水分子H2O,占地表面積的70%,是人類能夠生存在地球上的最重要因素之一。我們日常所使用的水可能來源于海水、河水、湖水、雨水、地下水等,經過凈化后得以使用。隨著科技工業的發展,水質在科技工業上的應用要求也愈發嚴苛,甚至遠超我們日常飲用的飲用水及包裝水的標準,有的高達數十倍到百倍以上。
科技工業對水質的要求因其應用領域而異。不同科技領域根據生產過程中水質對產品的影響,制定了不同的水質標準,允許的雜質種類和濃度也各不相同。
半導體制程與超純水
在半導體制造領域,對水質的要求尤為嚴格。為了滿足這種嚴苛的水質要求,半導體制造業所使用的水被稱為電子級水或超純水。這種水中幾乎不允許存在任何雜質,包括但不限于顆粒、金屬、離子、有機物和細菌等。為了達到如此嚴格的水質要求,在制造超純水的工藝上必須十分精細,以去除各種雜質。
如何制備超純水?
超純水的制造工藝通常包括以下幾種:
預處理設備
軟水器
反滲透主機
185nm UV燈
活性炭塔
RO 儲水箱
離子交換混床設備或EDI設備
純化儲水箱箱
254nm UV 燈
微孔過濾器 (超濾膜)
超純水水質標準
在半導體行業中,常用的水質標準包括:
GB/T 11446-2013 電子級水標準
GB/T 33087-2016 儀器分析用高純水規格及試驗方法
GB/T 6682-2008/ ISO 3696分析實驗室用水規格和試驗方法
ASTM D1193-06(2018) 試劑水標準規范
ASTM D5127-07 電子學和半導體工業用超純水標準指南
SEMI F63:2021 Guide for Ultrapure Water Used in Semiconductor Processing
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客戶現場在線分析
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原文標題:干貨分享 | 半導體行業對電子級超純水的要求有多嚴格?
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