1高密度PCB(HDI)制造檢驗標準范圍
1.1 范圍
本標準是Q/DKBA3178《PCB檢驗標準》的子標準,包含了HDI制造中遇到的與HDI印制板相關的外觀、結構完整性及可靠性等要求。
本標準適用于深圳宏力捷公司高密度PCB(HDI)的進貨檢驗、采購合同中的技術條文、高密度PCB(HDI)廠資格認證的佐證以及高密度PCB(HDI)設計參考。
1.2 簡介
本標準針對HDI印制板特點,對積層材料、微孔、細線等性能及檢測要求進行了描述。本標準沒有提到的其他條款,依照Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》執(zhí)行。
1.3 關鍵詞
PCB、HDI、檢驗
2 規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本規(guī)范的引用而成為本規(guī)范的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內容)或修訂版均不適用于本規(guī)范,然而,鼓勵根據本規(guī)范達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本規(guī)范。
序號 | 編號 | 名稱 |
---|---|---|
1 | IPC-6016 | HDI層或板的資格認可與性能規(guī)范 |
2 | IPC-6011 | PCB通用性能規(guī)范 |
3 | IPC-6012 | 剛性PCB資格認可與性能規(guī)范 |
4 | IPC-4104 | HDI和微孔材料規(guī)范 |
5 | IPC-TM-650 | IPC測試方法手冊 |
3 術語和定義
HDI:High Density Interconnect,高密度互連,也稱BUM(Build-up Multilayer或Build-up PCB),即積層法多層板。積層互聯(lián)通常采用微孔技術,一般接點密度>130點/in2,布線密度>在117in/in2 。圖3-1是HDI印制板結構示意圖。
Core:芯層,如圖3-1,HDI印制板中用來做內芯的普通層。
RCC:Resin Coated Copper,背膠銅箔。
LDP:Laser Drillable Prepreg,激光成孔半固化片。
Build-up Layer:積層,如圖3-1,疊積于芯層表面的高密互聯(lián)層,通常采用微孔技術。
Microvia:微孔,孔直徑≤0.15mm的盲孔或埋孔。
Target Pad:如圖3-1,微孔底部對應Pad。
Capture Pad:如圖3-1,微孔頂部對應Pad。
Buried Hole:埋孔,如圖3-1,沒有延伸到PCB表面的導通孔。
圖3-1 HDI印制板結構示意圖
4 文件優(yōu)先順序
當各種文件的條款出現(xiàn)沖突時,按如下由高到低的優(yōu)先順序進行處理:
印制電路板的設計文件(生產主圖)
已批準(簽發(fā))的HDI印制板采購合同或技術協(xié)議
本高密度PCB(HDI)檢驗標準
已批準(簽發(fā))的普通印制板采購合同或技術協(xié)議
剛性PCB檢驗標準
IPC相關標準
5 材料要求
本章描述HDI印制電路板所用材料基本要求。
5.1 板材
缺省芯層材料為FR-4,缺省積層材料為RCC;在滿足產品性能前提下,積層材料也可采用106(FR-4)、1080(FR-4)及LDP材料。以上材料均需滿足深圳宏力捷Q/DKBA3121《PCB基材性能標準》性能要求。
5.2 銅箔
包括RCC銅箔與芯層板銅箔,主要性能缺省指標如下表:
表5.2-1 銅箔性能指標缺省值
特性項目 | 銅箔厚度 | 品質要求 |
---|---|---|
RCC | 1/2 Oz;1/3Oz | 抗張強度、延伸率、硬度、MIT耐折性、彈性系數(shù)、質量電阻系數(shù)、表面粗糙Ra,參考Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》。 |
芯層板銅箔 | 與普通PCB相同 |
5.3 金屬鍍層
微孔鍍銅厚度要求:
表5.3-1 微孔鍍層厚度要求
鍍層 | 性能指標 |
---|---|
微孔最薄處銅厚 | ≥12.5um |
6 尺寸要求
本節(jié)描述HDI印制板的尺寸精度的特別要求,包括板材、導線、孔等。尺度特性需用帶刻度的≥30倍的放大系統(tǒng)作精確的測量和檢驗。
6.1 板材厚度要求及公差
6.1.1 芯層厚度要求及公差
缺省板材為FR-4覆銅板,其厚度要求及公差要求依據Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》。
6.1.2 積層厚度要求及公差
缺省積層介質為65~80um的RCC,壓合后平均厚度≥40um,最薄處≥30um。
若設計文件規(guī)定積層厚度,其厚度公差依據Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》。
6.2 導線公差
導線寬度以線路底部寬度為準。其公差要求如下表所示:
表6.2-1 導線精度要求
線寬 | 公差 |
---|---|
3 mils | ±0.7 mils |
≥4 mils | ± 20% |
6.3 孔徑公差
表6.3-1 孔徑公差要求
類型 | 孔徑公差 | 備注 |
---|---|---|
微孔 | ±0.025mm | 微孔孔徑為金屬化前直徑。如下圖 “A” |
機械鉆孔式埋孔 | ±0.1mm | 此處“孔徑”指成孔孔徑 |
其他類型 | 參考Q/DKBA3178.1《剛性PCB檢驗標準》 |
圖6.3-1 微孔孔徑示意圖
6.4 微孔孔位
微孔允許與Target Pad及Capture Pad相切,但不允許破盤。
圖6.4-1 微孔孔位示意圖
7 結構完整性要求
結構完整性要求需在熱應力(Thermal stress)試驗后進行,熱應力試驗方法:依據IPC-TM-650-2.6.8條件B進行。除非特殊要求,要經過5次熱應力后切片。
金相切片的制作要求依照IPC-TM-650-2.1.1或2.1.1.2進行,垂直切片至少檢查3個孔。金相切片的觀察要求在100X ±5%的放大下進行,評判時在200X ±5%的放大下進行,鍍層厚度小于1um時不能用金相切片技術來測量。
7.1 鍍層完整性
[1] 金屬鍍層無裂紋、分離、空洞和污染物;
[2] 微孔底部和Target Pad之間不允許出現(xiàn)未除盡的膠渣或其他雜質。
7.2 介質完整性
測試后無剝離、氣泡、分層、軟化等現(xiàn)象。
7.3 微孔形貌
[1] 微孔直徑應滿足:B≥0.5×A
圖7.3-1 微孔形貌
(注:A—微孔頂部電鍍前直徑;B—微孔底部電鍍前直徑。)
[2] 微孔孔口不允許出現(xiàn)“封口”現(xiàn)象:
圖7.3-2 微孔孔口形貌
7.4 積層被蝕厚度要求
若采用Large Windows方式,積層介質在工藝過程中(如Desmear)被蝕厚度H≤10um。
圖7.4-1 積層被蝕厚度
7.5 埋孔塞孔要求
埋孔不能有可見空洞,凸、凹現(xiàn)象不能影響介質厚度的要求。
8 其他測試要求
8.1 附著力測試
表8.1-1 附著力測試要求
序號 | 測試目的 | 測試項目 | 測試方法 | 性能指標 | 備注 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 綠油附著力 | 膠帶測試 | 同《剛性PCB檢驗標準》 | 同《剛性PCB檢驗標準》,且不能露銅 | 需關注BGA塞孔區(qū) |
2 | 金屬和介質附著力 | 剝離強度(Peel Strength) | IPC-TM-650 2.4.8 | ≥5Pound/inch | |
3 | 微孔盤浮離(Lift lands) | 熱應力測試(Thermal Stress) | IPC-TM-650 2.6.8條件B | 5次測試后無盤浮離現(xiàn)象 | |
4 | 表面安裝盤和NPTH孔盤附著力 | 拉脫強度測試(Bond Strength) | IPC-TM-650-2.4.21.1 | ≥2kg或2kg/cm2 |
9 電氣性能
9.1 電路
絕緣性:線間絕緣電阻大于10MΩ;測試用的網絡電壓要能提供足夠的電流,但不能引起網絡間飛弧;最小測試電壓≥40V。
9.2 介質耐電壓
依照IPC-TM-650-2.5.7進行測試,要求耐壓1000VDC,且在導體間沒有閃光、火花或擊穿。
10 環(huán)境要求
10.1 濕熱和絕緣電阻試驗
依照IPC-TM-650-2.6.3進行測試,經過濕熱加壓環(huán)境后,絕緣電阻≥500MΩ。
10.2 熱沖擊(Thermal shock)試驗
依照IPC-TM-650-2.6.7.2進行測試,默認條件為Test Condition D,溫度循環(huán)為-55~+125℃,樣片的電氣性能首先要滿足要求;測試結果要求導體電阻變化≤10%。
11 特殊要求
HDI印制板若有其他特殊要求時,如Outgassing、有機污染(Organic contamination)、抗菌(Fungus resistance)、抗振動(Vibration)、機械沖擊,則依據IPC-6012進行。
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原文標題:一文了解:高密度PCB(HDI)制造檢驗標準!
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