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使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

電子設(shè)計(jì) ? 來源:郭婷 ? 作者:電子設(shè)計(jì) ? 2019-05-10 08:15 ? 次閱讀

引 言

隨著電子技術(shù)的發(fā)展,對(duì)現(xiàn)代有源相控陣?yán)走_(dá)的要求越來越高,而T/R組件是構(gòu)成有源相控陣?yán)走_(dá)的核心部件之一,因此對(duì)T/R組件的各個(gè)性能提出了更高的要求。同時(shí)微電子技術(shù)和MMIC電路的發(fā)展為T/R組件的設(shè)計(jì)提供了良好的基礎(chǔ),當(dāng)前組件技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)是在利用HTCC,LTCC等多層微帶基板的基礎(chǔ)上,集成了一片或數(shù)片多功能MMIC電路,再經(jīng)過微電子互連而成。而這種組件具有體積小、重量輕、性能指標(biāo)高、一致性好的特點(diǎn)。

在數(shù)量相同的一組T/R組件中合成發(fā)射功率越大,其雷達(dá)照射的范圍則越大,所以研究高功率T/R組件顯得非常重要。而在T/R組件設(shè)計(jì)時(shí),最關(guān)鍵的是功率放大模塊。該組件運(yùn)用了混合集成電路(HMIC)和多芯片組裝(MCM)相結(jié)合的技術(shù),根據(jù)現(xiàn)有的制造工藝,設(shè)計(jì)出一種平衡放大器作為發(fā)射通道的末級(jí)功放部分,該放大器是兩只功放裸芯片和一個(gè)Wilkinson功分器組成的,最終提高了功率的輸出。

1 T/R組件的原理與組成

T/R組件原理框圖如圖1所示,在發(fā)射通道,由激勵(lì)信號(hào)源送來的信號(hào)送入組件發(fā)射通道經(jīng)過功率放大器使信號(hào)放大后饋至天線輻射單元;在接收通道,從天線收到的微弱信號(hào)經(jīng)接收通道傳到接收機(jī)。

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

組件接收通道包括限幅器、低噪聲放大器和數(shù)字衰減器。在組件發(fā)射期間,若天線有很大的功率反射,此時(shí)限幅器能起到保護(hù)低噪聲放大器的作用。組件發(fā)射通道則是兩級(jí)功放鏈路組成,前兩級(jí)采用芯片,而末級(jí)高功率放大器為下文重點(diǎn)設(shè)計(jì)介紹的。控制電路部分由數(shù)字移相器、數(shù)字可變衰減器、數(shù)字開關(guān)和驅(qū)動(dòng)控制芯片組成。為了設(shè)計(jì)的需要運(yùn)用了正反向的環(huán)形器,一個(gè)當(dāng)作隔離器用,另外一個(gè)作環(huán)形器用。對(duì)于電源部分,因?yàn)榻M件發(fā)射功率器件為GaAs器件,其必須要先加負(fù)壓(Vgs),后加正壓(Vds,加負(fù)壓保護(hù)電路就行。

2 設(shè)計(jì)思路與設(shè)計(jì)過程

設(shè)計(jì)T/R組件時(shí),考慮最關(guān)鍵的就是末級(jí)功放部分,因此本文將對(duì)末級(jí)功放部分展開詳細(xì)探討。

2.1 設(shè)計(jì)思路

設(shè)計(jì)一個(gè)Wilkinson功分器,采用兩個(gè)10 W功率放大器裸芯片進(jìn)行合成,組成一個(gè)平衡放大器。Wil-kinson功分器采用了二等分功分器,原理框圖如圖2所示。因?yàn)樾盘?hào)在輸入功分器的輸出端是同相位的,所以,注入放大器A之前的信號(hào)和放大器B之后的信號(hào)需要相移,將其中的一臂增加了λ/4的線長,這樣可以利用如下公式:

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

如果兩個(gè)放大器完全相同,那么,S11=0,且S22=0,而且增益S21(S12也如此)等于耦合器的單邊增益。2.2 Wilkinson功分器的設(shè)計(jì)與仿真基于現(xiàn)有的工藝水平,選用的導(dǎo)體為金,其厚度為0.01 mm,由于LTCC基板的工藝精度不佳,插損比較大,故而利用陶瓷作為介質(zhì),其介電常數(shù)εr=9.9,厚度為0.635 mm,損耗角正切值為0.006。通過軟件仿真可以計(jì)算出兩段50 Ω的線寬為W1=0.6 mm,70.7 Ω的線寬為W2=0.23 mm。電阻選為100 Ω的薄膜電阻。

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

按照上面的初始參數(shù),利用HFSS仿真的結(jié)果計(jì)算,在X波段,三個(gè)端口的駐波均在1.19以下,兩臂的公分比:端口二約為-3.1 dB,端口三約為-3.5 dB、兩臂的隔離度在-27 dB以下和兩端口的相位差為90°±5°。

2.3 x波段T/R組件的電磁兼容分析

T/R組件中存在著數(shù)字信號(hào)模擬信號(hào)、微波信號(hào)、直流信號(hào)和脈沖信號(hào)等。因此,電磁兼容設(shè)計(jì)將是工程實(shí)現(xiàn),調(diào)機(jī)聯(lián)試中的難點(diǎn),在設(shè)計(jì)階段,必須充分認(rèn)識(shí)到電磁兼容性設(shè)計(jì)的重要性。

2.3.1 腔體效應(yīng)

腔體效應(yīng)是組件EMC設(shè)計(jì)中的一個(gè)重要環(huán)節(jié),除了諧振頻率和相應(yīng)的Q值會(huì)導(dǎo)致組件的不穩(wěn)定工作以外,腔體內(nèi)部具體場(chǎng)分布特征也可能導(dǎo)致組件整體性能上的失敗或成品率的下降。這里設(shè)計(jì)優(yōu)化的目標(biāo)是盡量降低腔體內(nèi)部場(chǎng)分布強(qiáng)度。另外,在熱耗嚴(yán)重地方(末級(jí)功率放大器芯片)不能有高強(qiáng)度的的場(chǎng)分布,如圖4所示。同時(shí),末級(jí)功率放大器的抗失配比對(duì)整個(gè)支路的穩(wěn)定性也具有實(shí)際意義,而加上吸波材料來解決腔體自激現(xiàn)象也非常有用。

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

2.3.2 電源完整性

電源的完整性設(shè)計(jì)對(duì)T/R組件的正常穩(wěn)定工作至關(guān)重要,造成電源不穩(wěn)定的根源主要在于兩個(gè)方面:一是器件高速開關(guān)狀態(tài)下,瞬態(tài)交變電流過大;二是電流回路上存在的電感。

通過改變T/R組件內(nèi)部接地方式,尤其LTCC內(nèi)部接地方式,可以在多層布線結(jié)構(gòu)要求和地平面阻抗之間找到平衡點(diǎn),對(duì)各種電源之間進(jìn)行地的隔離等來改善電源之間的干擾等。

3 功率放大器設(shè)計(jì)的制造工藝

采用中國電子科技集團(tuán)第55研究所的兩只WFD0049型號(hào)GaAs功率管和加工的Wilkinson功分器,此功率管主要參數(shù)為:具有高功率輸出(Pout=40.0 dBm@8.5~10.5 GHz)、高增益(Gain=26 dB@8.5~10.5 GHz)、高效率(ηadd=35%)、帶高集成內(nèi)匹配等優(yōu)點(diǎn)。準(zhǔn)備好后采用如下工藝安裝:

3.1 芯片安裝

針對(duì)X波段高功率T/R組件來說,末級(jí)功放是發(fā)熱較大的功率器件,因此采用的共晶焊,就是通過金錫焊料將裸芯片焊接于芯片載體上,裝配時(shí)基板相應(yīng)位置開孔,帶載體再通過其他方式固定于盒體底部。

3.2 電路互連

末級(jí)放大電路互連時(shí),芯片采用金絲熱壓焊,而基板之間的互連以及芯片電容與基板之間的互連都采用金絲球焊,為了改善微波傳輸性能,射頻輸入輸出金絲應(yīng)該盡量短,盡量使用兩根金絲互連;電源饋電旁路電容離芯片距離應(yīng)盡量短;大電流饋電焊點(diǎn)應(yīng)采用兩根或三根金絲,以防單根金絲過流熔斷;饋電焊點(diǎn)可以采用金絲球焊,能夠增加金絲的可靠性;射頻傳輸也采用金絲球焊,同樣增加了金絲的可靠性,射頻傳輸采用金絲壓焊性能更好。結(jié)構(gòu)示意圖如圖5所示。

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

4 X波段高功率T/R組件的分析

如圖6所示,為X波段高功率T/R組件設(shè)計(jì)的電路布局總體版圖。

使用混合集成電路和多芯片組裝設(shè)計(jì)了高功率的T/R組件

根據(jù)分析,Wilkinson功分器的插損以0.6 dB來計(jì)算,通過計(jì)算得到輸出功率達(dá)到42.4dBm,即為17.8 W,而實(shí)際制造中考慮到加工工藝水平,結(jié)果要差一些,但完全可以達(dá)到16 W。

接收系統(tǒng)的增益大于25 dB,噪聲系數(shù)小于4 dB,移相精度為4°(RMS),衰減精度為0.5°(RMS)。

5 結(jié) 語

對(duì)基于X波段T/R組件的末級(jí)功放的理論設(shè)計(jì),能滿足高功率的要求。該設(shè)計(jì)方案正在投版,由于生產(chǎn)周期原因,還要一段時(shí)間才能加工出實(shí)物,從而進(jìn)行驗(yàn)證,并用于正在研制的X波段T/R組件上。同時(shí)今后仍將對(duì)此改進(jìn),如進(jìn)一步縮小體積,減少插損,及提高隔離度等,將來研制的方向是將所有芯片直接設(shè)計(jì)在同一塊LTCC基板上,并能達(dá)到高性能的T/R組件。

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