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臺積電:“7nm”工藝客戶最終將轉型至其即將推出“6nm”工藝

aPRi_mantianIC ? 來源:YXQ ? 2019-05-06 15:27 ? 次閱讀

在本周的季度收益電話會議上,臺積電方面透露,該公司預計其大部分7nm“N7”工藝客戶最終將轉型至其即將推出的6nm“N6”工藝制造節點。即將到來的“N6”工藝節點將使用與“N7”節點相同的設計規則,使客戶更容易轉換到更新,更密集的節點。而且,如果臺積電的預測成真,N6毫無疑問將成為臺積電下一個廣泛使用,長期服務的流程節點。

此前有消息報道,臺積電的N6工藝技術采用極紫外光刻(EUVL),通過減少多圖案化所需的曝光次數來降低制造復雜性(目前需要這種曝光,因為TSMC的N7僅使用DUV光刻)。臺積電沒有明確說明在N7+或N6上有多少層使用EUVL,但已經證實后者與前者相比增加了一個額外的EUVL層。

雖然臺積電的N6采用新的生產設備,晶體管密度比N7制造技術高出18%,但N6采用與N7相同的設計規則,使芯片設計人員能夠重復使用相同的設計生態系統(例如工具等) ,這將使他們降低開發成本。相比之下,N7+使用不同的設計規則,但與N7相比,它還提供了比N6更多的優勢。

雖然臺積電的合作伙伴采用了N7和N7+兩種工藝,并且全球最大的芯片合約制造商預計這兩種技術在2019年將占其晶圓收入的25%以上,但前者看起來比后者更受歡迎。與此同時,臺積電預計今天使用N7的大多數客戶將轉向N6,然后轉向N5跳過N7+。考慮到N7的普及程度,N6也可能會非常受歡迎。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:臺積電6nm到來,大部分7nm客戶將轉型

文章出處:【微信號:mantianIC,微信公眾號:滿天芯】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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