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三星Exynos 2500芯片中可能使用的硅電容是什么

芯查查 ? 來源:芯查查 ? 作者:芯查查 ? 2024-07-17 16:11 ? 次閱讀

最近,市場傳言三星可能會在Exynos2500處理器內(nèi)部使用硅電容。硅電容使用了半導(dǎo)體的制造工藝,利用硅材質(zhì)制作而成。它跟普通電容類似,也是上下都是極板,中間是介電層,不同點(diǎn)是介電層使用的是硅材料。

(文/程文智)根據(jù)書本上的定義,兩個相互靠近的導(dǎo)體,中間夾一層不導(dǎo)電的絕緣介質(zhì),就構(gòu)成了一個電容。當(dāng)兩個極板之間加上電壓時,電容就會儲存電荷。

按制造材料的不同可以分為,瓷介電容、滌綸電容、電解電容鉭電容,聚丙烯電容等等。其實還有一種基于半導(dǎo)體制造工藝的硅電容。最近,市場傳言三星可能會在Exynos2500處理器內(nèi)部使用硅電容。值得注意的是,Exynos2500處理器有望裝備在三星明年的旗艦產(chǎn)品Galaxy S25系列當(dāng)中。據(jù)Bloter的最新報道顯示,三星正在努力開發(fā)這款芯片

據(jù)稱,三星正在為Exynos2500開發(fā)硅電容,此類電容很可能會用于Galaxy S25、Galaxy S25 Plus,甚至是Galaxy S25 Ultra。其實,除了三星,村田很早之前就已經(jīng)開發(fā)出了硅電容產(chǎn)品。在2021年的Elexcon國際電子展上,小編就曾見村田展示了他們的硅電容產(chǎn)品。

據(jù)當(dāng)時村田展臺的工作人員介紹,村田的硅電容使用了半導(dǎo)體的制造工藝,利用硅材質(zhì)制作而成。它跟普通電容類似,也是上下都是極板,中間是介電層,不同點(diǎn)是介電層使用的是硅材料。

村田的高密度硅電容通過應(yīng)用半導(dǎo)體的MOS工藝,實現(xiàn)了三維化,大幅增加了電容的表面積,從而提高了基板單位面積的靜電容量。具體來說,使用的是干法蝕刻技術(shù)的BOSCH工藝。BOSCH工藝是硅加工特有的技術(shù),它可以讓通過SF6氣體進(jìn)行蝕刻和通過C4F8形成保護(hù)膜高速重復(fù),從而實現(xiàn)高縱橫比蝕刻。

另據(jù)村田官網(wǎng)介紹,在硅的單晶基板上形成的3D結(jié)構(gòu)上形成單個MIM和多個MIM結(jié)構(gòu)(MIM結(jié)構(gòu)是金屬/電介質(zhì)/金屬的多層結(jié)構(gòu))。

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MLCC等其他電容相比,硅電容有哪些好處呢?

首先,因為使用的是硅材料,而硅的穩(wěn)定性能比較好,因此,硅電容也相應(yīng)具有出色的高頻特性和溫度特性、極低的偏置特性、很高的可靠性,以及低背化等特性。

還有一個優(yōu)勢是,硅電容可以做得更小更薄,標(biāo)準(zhǔn)化的硅電容可以做到100微米,定制化的可以做到40~50微米。

當(dāng)然,值得注意的是硅電容是沒有極性的。

在應(yīng)用場景方面,由于硅電容的高可靠性、高頻特性及可定制性,它可用于醫(yī)療、光通信、基站和車載市場。此次,三星則是計劃將硅電容應(yīng)用于智能手機(jī)領(lǐng)域,看來硅電容又多了一個應(yīng)用場景。

審核編輯 黃宇

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