新思科技近日宣布，三星(Samsung Electronics)認證了新思科技Fusion Design Platform?，用于三星采用EUV光刻技術的5納米Low-Power Early(早期低功耗，簡稱“LPE”)工藝。人工智能(AI)增強型云就緒Fusion Design Platform提供前所未有的全流程設計實現質量和設計收斂速度，實現三星5LPE工藝技術提供的超高性能和低功耗，加速新一波半導體設計的開發，包括高性能計算(HPC)、汽車、5G和人工智能細分市場。
“7納米產品的交付以及5納米工藝開發的成功完成，證明了我們在基于EUV節點方面的能力。使用新思科技Fusion Design Platform，我們的共同客戶將能夠設計出最具競爭力的5LPE系統級芯片(SoC)產品，以滿足超高性能和低功耗應用的需求。新思科技仍然是我們的首選廠商，在新節點開發和實現方面開展合作，因此我們的代工廠客戶可以放心地在所有細分市場(包括汽車、人工智能、高性能計算和移動)提升他們的設計。”
——JY Choi
三星設計技術團隊副總裁
三星代工廠使用64位Arm? Cortex?-A53和Cortex-A57處理器設計(基于Armv8架構)為Fusion Design Platform提供了認證。
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原文標題：新思科技Fusion Design Platform成為首個獲得三星EUV技術5LPE工藝認證的平臺
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