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晶合集成成功生產(chǎn)首片半導(dǎo)體光刻掩模版,計劃2024年Q4量產(chǎn)

CHANBAEK ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-07-23 16:48 ? 次閱讀
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近日,國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造企業(yè)晶合集成宣布了一項重大技術(shù)突破,公司成功生產(chǎn)出首片半導(dǎo)體光刻掩模版,標志著其在高端半導(dǎo)體制造領(lǐng)域邁出了堅實的一步。據(jù)公司官方公告,這一里程碑式的成果預(yù)示著晶合集成即將開啟大規(guī)模量產(chǎn)的新篇章,預(yù)計將于2024年第四季度正式投入生產(chǎn)。

此次量產(chǎn)計劃,晶合集成將聚焦于提供覆蓋28nm至150nm制程的光刻掩模版服務(wù)。這一服務(wù)范圍不僅涵蓋了光刻掩模版的設(shè)計、制造,還延伸到了后續(xù)的測試及認證等關(guān)鍵環(huán)節(jié),形成了完整的服務(wù)鏈條,為客戶提供了一站式的解決方案。隨著量產(chǎn)的推進,晶合集成有信心在未來實現(xiàn)年產(chǎn)量高達4萬片的產(chǎn)能目標,充分滿足市場對高質(zhì)量光刻掩模版的需求。

光刻掩模版作為半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵部件,其質(zhì)量和性能直接影響到芯片的最終成品率和性能。晶合集成此次成功生產(chǎn)出首片光刻掩模版,不僅展現(xiàn)了公司在技術(shù)研發(fā)和工藝控制方面的深厚實力,也為公司進一步拓展市場份額、提升行業(yè)地位奠定了堅實的基礎(chǔ)。展望未來,隨著5G物聯(lián)網(wǎng)人工智能等新興技術(shù)的快速發(fā)展,半導(dǎo)體市場需求將持續(xù)增長,晶合集成有望憑借其強大的技術(shù)實力和產(chǎn)能優(yōu)勢,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域迎來更加廣闊的發(fā)展空間。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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