6月18日，臺(tái)積電在上海舉辦了2019中國(guó)技術(shù)論壇（TSMC2019 Technology Symposium）。臺(tái)積電總裁魏家哲介紹了先進(jìn)工藝的發(fā)展規(guī)劃。在半導(dǎo)體制造工藝逐漸接近物理極限的情況下，臺(tái)積電仍在持續(xù)推進(jìn)摩爾定律的演進(jìn)步伐。目前臺(tái)積電規(guī)劃量產(chǎn)的工藝節(jié)點(diǎn)已經(jīng)到5nm，研發(fā)方面推進(jìn)到3nm。日前官宣2nm研發(fā)啟動(dòng)。而根據(jù)相關(guān)人員介紹，實(shí)際1nm，甚至是亞納米層次也都有在關(guān)注。

N5P量產(chǎn)預(yù)計(jì)落在2021年

近來(lái)，三星在邏輯代工方面的勢(shì)頭很猛，不僅獲得高通公司下一代旗艦處理器驍龍 865的代工訂單，還與Nvidia和AMD合作，代工GPU芯片。可謂風(fēng)頭一時(shí)無(wú)二。不過(guò)，臺(tái)積電對(duì)此平靜看待。在論壇上，魏家哲介紹了臺(tái)積電在先進(jìn)工藝上的發(fā)展規(guī)劃，7nm方面，臺(tái)積電已經(jīng)于2018年實(shí)現(xiàn)了工藝量產(chǎn)。魏家哲強(qiáng)調(diào)這也是全球第一家量產(chǎn)化的7nm。目前市面上的7nm芯片，全部出自臺(tái)積電代工生產(chǎn)。今年臺(tái)積電還將實(shí)現(xiàn)加強(qiáng)版的7納米工藝即N7+。其將在芯片的部分關(guān)鍵層生產(chǎn)中導(dǎo)入EUV設(shè)備，從而減少光罩的采用、降低成本，提高制造效率。

論壇上，臺(tái)積電副總經(jīng)理張曉強(qiáng)還特別強(qiáng)調(diào)了6nm工藝。這是7納米的另一個(gè)升級(jí)版，計(jì)劃明年推出量產(chǎn)。同樣采用了EUV設(shè)備，由于其可以利用N7的全部IP，N7的客戶可以更便捷地導(dǎo)入，在提高產(chǎn)品性能的同時(shí)兼顧了成本。

在5納米方面，臺(tái)積電表示目前已經(jīng)導(dǎo)入試產(chǎn)，計(jì)劃于明年第一、二季開始量產(chǎn)。此外，臺(tái)積電還透露了一個(gè)N5P的節(jié)點(diǎn)，以前較少被提及。這是一個(gè)5納米工藝的加強(qiáng)版，有點(diǎn)像7納米節(jié)點(diǎn)的N7+。資料顯示，N5P在恒定功率下可提高+7%的性能，或在恒定perf 下比N5降低約15%的功率。預(yù)計(jì)該工藝平臺(tái)將在N5的下一年推出，即2021年量產(chǎn)。

2019年資本支出100億-110億美元

產(chǎn)能同樣是本次論壇上，臺(tái)積電介紹的重點(diǎn)。魏家哲表示，為客戶提供充足的產(chǎn)能，領(lǐng)先的技術(shù)和充分的服務(wù)支持是臺(tái)積電的價(jià)值所在。

據(jù)了解，臺(tái)積電在12英寸的產(chǎn)能達(dá)到 1200萬(wàn)片晶圓，8英寸的也有1100萬(wàn)片晶圓。其中增長(zhǎng)最快的是7nm的產(chǎn)能，預(yù)計(jì)今年就可以達(dá)到100萬(wàn)片晶圓，成為臺(tái)積電營(yíng)收的主力之一。

產(chǎn)能的擴(kuò)張離不開巨額的投資。2018年臺(tái)積電用于擴(kuò)充產(chǎn)能方面的資本支出為105億美元，預(yù)計(jì)2019年投資額將在100億至110億 美元之間。

臺(tái)積電在中國(guó)大陸投資動(dòng)向，同樣是外界的關(guān)注點(diǎn)之一。目前臺(tái)積電的南京廠生產(chǎn)的是16/12nm工藝，月產(chǎn)能為1.5萬(wàn)片晶圓。計(jì)劃明年擴(kuò)產(chǎn)為2萬(wàn)片/月。至于未來(lái)是否會(huì)導(dǎo)入新的工藝，則要看用戶的需求而定。