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多家DRAM廠商開始評估采用EUV技術量產

半導體動態 ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-06-18 17:20 ? 次閱讀
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繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯制程導入極紫外光(EUV)微影技術后,同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術量產。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術生產1z納米DRAM,SK海力士及美光預期會在1α納米或1β納米評估導入EUV技術。

由于先進制程采用EUV微影技術已是趨勢,在臺積電第二季EUV技術7+納米進入量產階段并獲***量產7納米制程,英特爾預期2021年7納米會首度導入EUV技術。而隨著制程持續推進至5納米或3納米后,EUV光罩層會明顯增加2~3倍以上,對EUV光罩盒需求亦會出現倍數成長。

另外,占全球半導體產能逾3成的DRAM,也開始逐步導入EUV技術。業者指出,DRAM市場供給過剩且價格跌至變動成本,DRAM廠雖然放緩產能擴充但無法讓價格明顯止跌,維持獲利的唯一方法就是微縮制程來降低單位生產成本。不過,DRAM制程向1z納米或1α納米制程推進的難度愈來愈高,隨著EUV量產技術獲得突破,或可有效降低DRAM成本。

三星預期在今年11月開始量產采用EUV技術的1z納米DRAM,量產初期將與三星晶圓代工共享EUV設備,初期使用量雖不大,但卻等于宣示DRAM光罩微影技術會朝EUV方向發展。至于SK海力士及美光也已表明開始評估采用EUV技術,業界預期將可能在1α納米或1β納米世代開始導入。

總體來看,在邏輯IC及DRAM的先進制程開始采用EUV技術后,對EUV光罩盒需求在明、后兩年都會呈現倍數成長。

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