光刻設(shè)備被譽(yù)為“工業(yè)技術(shù)皇冠上的明珠”，它是電子產(chǎn)業(yè)中最核心的裝備。中山新諾科技是一家專門從事于數(shù)字化激光光刻設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高端裝備制造商。 2009年底將在國(guó)際上最早發(fā)明無掩模曝光的 技術(shù)團(tuán)隊(duì)引入國(guó)內(nèi)，2012年獲得廣東省創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)的支持。 到2017年9月，新諾科技已完成8個(gè)系列光刻設(shè)備的研發(fā)，累計(jì)發(fā)、售超過200臺(tái)數(shù)字化曝光設(shè)備。多款光刻設(shè)備入選“廣東省首臺(tái)套設(shè)備”。

在世界范圍內(nèi)越來越重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)的今天，很多企業(yè)因?yàn)闆]有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)而喪失了核心競(jìng)爭(zhēng)力。新諾科技始終把知識(shí)產(chǎn)權(quán)作為公司的根本和核心競(jìng)爭(zhēng)力，掌握了數(shù)字化光刻技術(shù)的源頭，是國(guó)內(nèi)唯一一家擁有光刻技術(shù)原始專利并可在世界范圍內(nèi)使用的光刻設(shè)備制造商，已將光刻設(shè)備出口銷往美國(guó)、荷蘭、新加坡、韓國(guó)和***等國(guó)家和地區(qū)。新諾科技在原始專利的基礎(chǔ)上，創(chuàng)新出大量自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)：申請(qǐng)專利75項(xiàng)（已授權(quán)中國(guó)發(fā)明17項(xiàng)、實(shí)用新型10項(xiàng)、 美國(guó)發(fā)明3項(xiàng)）；軟件著作權(quán)7項(xiàng)；企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)3項(xiàng)。

技術(shù)來源

新諾科技的核心技術(shù)源自公司CTO梅文輝博士——世界上首位將數(shù)字微鏡陣列（DMD）技術(shù)應(yīng)用于光刻領(lǐng)域的科學(xué)家，被光刻行業(yè)譽(yù)為“The Father of Maskless”（無掩模光刻之父）。

1998~2006年，梅博士在美國(guó)球型半導(dǎo)體公司帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)研究無掩模光刻技術(shù)，并圍繞這項(xiàng)研究 獲得了100多項(xiàng)專利技術(shù)，之后梅博士的無掩模光刻專利被國(guó)際上數(shù)家大公司采用。

2009~2010 年重組美國(guó)球形半導(dǎo)體公司，將梅文輝博士主導(dǎo)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)集合在一起，利用加拿大Aiscent Tech公司作為平臺(tái)，取得LDI發(fā)明專利在世界范圍內(nèi)的使用權(quán)，將這項(xiàng)技術(shù)和團(tuán)隊(duì)帶回中山新諾科技股份有限公司，重新開始展開研發(fā)、生產(chǎn)、銷售無掩模光刻設(shè)備的業(yè)務(wù)，并快 速擴(kuò)展到多個(gè)領(lǐng)域的無掩膜光刻的應(yīng)用之中。

發(fā)展歷程

2017年，客戶端

累計(jì)裝機(jī)200臺(tái)

榮譽(yù)資質(zhì)

知識(shí)產(chǎn)權(quán)

公司掌握了國(guó)際上數(shù)字化光刻技術(shù)的源頭，擁有數(shù)字化光刻技術(shù)原始專利并在此基礎(chǔ)上創(chuàng)新出大量自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)：申請(qǐng)專利75項(xiàng)（已授權(quán)中國(guó)發(fā)明17項(xiàng)、實(shí)用新型10項(xiàng)、 美國(guó)發(fā)明3項(xiàng)）；軟件著作權(quán)7項(xiàng)；企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)3項(xiàng)。

技術(shù)及主要產(chǎn)品

新諾科技分別開發(fā)了適用于高精度電路板、大平板顯示、半導(dǎo)體集成電路、集成電路高密度封裝、觸摸屏、大面積光掩模版、光化學(xué)精密加工等領(lǐng)域應(yīng)用的無掩模光刻設(shè)備系列產(chǎn)品。其中已產(chǎn)業(yè)化的有：高精密印刷電路板（PCB）數(shù)字化光刻（單臺(tái)面、雙臺(tái)面、全自動(dòng)連線）設(shè)備；激光無掩模雙面LDI設(shè)備；集成電路芯片高密度/3D封裝數(shù)字化光刻設(shè)備；卷到卷柔性線路板激光直接曝光設(shè)備；觸摸屏無掩模曝光設(shè)備；高精密光掩模和金屬掩模激光直寫曝光設(shè)備；TFT/OLED顯示屏數(shù)字化光刻設(shè)備。國(guó)內(nèi)外的客戶已經(jīng)超過100多家（包括美國(guó)，荷蘭，新加坡，韓國(guó)等發(fā)達(dá)國(guó)家，其中雙面數(shù)字化光刻設(shè)備銷售給國(guó)際上最大的光刻設(shè)備ASML公司的平行公司ASM Pacific）。

高精度印刷電路板曝光設(shè)備

01單臺(tái)面激光直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：高精度HDI、內(nèi)外層板、多層板、軟板量產(chǎn)，快板打樣，多品種小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

適用于濕膜、干膜內(nèi)外層板曝光制程

高功率低能耗半導(dǎo)體激光器

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時(shí)漲縮管控和分區(qū)域失真補(bǔ)償技術(shù)

02雙臺(tái)面直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：高精度HDI、PCB、FPS的高速量產(chǎn)

打樣，多品種小批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

采用雙臺(tái)面結(jié)構(gòu)

可采用大功率混合波長(zhǎng)激光光源

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時(shí)漲縮管控和分區(qū)域?qū)崙?zhàn)補(bǔ)償技術(shù)

03全自動(dòng)連線直接成像曝光系統(tǒng)PCB系統(tǒng)Jupiter 8000系列

應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于HDI、FPC、硬板結(jié)合的內(nèi)外層線路制程，大批量生產(chǎn)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

高功率低能耗固態(tài)光源

多光學(xué)引擎掃描技術(shù)

實(shí)時(shí)漲縮管控和分區(qū)域失真補(bǔ)償技術(shù)

全制程兼容性

超高的產(chǎn)能

04絲網(wǎng)直接制版系統(tǒng)PCB系統(tǒng)CTS系列

應(yīng)用領(lǐng)域：CTS系統(tǒng)是專門針對(duì)高精度、大面積網(wǎng)版曝光而實(shí)際的直接成像（數(shù)字化曝光）設(shè)備。主要應(yīng)用于：電路板印刷（字符、線路、防焊）、工業(yè)品印刷、觸摸屏、太陽能電池、工程玻璃及汽車玻璃、印染、陶瓷燈希望印刷行業(yè)的絲網(wǎng)曝光制版。

產(chǎn)品特點(diǎn)

兼顧高產(chǎn)能和高精度

無需使用菲林，采用數(shù)字化直接成像技術(shù)，大幅度降低網(wǎng)版制作的人工、材料成本。資料分辨力最高可至23400dpi，提升網(wǎng)版的生產(chǎn)精度及品質(zhì)。

更優(yōu)秀的成像品質(zhì)和不同耗材的應(yīng)用性

采用高功率固態(tài)光源，方形像素可提供更高的成像質(zhì)量，高能量可支持傳統(tǒng)的感光材料，光源壽命長(zhǎng)，可靠性高，無污染。

低維護(hù)成本

采用固態(tài)光源和LED光源具有壽命長(zhǎng)和維護(hù)成本低的優(yōu)勢(shì)。

設(shè)備使用能耗低，僅為傳統(tǒng)曝光機(jī)的一半。

國(guó)內(nèi)主要客戶