聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
封裝
+關注
關注
126文章
7873瀏覽量
142893
發(fā)布評論請先 登錄
相關推薦
光刻膠成為半導體產(chǎn)業(yè)的關鍵材料
對光的敏感度。在半導體制造過程中,光刻膠通過光化學反應,將掩膜版上的圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片表面。 光刻工藝是半導體制造的核心步驟之一。在硅片表面涂上光
一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望
光刻技術是現(xiàn)代微電子和納米技術的研發(fā)中的關鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構的需求日益增強,光刻膠
掩膜版與光刻膠的功能和作用
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?
控SU-8光刻膠烘烤:軟烘、后曝光烘烤和硬烘 在整個SU-8模具制備的過程中,微流控SU-8光刻膠需要烘烤2或3次,每一次烘烤都有不同的作用。 第一次
導致光刻膠變色的原因有哪些?
存儲時間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響
光刻膠涂覆工藝—旋涂
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求
光刻膠的硬烘烤技術
根據(jù)光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構進行處理以提高其化學或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)
光刻膠的保存和老化失效
通常要考慮光刻膠是否過期失效了。接下來我們將介紹一下光刻膠保存和老化失效的基礎知識。 光刻膠的保存 光刻膠對光敏感,在光照或高溫條件下其性能會發(fā)生變化。
關于光刻膠的關鍵參數(shù)介紹
與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
光刻膠分類與市場結(jié)構
光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
發(fā)表于 01-03 18:12
?1309次閱讀
評論