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腔室壓力對刻蝕的影響

中科院半導體所 ? 來源:Tom聊芯片智造 ? 2024-12-17 18:11 ? 次閱讀

本文介紹了腔室壓力對刻蝕的影響。

腔室壓力是如何調節的?對刻蝕的結果有什么影響?

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什么是腔室壓力? 腔室壓力是指在刻蝕設備的工藝腔室內的氣體壓力,通常以托(Torr)或帕斯卡(Pa)為單位。

腔室壓力由什么決定的?

1,氣體流量越高,壓力越大。

2,真空泵排氣,泵速越高,腔室壓力越低。

腔室壓力對于刻蝕的影響

1,離子轟擊能量。低壓力,分子平均自由程大,離子的碰撞幾率小,能量耗散少,故能量高。

2,離子與自由基的比例。低壓力時,離子的比例高,有利于物理刻蝕。高壓力時,自由基比例高,有利于化學刻蝕。

3,刻蝕均勻性。高壓力時,高頻碰撞會使氣體流速降低,自由基更容易擴散到晶圓表面各處,包括邊緣區域,整個晶圓表面接觸到的反應物濃度均勻,刻蝕速率趨于一致。

總結 隨著腔室壓力的提高,刻蝕反應逐漸由物理刻蝕到物理+化學刻蝕到化學刻蝕所轉變。

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原文標題:腔室壓力對刻蝕有什么影響?

文章出處:【微信號:bdtdsj,微信公眾號:中科院半導體所】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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