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10nm工藝不斷延期,AMD或領先Intel五到七年

Qp2m_ggservicer ? 來源:未知 ? 作者:胡薇 ? 2018-08-28 15:03 ? 次閱讀

芯片制造行業(yè)是目前技術門檻最高的一個行業(yè),也是與我們?nèi)粘W钕⑾⑾嚓P的行業(yè)。我們?nèi)粘I钪须x不開的手機,就是芯片高度集中化的產(chǎn)物。

芯片的制造工藝近年在不斷的進步,在十幾年前DIY充滿了競爭的時候,那時的主流制造工藝是110納米工藝,而時至今日,芯片的制造工藝也只剩下了個零頭,2017年的最新制造工藝已經(jīng)提升到了10nm。

更精細的制造工藝,除了能夠承載更多的電子元件外,還能盡可能縮小電子元件的間距。它對于芯片的能耗表現(xiàn)可就更為重要了,它能使不同晶體管終端的電流容量降低,從而提升他們的交換頻率。因為每個晶體管在切換電子信號的時候,所消耗的動態(tài)功耗會直接和電流容量相關,從而使得運行速度加快,能耗變小。

這也是為何旗艦定位的頂級處理器,一定要去選用最先進工藝技術的原因所在,而要說的白話一點,就是先進的工藝會提升性能,降低功耗,提高續(xù)航。

壞消息:Intel 10nm跳票三年

前不久,Intel宣布,由于良品率問題,10nm工藝大規(guī)模量產(chǎn)將推遲到2019年。至此,讓人望眼欲穿的Intel 10nm將比最初計劃延期長達三年之久。

Intel沒有公開解釋10nm一再跳票的原因,據(jù)了解主要是Intel 10nm工藝晶體管密度超高,需要使用多重曝光技術,部分時候不得不使用四重、五重乃至是六重曝光,這就導致生產(chǎn)流程加長、成本加高,良品率也很難提上來。

另外,Intel 10nm仍然完全依賴傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV),激光波長193nm,下一代7nm才會在部分層面上使用極紫外光刻(EUV),激光波長縮短到13.5nm,因此工程師們不得不絞盡腦汁,挖掘現(xiàn)有技術的全部潛力。

回溯歷史,從1999年的180nm工藝開始,Intel就以每兩年一代的步伐,穩(wěn)定更新工藝,中間交叉升級微架構,也就是大名鼎鼎的Tick-Tock策略。

正是憑借這一激進策略,Intel一路狂奔,牢牢壓制對手,同時也始終站在半導體工藝行業(yè)最前沿,并多次表示先進工藝是Intel的最強有力武器。

10nm工藝最初安排在2016年下半年,但是2015年初的時候,Intel推遲了10nm制造設備的安裝部署,被疑要跳票,2015年7月Intel最終承認,10nm的大規(guī)模量產(chǎn)推遲到2017年下半年,為此不得不臨時增加了Kaby Lake(七代酷睿),并號稱工藝優(yōu)化升級為14nm+。

坊間有說法稱,Intel在考慮是否跳過10nm而直奔7nm,但是現(xiàn)在的形勢下,Intel似乎已經(jīng)騎虎難下,畢竟10nm上已經(jīng)付出了太多,提前拿出7nm也不現(xiàn)實。

好消息:AMD表示年底前7nm產(chǎn)品全面出貨

AMD近日再次表示,AMD最新GPUCPU產(chǎn)品優(yōu)先推出7nm產(chǎn)品。相比于英特爾的速度,AMD可以說是在7nm制程這件事情上絲毫不敢怠慢。此前英特爾因為其“令人發(fā)指”的芯片工藝迭代速度讓投資者大失所望,高盛甚至調(diào)低英特爾股票預期。

據(jù)了解,AMD將會在今年年底推出“Rome”和“Vega 20”兩款7nm產(chǎn)品。目前Rome系列的CPU和Vega 20系列GPU都是采用的臺積電7nm工藝,目前,全球只有三星和臺積電兩家廠商能生產(chǎn)7nm工藝產(chǎn)品,而英特爾主流產(chǎn)品還沒用上10nm。

Rome采用Zen 2架構,將用戶第二代EPYC霄龍?zhí)幚砥魃希鳹ega 20用于Radeon Instinct加速卡和Radeon Pro專業(yè)卡上,常用于AI深度學習等場景。鑒于Rome系列CPU和Vega 20系列的GPU并不是面向消費級市場,所以普通用戶想要用上7nm還需要等一等。預計7nm工藝的Zen 2架構的Ryzen CPU和7nm工藝的Navi架構的顯卡將會在明年上半年正式推向市場。

結語

隨著AMD股價突破22美元,這意味著2018年以來AMD股價已經(jīng)上漲100%,這投資收益率讓那些買AMD股票的人大賺特賺,更關鍵的是AMD股價現(xiàn)在還再漲,今天突破23.9美元了。

AMD股價大漲一方面與自家處理器業(yè)務改善有關,但更重要的一個因素是英特爾在10nm工藝上不斷延期,這個問題不解決,AMD就有希望一直吊打Intel,而且分析師稱Intel工藝落后將持續(xù)很久,落后5-7年也都有可能。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:GGAI 頭條 | 風水輪流轉(zhuǎn),AMD或?qū)⒃谛酒に嚿系醮騃ntel五到七年

文章出處:【微信號:ggservicerobot,微信公眾號:高工智能未來】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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