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雙極型工藝制程技術(shù)簡(jiǎn)介

Semi Connect ? 來(lái)源:Semi Connect ? 2024-07-17 10:09 ? 次閱讀

本章主要介紹了集成電路是如何從雙極型工藝技術(shù)一步一步發(fā)展到CMOS 工藝技術(shù)以及為了適應(yīng)不斷變化的應(yīng)用需求發(fā)展出特色工藝技術(shù)的。

首先從雙極型工藝技術(shù)發(fā)展到 PMOS 工藝技術(shù),再到 NMOS 工藝技術(shù),但是無(wú)論是雙極型工藝技術(shù)和 NMOS 工藝技術(shù)都遇到了功耗問(wèn)題,最后引出低功耗的CMOS 工藝技術(shù),CMOS 工藝技術(shù)是目前工藝技術(shù)的主流。但是CMOS工藝技術(shù)沒(méi)有辦法滿足不斷變化的應(yīng)用需求,所以發(fā)展出如 BiCOMS、BCD 和HV-CMOS 等特色工藝技術(shù)。

另外還介紹了 MOS集成電路的發(fā)展歷史,以及 MOS 晶體管的發(fā)展和面臨的挑戰(zhàn),也就是MOS晶體管按比例縮小的過(guò)程中遇到的問(wèn)題和出現(xiàn)的新技術(shù),為引出先進(jìn)工藝技術(shù)打下基礎(chǔ)。

雙極型工藝制程技術(shù)是最早出現(xiàn)的集成電路工藝制程技術(shù),也是最早應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)的集成電路工藝制程技術(shù)。隨著微電子工藝制程技術(shù)的不斷發(fā)展,工藝制程技術(shù)日趨先進(jìn),其后又出現(xiàn)了 PMOS、NMOS、CMOS、BiCMOS 和BCD等工藝制程技術(shù)。

1947年,第一只點(diǎn)接觸晶體管在貝爾實(shí)驗(yàn)室誕生,它的發(fā)明者是 Bardeen、Shockley 和Brattain。1949年,貝爾實(shí)驗(yàn)室的 Shockley 提出pn 結(jié)和雙極型晶體管理論。1951年貝爾實(shí)驗(yàn)室制造出第一只鍺雙極型晶體管,1956年德州儀器制造出第一只硅雙極型晶體管,1970年硅平面工藝制程技術(shù)成熟,雙極型晶體管開(kāi)始大批量生產(chǎn)。

雙極型工藝制程技術(shù)大致可以分為兩大類:一類是需要在器件之間制備電隔離區(qū)的雙極型工藝制程技術(shù),采用的隔離技術(shù)主要有pn 結(jié)隔離、全介質(zhì)隔離以及 pn結(jié)-介質(zhì)混合隔離等。采用這種工藝制程技術(shù)的雙極型集成電路,如 TTL(Transistor Transistor Logic,晶體管-晶體管邏輯)電路、線性/ECL(Emitter Couple Logic,射極耦合邏輯)電路和 STTL(Schot-tky Transistor Transistor Logic,肖特基晶體管-晶體管邏輯)電路等;另一類是器件之間自然隔離的雙極型工藝制程技術(shù),I2L(Integrated Injection Logic,集成注入邏輯)電路采用了這種工藝制程技術(shù)。圖1-1所示的是屬于第一類采用pn結(jié)隔離技術(shù)的雙極型工藝集成電路的剖面圖,VNPN 是縱向 NPN (Vertical NPN),LPNP 是橫向 PNP (Lateral PNP),n +是n 型重?fù)诫s擴(kuò)散區(qū),P+是P型重?fù)诫s擴(kuò)散區(qū),P-Base 是p型基區(qū),PW (P-WELL)是p型阱,NW(N-WELL)是深n型阱,NBL(N type Buried Layer)是n型埋層,P-sub(P-substrate)是P型襯底,N-EPI(N-Epitaxial)是n 型外延層。

由于雙極型工藝制程技術(shù)制造流程簡(jiǎn)單,制造成本低和成品率高,另外在電路性能方面它具有高速度、高跨導(dǎo)、低噪聲、高模擬精度和強(qiáng)電流驅(qū)動(dòng)能力等方面的優(yōu)勢(shì),它一直受到設(shè)計(jì)人員的青睞。雙極型晶體管是電流控制器件,而且是兩種載流子(電子和空穴)同時(shí)起作用,它通常用于電流放大型電路、功率放大型電路和高速電路。它一直在高速電路、模擬電路和功率電路中占主導(dǎo)地位,但是它的缺點(diǎn)是集成度低和功耗大,其縱向(結(jié)深)尺寸無(wú)法跟隨橫向尺寸成比例縮小,所以在VL-SI(超大規(guī)模集成電路)中受到很大限制。在20世紀(jì)60年代之前集成電路基本是雙極型工藝集成電路,雙極型工藝集成電路也是史上最早發(fā)明的具有放大功能的集成電路,直到20世紀(jì)70年代 NMOS 和CMOS 工藝集成電路開(kāi)始在邏輯運(yùn)算領(lǐng)域逐步取代雙極型工藝集成電路的統(tǒng)治地位,但是在模擬器件和大功率器件等領(lǐng)域雙極型集成電路依然占據(jù)重要的地位。

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原文標(biāo)題:雙極型工藝制程技術(shù)簡(jiǎn)介

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