本文介紹了一種利用全息技術在硅晶圓內部制造納米結構的新方法。
研究人員提出了一種在硅晶圓內部制造納米結構的新方法。傳統上,晶圓上的微結構加工,僅限于通過光刻技術在晶圓表面加工納米結構。
然而,除了晶圓表面外,晶圓內部還有足夠的空間可用于微結構制造。該研究團隊的工作,為直接在硅晶圓內部進行納米級制造開啟了大門,更容易引入先進的光子學技術,甚至可能實現在硅晶圓內完成3D納米制造的夢想。
全息投影
該團隊致力于挑戰在硅晶圓內實現復雜光學元件,以及突破激光的固有衍射極限的限制。
“在線性光學中,可實現的最小特征尺寸由衍射極限決定,衍射極限最多是激光波長的一半。如果我們利用非線性效應,這種限制就會放寬?!盩okel說,“晶圓主體內的非線性效應,與激光脈沖的空間和時間分布密切相關。為了對這些因素進行控制,我們的團隊使用了先進的全息投影技術?!?/p>
通過使用空間光調制器(SLM),他們可以產生具有與貝塞爾函數相對應的強度模式的激光脈沖。貝塞爾光束是一種特殊光,以無衍射的形式傳播,在這種情況下,它能夠實現精確的能量定位。這導致高溫和高壓值,從而可以在小體積內對硅進行改性。
研究人員解釋說:“我們發現全息技術可以將激光束整形為無衍射的貝塞爾光束,而不是傳統的高斯光束,以在硅晶圓內部實現納米制造?!睙o衍射光束克服了之前阻礙精確能量沉積的散射效應,而是在晶圓內產生了極小的局部空隙。
使用波長為1550nm的激光脈沖,晶圓在該波段是透明的,這意味著脈沖可以穿透硅晶圓而不改變其表面?!斑@種方法會引發各種非線性效應,并導致局部能量沉積,從而實現納米級的材料改性以及實現各種微結構的可能性?!?/p>
研究人員遵循這一步驟,產生了一種新興的播種效應(seeding effect)。在這種效應中,晶圓表面下預先形成的納米空隙,在其鄰近區域周圍產生了強烈的場增強,以實現低至100nm的特征尺寸。它基于將硅晶圓內的激光脈沖能量定位到極小的體積(與納米粒子的體積相當),然后利用類似于等離子體的新興場增強效應。
研究人員展示了具有超越衍射極限特征的大面積體納米結構,以實現埋入納米光子元件的概念驗證。它為具有獨特架構的納米級系統開辟了一條新道路。
他們認為,在硅晶圓中新出現的設計自由度(超越衍射極限特征和多維控制),將在電子和光子學中得到廣泛應用,如超材料、超表面、光子晶體、信息處理應用,甚至3D集成電子光子系統。
這項工作最酷的方面之一是,場增強一旦建立,就會通過播種機制(seeding mechanism)維持下去。激光偏振的使用進一步控制了納米結構的排列和對稱性,從而能以高精度創建各種納米陣列。
無需掩膜
該小組所用方法的一個顯著優勢是:它是一種直接激光寫入方法,這意味著消除了對任何掩模的需求,也消除了傳統納米制造通常所需的多個制造步驟。
“從這個意義上講,復雜性被轉移到全息圖上,全息圖對激光束進行空間調制。”Tokel說,“由于我們使用了空間光調制器,全息圖可以根據需要進行更改,從而增加了制造的動態范圍?!?/p>
偏振方向
該小組還驚訝地發現,光刻結構表現出偏振方向。它與激光改性部分內納米級空隙的存在有關,類似于等離子體熱點,但位于晶圓內部?!斑@很令人興奮,因為如果我們能在三維空間中控制這些,它可能會實現一些重要應用。先進的控制可以實現獨特的3D結構,進而可以將其轉化為新型光學元件。想象一下,我們可以充分自由地在晶圓內部探索納米尺度光學元件,這將是一件多么令人興奮的事。”
該團隊已經通過這種方法創建了多級體光柵。“原則上,這些類型的埋入式光學元件可以與表面級器件相結合,這實現了我們稱之為‘片內’(in-chip)的新制造范式?!?/p>
未來,一個有趣的方向是整合?!拔覀円呀浽诠杈A中展示了多級納米制造,這使得體布拉格光柵成為可能。原則上,這可以與表面制造、硅光子學或其他器件相結合。我們可以應對硅光子學在光耦合方面的挑戰,或者想象多功能、多層級的器件?!?/p>
需要更多的工作
研究人員強調,他們的工作使受控的晶圓內部納米制造的初始步驟成為可能,但對于不同的應用,還有更多的工作要做。
未來的一大挑戰是加強硅晶圓內的結構控制。他們指出,“雖然我們可以制造納米平面或納米線,但創建納米級體素(像素的3D對應物)仍然超出了我們目前的能力范圍?!?/p>
另一個挑戰是實現相對于未改性晶體矩陣的高光學折射率對比,這對于開發半導體內部的3D集成的光學元件、先進波導、光子晶體或元光學應用至關重要?!斑@些元素之間存在著巨大的潛在整合機會。晶圓內部有足夠的空間,但仍有更多的工作要做?!?/p>
應用前景
該小組現在計劃探索光刻的基本局限性,這可以在未來轉化為先進的片內納米應用。毫不奇怪,這將需要對系統的物理學有更深入的理解?!袄?,在激光與材料的相互作用過程中,我們觀察到早期的結構有助于后續結構的制造,”研究人員說,“這種現象對應于硅中的一種新播種效應(seeding effect),我們希望進一步利用這種效應?!?/p>
除此之外,該研究小組計劃利用全息領域的最新進展,如3D全息投影能力?!皩す?半導體相互作用系統的進一步控制,是一項令人興奮的挑戰,它將為各種應用鋪平道路。”
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原文標題:全息技術在硅晶圓內部實現納米制造
文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
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