三星揭露3納米制程技術路線圖以及7納米投產進度
三星周二舉行晶圓代工技術論壇（Samsung Foundry Forum），同時揭露發展3納米制程的技術路圖，以及7納米投產進度，將搶攻高端運算與聯網裝置市場。
三星晶圓代工部門總裁鄭恩昇（E.S. Jung）表示，3納米制程將首度導入閘極全環（GAA）電晶體，這是下一世代電晶體架構，并將配合極紫外光（EUV）微影設備，來克服物理限制。（cdrinfo.com）
三星7納米是第一個采用EUV技術的半導體制程，按計劃將在2018下半年投產。據三星表示，關鍵知識產權（IP）已在開發，將于2019年上半年完成。
有趣的是，三星表示7納米將應用在網絡、汽車領域，而非效能要求較高的繪圖處理器（GPU），意謂著三星7納米技術似乎未能獲得Nvidia與超微青睞。
超微日前已宣布下一世代Zen 2中央處理器與Navi繪圖處理器，都將交予臺積電以7納米制程代工。
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