電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
2025年美國特朗普政府的“對等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來還不確定,只有等待時間的檢驗。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴重,比如蘋果公司、光刻機巨頭阿
發(fā)表于 04-17 10:31
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,其中有12億歐元為EUV光刻機的訂單。 對于2025年第二季度的業(yè)績展望,阿斯麥CEO表示,人工智能仍是主要的增長動力;但是關(guān)稅新政增加了
發(fā)表于 04-16 16:15
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阿斯麥(ASML)近日發(fā)布了其2024年第四季度及全年財報,數(shù)據(jù)顯示公司業(yè)績繼續(xù)保持強勁增長態(tài)勢。 在2024年第四季度,
發(fā)表于 02-10 11:14
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光刻機用納米位移系統(tǒng)設計
發(fā)表于 02-06 09:38
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近日,半導體制造設備巨頭阿斯麥(ASML)在歐洲市場的股價迎來了大幅上漲,漲幅高達11%。這一強
發(fā)表于 02-05 14:18
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本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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時,摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體中的折射特
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
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在2024年投資者會議上,光刻機巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿
發(fā)表于 11-15 19:48
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,因為技術(shù)故障提前公布。 財報數(shù)據(jù)公布后,全球光刻機巨頭股價暴跌16%,引起整個半導體板塊和美股市場走弱等連鎖反應。 引起股價
發(fā)表于 10-21 10:14
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10月15日,美股三大指數(shù)集體收跌,科技股多數(shù)下跌;費城半導體指數(shù)跌超5%。 英偉達股價跌超4%;英偉達公司的市值蒸發(fā)1587.1億美元(換算下來約人民幣11299.5億)。 光刻機巨頭阿
發(fā)表于 10-16 14:28
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周二,美股半導體板塊遭遇重創(chuàng),其中英偉達股價暴跌9.5%,市值單日蒸發(fā)高達2789億美元,這一跌幅創(chuàng)下了美股史上的單日市值減少之最。此次
發(fā)表于 09-04 15:47
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。在這場技術(shù)競賽中,光刻機作為半導體制造的核心設備,其重要性不言而喻,而荷蘭巨頭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 07-03 14:46
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