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2018年至2024年壓電器件市場的發展情況預測

電子工程師 ? 來源:網絡整理 ? 作者:佚名 ? 2019-11-19 09:32 ? 次閱讀

對于壓電器件來說,目前正在經歷一個光明時期!5G通信、個人語音助手、消費類可穿戴設備、指紋識別和醫療設備都是壓電器件的候選應用。自從20世紀初,當石英成為軍事應用中聲吶器件的可選材料時,壓電技術就已發展出多種產品類型,并在多種應用領域中發揮作用。如今,壓電特性為換能器(傳感器和執行器)提供了很好的市場機遇。

壓電陶瓷應用(傳感器和執行器)

據麥姆斯咨詢介紹,塊體型壓電器件由具有一定結構形式的石英或陶瓷材料制成,無論是普通還是高端電子產品中皆可發現其身影。另一方面,自21世紀初以來,先進材料和技術不斷發展,如利用半導體工藝(包括MEMS工藝)來應對小型化和高度集成化的雙重挑戰,以滿足智能手機等消費類產品的海量需求。壓電薄膜沉積技術在MEMS產業中變得越來越重要,主要涉及材料是鋯鈦酸鉛(PZT)和氮化鋁(AlN)。每種壓電材料都有其特殊規格/性能,需要根據應用需求選擇合適的材料制成傳感器或執行器。例如,愛普生(Epson)和賽爾(Xaar)均使用薄膜PZT沉積工藝來制造壓電噴墨打印頭,主要應用領域為工業打印機,詳情請查看報告:《愛普生PrecisionCore壓電噴墨打印頭》和《Xaar 1201壓電噴墨打印頭》。

相關報告推薦:《電子產業的噴墨打印制造及增材制造-2018版》

PZT壓電材料應用之噴墨打印頭

雖然一些器件采用的壓電材料已從塊體轉向薄膜,但是具體的應用場景仍會影響塊體或薄膜類型的選擇。壓電MEMS超聲換能器(PMUT)是壓電材料從塊體轉向薄膜的完美示例,PMUT器件已被廣泛用于指紋識別和手勢識別。另一個有前途的應用領域是醫學成像,基于塊體和薄膜的壓電器件(用于超聲波成像探頭)將處于共存狀態,需根據應用需求和性能進行選擇使用。由于塊體壓電材料和技術的進步,TDK近期推出了厚度為0.45mm~0.7mm的PiezoListen壓電揚聲器,展示了一種從塊體材料中獲得最薄壓電層的方法。總而言之,大家需要深入理解:壓電材料的“轉型”不是“競爭”——塊體型和薄膜型是兩種互補的方法!

相關報告推薦:《醫療、工業和消費類應用的超聲波傳感技術

兩種壓電技術(塊體型和薄膜型)應用

本報告分析了壓電材料的轉型及最有前景的應用,從微型壓電揚聲器和麥克風到MEMS微鏡和自動對焦執行器,當然包括非常熱門的薄膜體聲波諧振器(FBAR)!報告介紹了這些壓電器件的進展狀態和產品可用性路線圖。此外,還深入探討了壓電材料對換能器(傳感器和執行器)的性能影響,以及壓電市場趨勢和技術路線選擇。

揚聲器和微型揚聲器:尺寸與性能關系

壓電器件市場快速發展,2024年將達485億美元

2018~2024年壓電器件市場(薄膜型 vs. 塊體型)

2018年壓電器件市場規模為238億美元,預計2024年將達到485億美元,2018~2024年期間的復合年增長率為12.6%。盡管塊體型壓電器件的市場份額仍然較大,但是薄膜型壓電器件的成長勢頭更猛。在整個壓電器件市場中,射頻RF濾波器受益于5G通信而快速發展,包括SAW濾波器和BAW濾波器。博通(Broadcom)和Qorvo是射頻濾波器領域的主要薄膜型壓電器件廠商

AlN壓電材料應用之射頻濾波器(FBAR)

薄膜型壓電器件廠商近期受到亞馬遜(Amazon)等互聯網巨頭的青睞,希望募集資金以支持研發超低功耗的微型壓電揚聲器和壓電MEMS麥克風。而塊體型壓電器件具有很高的驅動性能,可用于噴墨打印頭和直線電機等應用,實現非常精確的運動控制。

PZT壓電材料應用之MEMS揚聲器

AlN壓電材料應用之MEMS麥克風

本報告預測未來五年塊體型和薄膜型壓電器件的增長情況,說明這兩類器件的發展趨勢和動態,并重點分析市場關注的壓電器件。

PZT壓電材料應用之慣性傳感器(陀螺儀

薄膜沉積工藝:溶膠-凝膠法 vs. 物理氣相沉積法

一些MEMS代工廠針對壓電薄膜技術進行研究,并開發了壓電薄膜制造工藝。例如Globalfoundries的AlN壓電MEMS技術為Vesper量產MEMS麥克風;意法半導體(STMicroelectronics)的PZT壓電MEMS技術為Usound量產MEMS揚聲器。在薄膜沉積工藝方面,主要是兩大類技術之間的競爭:(1)溶膠-凝膠法(Sol-Gel);(2)物理氣相沉積法(PVD),如濺射法(Sputtering)或脈沖激光沉積法(Pulsed Laser Deposition,PLD)。溶膠-凝膠法具有更好的固有薄膜特性、良好的均勻性和更高的擊穿電壓。但是,當考慮大批量生產時,吞吐量成為主要考慮因素,這也是溶膠-凝膠法的局限之處。

PZT壓電薄膜沉積:溶膠-凝膠法(Sol-Gel)

大多數MEMS整合元件制造商(IDM)和代工廠已經對他們的工藝路線做出抉擇。富士膠片(Fujifilm)Dimatix和博世Bosch)選擇濺射法,而意法半導體和羅姆(Rohm)采用溶膠-凝膠法。設備制造商在開發正確的工藝中發揮著重要作用:例如,總部位于荷蘭的設備制造商SolMAteS最近宣布,其PLD技術已進入5G基站和接收器市場。

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