德國(guó)進(jìn)口蔡司三坐標(biāo) VAST Probing光學(xué)ZVP”是ZEISS CALYPSO新版本軟件中的一亮點(diǎn)功能。它采用優(yōu)化數(shù)據(jù)采集算法,顯著縮短了離散點(diǎn)的測(cè)量時(shí)間,效率提升高達(dá)30%~50%。在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中,借助ZVP功能,光學(xué)圖像傳感器ViScan Discovery.V12 standard 100和ViScan Discovery.V12 scout 160可以實(shí)現(xiàn)更快速的圖像采集,從而大幅節(jié)省測(cè)量時(shí)間。
經(jīng)測(cè)試,在相同時(shí)間內(nèi),標(biāo)準(zhǔn)模式下接觸式測(cè)頭僅能測(cè)量6個(gè)點(diǎn),而啟用ZVP探測(cè)模式后,測(cè)量點(diǎn)數(shù)提高至9個(gè),檢測(cè)效率得到明顯提升。
以一客戶的半導(dǎo)體涂層噴淋花灑工件為例,直徑 332mm 的圓盤上密布近 2000 個(gè) D0.3 小孔,精準(zhǔn)測(cè)量各小孔直徑與圓度,確保尺寸和形狀符合工藝要求以避免噴淋涂層不均,是客戶的核心訴求,而測(cè)量準(zhǔn)確度與效率是關(guān)鍵所在。經(jīng)過(guò)比較分析,O - INSPECT 憑借ZVP功能脫穎而出成為理想之選。
對(duì)比試驗(yàn)
考慮到工件保密性,以下我們采用具有相似元素的工件進(jìn)行代替實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果依然具有說(shuō)服力。
測(cè)試工件:帶有多個(gè)呈一定規(guī)律排列的孔的PCB板。
測(cè)量需求:測(cè)量每個(gè)孔的直徑及圓度。
實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)
在實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)過(guò)程中,針對(duì)工件小孔數(shù)量眾多易導(dǎo)致測(cè)量時(shí)間過(guò)長(zhǎng),尤其在大批量相同工件測(cè)量時(shí)嚴(yán)重影響效率的問(wèn)題,我們深入探索如何有效減少測(cè)量時(shí)間、提升測(cè)量效率。
在使用德國(guó)進(jìn)口蔡司三坐標(biāo)O - INSPECT 測(cè)量時(shí),ZVP 功能提供了兩個(gè)關(guān)鍵設(shè)置參數(shù),其設(shè)置路徑明確便捷:程序元素編輯-CMM參數(shù)-探測(cè)參數(shù)(以下簡(jiǎn)稱為探測(cè)參數(shù))程序元素編輯-照相機(jī)-常規(guī)設(shè)置-測(cè)量時(shí)間優(yōu)化(以下簡(jiǎn)稱為測(cè)量時(shí)間優(yōu)化)
針對(duì)以上分析,我們?cè)O(shè)計(jì)了如下對(duì)照組實(shí)驗(yàn),觀察測(cè)量時(shí)間是否減少。
對(duì)照組一: 探測(cè)參數(shù)(未啟用)+測(cè)量時(shí)間優(yōu)化(未啟用)
1.首先選取一個(gè)圓作為起始元素,設(shè)置好對(duì)應(yīng)的測(cè)量策略;
2.按照一般的測(cè)量方法,程序里對(duì)應(yīng)參數(shù)無(wú)設(shè)置,即探測(cè)參數(shù)和測(cè)量時(shí)間優(yōu)化均不選。
3.示例中所測(cè)孔的數(shù)量為35*3=105個(gè),測(cè)量視頻如下,共計(jì)用時(shí)100s
對(duì)照組二: 探測(cè)參數(shù)(VAST探測(cè)模式)+測(cè)量時(shí)間優(yōu)化(3-運(yùn)行優(yōu)化,減少顯示,無(wú)默認(rèn)報(bào)告)
1.首先選取一個(gè)圓作為起始元素,設(shè)置好對(duì)應(yīng)的測(cè)量策略。
2.選擇對(duì)應(yīng)優(yōu)化參數(shù),探測(cè)參數(shù)選擇VAST探測(cè)參數(shù)(即ZVP功能),測(cè)量時(shí)間優(yōu)化選為 3-運(yùn)行優(yōu)化,減少顯示,無(wú)默認(rèn)報(bào)告。
3.示例中所測(cè)孔的數(shù)量為35*3=105個(gè),測(cè)量視頻如下,共計(jì)用時(shí)60s。
對(duì)照組三: 視圖陣列測(cè)量+探測(cè)參數(shù)(VAST探測(cè)模式)+測(cè)量時(shí)間優(yōu)化(3-運(yùn)行優(yōu)化,減少顯示,無(wú)默認(rèn)報(bào)告)
1.為圓1設(shè)置元素陣列,為35*3。
2.將陣列后的圓移動(dòng)到CAD顯示框的中間,示例中目前一個(gè)視場(chǎng)下可看到4*3個(gè)圓。
3.選中圓1后,右鍵-更新照相機(jī)測(cè)量位置X和Y(從當(dāng)前相機(jī)位置),輸入4/3。同樣的,運(yùn)行參數(shù)選擇為探測(cè)參數(shù)(VAST探測(cè)模式)+測(cè)量時(shí)間優(yōu)化(3-運(yùn)行優(yōu)化,減少顯示,無(wú)默認(rèn)報(bào)告)。
4.測(cè)量時(shí)長(zhǎng)為32s。
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測(cè)量
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