功率放大器是一種可在給定失真率條件下，能產生最大功率輸出以驅動某一負載的放大器，其應用領域十分廣泛，從生物醫療、電磁驅動，到材料測試、水聲測試，都離不開它的加持。其中，功率放大器在超聲測試領域的超聲霧化研究中，也有著良好應用，今天Aigtek安泰電子就帶大家了解一下功率放大器在超聲霧化熱解法納米薄膜制備當中應用。

針對有機半導體粉料和金屬粉料蒸發溫度低的特點,設計并制作了新型低溫輻射式薄膜加熱蒸發器,通過對有機粉料的蒸發及濺射時樣片襯底的加熱實驗，取得了良好效果,通過觀測裝置,可以觀測到，薄膜監控測厚儀未能反映出的10納米薄膜厚度。其制作成本低，加熱效率高，同時又提高了設備功效;是一種多功能輻射式加熱器，在物理教學和相關的科研生產中有著廣泛的應用前景。

在真空中使固體表面(基片)上沉積一層金屬、半導體或介質薄膜的工藝通常稱為真空鍍膜。早在19世紀，英國的Grove和德國的Plucker相繼在氣體放電實驗的輝光放電壁上觀察到了濺射的金屬薄膜，這就是真空鍍膜的萌芽。后于1877年將金屬濺射用于鏡子的生產；1930年左右將它用于Edison唱機錄音蠟主盤上的導電金屬。以后的30年，高真空蒸發鍍膜又得到了飛速發展，這時已能在實驗室只制造單層反射膜、單層減反膜和單層分光膜，并且在1939年由德國的Schott等人鍍制出金屬的Fairy-Perot干涉濾波片，1952年又做出了高峰值、窄寬度的全介質干涉濾波片。真空鍍膜技術歷經一個多世紀的發展，目前已廣泛用于電子、光學、磁學、半導體、無線電及材料科學等領域，成為一種不可缺少的新技術、新手段、新方法。

納米薄膜沉積制備

透明導電氧化物（TCO）薄膜涂層，例如氧化銦錫（ITO）、摻鋁氧化鋅（AZO）、氧化鋅（ZnO）和摻氟氧化物（FDO），通常使用超聲波噴霧熱解技術進行沉積制備。這種獨特的工藝要求沉積系統可在高溫環境下噴涂腐蝕性溶液從而產生特定的涂層厚度和形貌。

在超聲波噴霧熱解過程中，鋁鋅氧化物等前驅體溶液被超聲波噴頭均勻霧化成微米級液滴，并在沉積在被加熱到300-500℃的高溫基材上。當溶質接觸高溫基材后便會迅速發生熱裂解反應并在基材（例如鈉石灰或其他玻璃）表面生長出ZnO晶體薄膜。基材襯底的溫度通常對于薄膜的形貌起著至關重要的作用。

離子束濺射沉積制備納米數量級的薄膜是在多功能離子束輔助沉積裝置上完成生長的。這種裝置的本底真空度為0.02MPa,工作氣壓為6MPa。沉積陶瓷材料可以通過使用3.0KeV/100mA的Ar+離子束來濺射靶材沉積到襯底上,而沉積聚四氟乙烯材料需要使用較小的束流和束壓。沉積陶瓷材料時的速率為6nm/min,沉積金屬和聚四氟乙烯材料時的速率為12nm/min。

此外，超聲波噴涂技術也被視為一種有效的納米薄膜涂層制備工藝，可用于玻璃、金屬、陶瓷、塑料、聚合物等各種軟硬基材上的多種功能性納米薄膜的制備，諸如AR減反增透薄膜、親水及疏水涂層、納米銀線、碳納米管、石墨烯等透明導電薄膜、TCO、量子點、鈣鈦礦等等。相比于傳統的空氣噴涂，超聲噴涂具有高精度的膜厚控制、高均勻度、飛濺少、4倍以上的原料利用率等顯著優勢。而相比于真空蒸鍍、CVD等鍍膜工藝，超聲噴涂具有很高的性價比，特別是針對大面積的鍍膜，成本上更是大幅下降，因為超聲噴涂被視為一種全新的產業化納米薄膜涂層制備工藝。

ATA-3090C功率放大器

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審核編輯 黃宇