以下文章來源于逍遙設計自動化,作者逍遙科技
簡介
隨著摩爾定律的放緩,半導體行業越來越多地采用芯片設計和異構集成封裝來繼續推動性能的提高。這種方法是將大型硅芯片分割成多個較小的芯片,分別進行設計、制造和優化,然后再集成到單個封裝中。
本文將介紹芯片設計的基本原理、異構集成封裝、優勢和挑戰,以及在大批量制造 (HVM) 中使用這些方法的產品示例。
片上系統( SoC )
傳統的片上系統 (SoC) 將 CPU、GPU、內存和其他專用處理器等組件集成到一個單片芯片中,如圖 1 所示,蘋果公司 A 系列應用處理器 (AP) 的晶體管數量不斷增加。然而,單片 SoC 的擴展成本越來越高,效率也越來越低,令人望而卻步。
圖 1 蘋果的 AP:晶體管與 A10-A17 處理技術和年份的對比
Chiplet設計
Chiplet設計不是單片 SoC,而是將各種計算芯片(如 CPU、GPU、AI 加速器)和內存分解到獨立的硅芯片上。這些芯片可以利用優化的制造工藝,并采用先進的封裝技術組裝成單一封裝。主要優勢包括:
通過隔離故障提高制造良率
能夠混合不同的半導體工藝節點
擴展現有工藝節點的價值
獨立擴展計算和內存
改進上市時間和產品生命周期管理
不過,Chiplet設計也面臨著一些挑戰,如芯片間通信開銷、組裝復雜性和潛在的熱機械問題。
異構集成封裝
為了將獨立的芯片組裝成一個內聚封裝,采用了異構集成封裝技術,如 2D、2.1D、2.3D、2.5D 和 3D 集成,這些技術是根據其互連密度能力分類的(圖 2)。我們將舉例說明:
圖 2 根據密度和性能劃分的先進封裝等級
二維集成
如圖 3 和 4 所示,在二維集成中,芯片通過倒裝芯片、線鍵或扇出式封裝并排組裝在同一封裝基板上。這種方法廣泛用于智能手機等消費類產品。
圖 3 二維集成電路集成實例 a 一個封裝基板上有兩個倒裝芯片。b 封裝基板上的一個倒裝芯片和一個帶有線鍵的 MEMS
圖 4 扇出 RDL 基底面上四個芯片的異構集成
2.1D 集成
2.1D 集成可直接在封裝基板上制造細間距金屬互連層,從而實現比 2D 更高的互連密度。圖 5 顯示了 Shinko 的集成薄膜高密度有機封裝 (i-THOP),其線路/空間互連層為 2μm。JCET 的 uFOS(圖 6)以及日立、日月光和 SPIL 的方法也采用了 2.1D 集成。
圖 5 Shinko 的 2.1D 集成電路:i-THOP(集成薄膜高密度有機封裝)
圖 6 JCET 的 2.1.D 集成電路集成:uFOS(超格式有機基板)
另一種 2.1D 方法是在封裝中嵌入具有細間距 RDL 的硅橋,以實現芯片到芯片的通信,如英特爾的 EMIB(圖 7)、IBM 的 DBHi(圖 8),以及應用材料公司、臺積電、硅品、Amkor、日月光和其他公司的嵌入式橋變體(圖 9 和 10)。
圖 7 a 英特爾嵌入在有機封裝基板和 Agilex FPGA 模塊中的 EMIB(嵌入式多層互連橋接器)
圖 8 IBM 的 DBHi(直接粘合異質集成)
圖 9 a Applied Materials 通過扇出芯片(橋接器)首模朝上工藝嵌入 EMC 的橋接器。b 欣興電子公司通過扇出芯片(橋接器)首模朝下工藝在 EMC 中嵌入橋接器。2022 年,美國專利號:11,410,933。
圖 10 a 嵌入 EMC 的電橋示例:臺積電的 LSI(本地硅互連)。b SPIL 的 FO-EB(扇出嵌入式電橋)。c Amkor 的 S-Connect。d ASE 的 sFOCoS(堆疊硅橋扇出基底芯片)。
2.3D 集成
2.3D 集成制造了一個與封裝基板集成的獨立細間距 RDL 基板(或有機interposer),實現了比 2.1D 更高的互連密度,思科的大型 12 層有機interposer就是一例(圖 11)。
圖 11 思科公司采用 SAP/PCB 方法將 2.3D 集成電路與積層有機interposer集成在一起
制造 RDL 基底面的方法包括半加成 PCB 工藝、扇出芯片先導法(如圖 12 中的日月光 FOCoS)和扇出芯片后/RDL 先導法(如圖 13 中的三星、圖 14 中的日月光、圖 15-17 中的欣興)。
圖 12 日月光采用扇出(芯片先導)RDL 基底面(中間膜)的 2.3D 集成電路集成電路
圖 13 三星的 2.3D 集成電路與扇出式(芯片后置)RDL interposer的集成
圖 14 日月光的 2.3D 集成電路與在臨時晶圓上制造的扇出型(芯片后置)RDL interposer的集成
圖 15 利用 PID(光成像電介質)制造的帶有扇出(芯片末端)RDL interposer的欣興電子 2.3D 集成電路集成電路
圖 16 使用 ABF制造的 2.3D 集成電路扇出(芯片末端)RDL interposer
圖 17 欣興電子公司帶有互連層的 2.3D 集成電路集成電路
2.5D 集成
在 2.5D 集成中,芯片組裝在帶有硅通孔(TSV)的硅中間膜上,然后安裝在封裝基板上,從而實現極高的互連密度(圖 18)。這方面的例子包括 AMD/UMC 在 2.5D 夾層上采用 HBM 內存立方體的 GPU(圖 19),以及 Nvidia 在臺積電 CoWoS-2 夾層上采用 HBM2 的 GPU(圖 20)。
圖 18 a 2.1D、b 2.3D 和 c 2.5D/3D 集成電路集成示意圖
圖 19 AMD/UMC 的 2.5D 集成電路集成圖
圖 20 NVidia/TSMC 的 2.5D 集成電路集成圖
臺積電已在集成電路中開發出深溝槽電容器(圖 21),而弗勞恩霍夫則展示了集成光學和電子器件的三維光子集成電路(圖 22)。圖 23 和圖 24 展示了使用 2.5D interposer的光電共封裝器件。
圖 21 臺積電的 2.5D 集成電路與 ODC(片上電容)和 DTC(深溝電容)的集成。b 電容密度。
圖 22 用于 Tb/s 光互連的 Fraunhofer 3D 硅基光電子集成電路
圖 23 高速 PIC(光子集成電路)和 EIC(電子集成電路)器件的封裝
圖 24 用于 HPC 的 2.5D 集成電路集成。無源 TSV 夾層支持 SoC 和 HBM
三維集成
三維集成利用硅通孔(TSV)垂直堆疊芯片,無硅通孔(三維封裝,圖 25)或有硅通孔(三維集成,圖 26)。高帶寬內存(HBM)是高性能計算的關鍵三維集成內存技術,可垂直堆疊多個 DRAM 芯片(圖 27)。
圖 25 3D 集成電路封裝(無 TSV)的幾個示例。a 用接線鍵合堆疊的存儲芯片。b 兩個芯片面對面焊接凸點倒裝芯片,然后用焊線鍵合到下一級互連。c 兩個芯片背靠背粘接;底部芯片通過焊接凸塊倒裝芯片粘接到基板,頂部芯片通過焊線粘接到基板。d 兩個芯片面對面焊接凸塊粘接,頂部芯片通過焊球粘接到基板。e 應用處理器芯片組的倒裝芯片 PoP。f 應用處理器芯片組的扇出 PoP。
圖 26 三維集成電路集成實例:a 帶有微凸塊和 TSV 的 HBM;b 帶有 TSV 和微凸塊的 CoC;c 帶有 TSV 和無凸塊的 CoC。
圖 27 HBM、HBM2、HBM2E 和 HBM3
例如,IME 使用 TSV 和微凸塊的邏輯內存(圖 28),以及英特爾使用 FOVEROS 技術和微凸塊將計算芯片集成在有源插層上的 Lakefield 處理器(圖 29)。臺積電也展示了用于三維集成的無凸塊混合鍵合技術(圖 30、31)。
圖 28 3D 集成電路集成:存儲器芯片通過 TSV 微凸塊集成在 ASIC 芯片上
圖 29 3D 集成電路集成: 英特爾芯片面對面微凸塊在有源 TSV 互連器上
圖 30 a 臺積電通過混合接合實現的 SoIC。b 電氣性能:SoIC 混合鍵合與傳統倒裝芯片鍵合的比較。c 凸點密度性能:SoIC 混合鍵合與傳統倒裝芯片鍵合
圖 31 臺積電用于 AMD 3D V-cache 的 SoIC 銅-銅混合鍵合技術
HVM 中的芯片產品
一些高性能計算產品已經開始采用芯片設計和異構集成封裝制造:
采用臺積電 CoWoS 2.5D 封裝的 Xilinx/TSMC Virtex FPGA(2013 年出貨)
AMD Radeon GPU,采用 2.5D interposer的 HBM(如 2015 年的 R9 Fury X,圖 32)
Nvidia Pascal 和 Volta GPU,在 2.5D 插槽上配備 HBM2(如 2016 年的 Pascal 100,圖 33)
AMD EPYC 服務器 CPU,采用大型有機基板上的芯片(2019 年)
采用 FOVEROS 3D 封裝集成芯片的英特爾 Lakefield 移動處理器(2020 年,圖 34)
蘋果 A12/A16 應用處理器,采用臺積電 InFO 扇出封裝的 PoP(2016 年以后,圖 35)
使用扇出面板級封裝集成的三星智能手表 SoC 和存儲器(2018 年,圖 36)
圖 32 AMD/UMC 的 2.5D 集成電路集成
圖 33 NVidia/TSMC 的 2.5D 集成電路集成
圖 34 3D集成: 英特爾的芯片在有源 TSV interposer上,面對面的微凸塊集成
圖 35 蘋果/臺積電為 iPhone 的 AP 芯片組采用 InFO 的 PoP
圖 36 三星為其智能手表采用 FOPLP 的 PoP
結論
Chiplet設計和異質集成封裝是半導體持續擴大規模和提高性能的關鍵因素。通過將大型單片 SoC 分解成使用 2D、2.1D、2.3D、2.5D 或 3D 封裝技術組裝的優化芯片,我們可以緩解制造問題,擴大工藝節點規模,集成異構技術,并推動新的系統架構。在計算、移動、人工智能、網絡和其他領域,許多大批量產品已經在利用這些方法。
隨著業界不斷突破摩爾定律的極限,Chiplet設計和異構集成的重要性將與日俱增,并將推動半導體制造、封裝和系統設計領域的創新。
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原文標題:異構集成封裝類型:2D、2.1D、2.3D、2.5D和3D封裝詳解
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