光刻機被稱為“半導體行業的璀璨明珠”，融合了光學、流體力學、表面物理與化學、精密儀器、軟件和圖像等多個領域的尖端技術，其構造由十幾萬個部件組成。全球有超過5000家領先企業提供相關設備，包括來自德國的光學儀器以及美國的照明系統和計量設備，涉及數千項專利技術。

據工信微報發文，此次指導目錄是為促進首臺（套）重大技術裝備創新發展和推廣應用，加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。

對于我國的半導體行業來說，能夠實現28nm工藝的國產化，已經是非常重要的進步了。28nm芯片廣泛應用于智能家電、汽車電子、物聯網設備等領域，因此其市場需求依然很大。如果我們的65nm光刻機能夠成功量產28nm芯片，不僅能降低對外依賴，還能提升國內芯片的整體供應能力。

根據工信部發布的信息，這次國產光刻機分為兩款：一款是氟化氪光刻機，另一款是氟化氬光刻機。我們這里討論的焦點，就是那款氟化氬光刻機。光刻機的工作原理是通過特定波長的光線，把設計好的芯片電路圖形印刻在硅片上。波長越短，能刻出的電路圖形就越細，最終也就能制造出工藝更精細的芯片。

具體來看，氟化氪光刻機晶圓直徑為300mm（12英寸）；照明波長為248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。

相比之下，阿斯麥（ASML）的氟化氪光刻機型號有TWINSCANNXT：870、TWINSCANXT：860N和TWINSCANXT：860M。這三個型號，波長均為248mm；分辨率≤110nm。

而指導目錄中更為先進的氟化氬光刻機，其照明波長為193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。

這一數據與ASML旗下TWINSCANXT：1460K最為接近。該型號照明波長為193mm，分辨率≤65nm。此外，該系統可以在偏振照明下實現低至57nm的生產分辨率。

光刻機的精密制造過程對環境條件有著極為苛刻的要求，任何微小的塵埃或污染物都可能對芯片的質量造成嚴重影響。因此，一個高度潔凈、穩定的工作環境是光刻機正常運作和高效產出的前提。廣州澳企憑借其深厚的研發實力和行業經驗，研發出了實驗室凈化機，為光刻機等高端電子設備的研發與生產提供了堅實的保障。

半導體實驗室環境可以保證室內恒溫恒濕以及其他相關條件的穩定性，但是在半導體生產過程中，其產生的危廢氣體是室內通風系統無法及時處理的盲區部分，因此大多數的實驗室都會采用循環通風系統及小范圍凈化兩部分組成。實驗室凈化機不僅采用了先進的過濾技術和密封設計，能夠有效去除空氣中的塵埃、微粒、有害氣體等污染物，將實驗室的潔凈度提升至百級甚至更高標準，還配備了智能控制系統，能夠實時監測并調節室內溫濕度、氣流速度等環境參數，確保光刻機工作在最佳狀態。此外，其高效節能、低噪音的特點也贏得了業界的廣泛贊譽。

結合此次工信部發布的《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》中提到的氟化氪光刻機和氟化氬光刻機，廣州澳企的實驗室凈化機更是成為了這些高端設備不可或缺的配套設施。特別是針對氟化氬光刻機，其193mm的照明波長和≤65nm的分辨率要求極高的環境潔凈度，廣州澳企的凈化機能夠完美滿足這一需求，為光刻機提供了一個近乎無塵的工作環境，助力生產出更高質量的芯片。

光刻機與實驗室凈化機作為半導體制造過程中的關鍵設備，各自承擔著不可替代的角色。光刻機以其高精度和穩定性確保了芯片制造的質量與效率；而實驗室凈化機則以其高效的過濾和智能的環境控制為光刻機提供了堅實的保障。兩者相輔相成，共同推動著中國半導體行業的蓬勃發展。

審核編輯 黃宇