. **GAA工藝的成熟與應(yīng)用**:三星強(qiáng)調(diào)了其全環(huán)繞柵極(GAA)工藝技術(shù)的成熟度,已進(jìn)入量產(chǎn)的第三年。公司計(jì)劃在今年下半年量產(chǎn)第二代3nm工藝(SF3),并計(jì)劃在即將推出的2nm工藝上采用GAA。三星表示,其GAA產(chǎn)量自2022年以來穩(wěn)步增長(zhǎng),并有望在未來幾年大幅增長(zhǎng)。

4. **AI解決方案平臺(tái)**:三星還發(fā)布了AI Solution人工智能平臺(tái),針對(duì)特定客戶的AI需求提供高性能、低功耗、高帶寬的解決方案,并計(jì)劃在2027年推出集成CPO的一站式AI解決方案。

5. **市場(chǎng)和業(yè)務(wù)增長(zhǎng)**:在過去一年中,三星代工的AI銷售額增長(zhǎng)了80%,顯示了其在市場(chǎng)上滿足不斷變化的需求的能力。

這些進(jìn)展表明三星在芯片制造技術(shù)方面的創(chuàng)新和競(jìng)爭(zhēng)能力,特別是在高性能計(jì)算和人工智能領(lǐng)域。三星的這些舉措旨在鞏固其在半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先地位,并在未來幾年與主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電展開更激烈的競(jìng)爭(zhēng)。

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審核編輯 黃宇


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