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三星被判侵犯FinFET工藝專利 須賠償4億美元

dKBf_eetop_1 ? 來源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-06-22 16:28 ? 次閱讀

根據美國德克薩斯州聯邦法院的裁決,三星電子侵犯了一家韓國大學關于雙柵極FinFET半導體工藝的技術專利,必須賠償4億美元。

韓國科學技術院(KAIST)在美國的授權機構起訴三星電子,稱其曾經宣稱要與韓國大學共同研究FinFET(鰭式場效應晶體管)技術,但很快就放棄,改變主意從Intel那里購買授權,不過三星還是使用了他們的技術,卻并非付費。

法院認可了這一起訴,責令三星電子賠償4億美元。事實上,陪審團發現三星的侵權是故意行為,因此完全可以做出三倍處罰,也就是最多12億美元。

有趣的是,GlobalFoundries和高通也被發現同樣侵權,因為GF是從三星那里買了FinFET工藝的授權,高通則通過三星和GF代工芯片,但這兩家無需賠償。

三星對此判決自然表示很失望,將提出上訴。

目前,三星電子已經超越Intel,成為全球最大的半導體廠商。

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原文標題:三星被判侵犯FinFET工藝專利: 罰款4億美元

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