投影儀通常是最煩人的技術。你可以用一臺舊的學校投影儀和一些漂亮的黃油爆米花來舉辦一個電影之夜，但卻無法找到投影圖像不彎曲的地方;你可能試圖給你的同齡人和老板們做一個極具影響力的演示，只是遇到投影機已經壓制了你的所有圖像和圖形;您可能正在嘗試教授課程并發現投影機僅傳輸黑白圖像。由于投影圖像看起來很荒謬，所以花費在幻燈片上的所有時間似乎都浪費了。能夠控制投影機及其顯示器的對齊可以解決許多高壓力情況。

制造PCB時，會發生類似的光學對準。它們是光刻工藝的一部分，用于在PCB構建時鋪設圖案化層。不要因為出現彎曲的滑塊而受到影響，當然也不要讓PCB設計中的元件錯位。了解如何正確規劃光刻工藝，以及了解可能影響光刻工藝的因素并導致缺陷。

PCB制造如何受光刻影響？

PCB制造中使用的蝕刻和電鍍工藝不是很有方向性。如果電路板上沒有圖案化的保護涂層，則不加區分地蝕刻，電鍍或涂覆所有涂層。保護圖案可以是金屬模板，聚酰胺片或抗蝕劑。制造過程決定了哪種材料最合適 - 例如，您不希望在蝕刻過程中使用金屬模板，因為模板會在幾塊電路板上損壞后無法使用。

抗蝕劑對光敏感（稱為“商業”中的光敏）特定波長的光，通常是紫外線。光刻工藝用于將特定區域暴露于光，因此這些區域中的抗蝕劑被固化或硬化。其余部分被沖走，使特定區域清晰，以便進行下一階段的處理。用于控制圖案區域的掩模（如用于光線的模板）需要與光源和PCB對齊，以確保不會像投影儀屏幕那樣產生奇怪的效果。否則，你會開始看到光刻中的一些缺陷。

角落周圍較弱的光源制造過程中會出現問題。

光刻缺陷的來源

您可能無法在投影機上找到正確的對齊方式 - 有些東西是你無法控制。但是，您可以跟蹤光刻缺陷的潛在來源并制定計劃。這里有一些要記住：

陰影：如果你的制造商保持環境清潔，希望你永遠不必處理這個。然而，有時候，當光線應該固化抗蝕劑時，你會讓粒子落在面具上并投下陰影，比如把一把椅子放在投影儀前面并切掉一小部分圖像。這意味著某些區域不會像預期的那樣變硬，而是會在下一個加工步驟中被蝕刻。

劑量和曝光問題：抗蝕劑曝光的光的“劑量”計算為積分 - 它是光在整個曝光時間內的亮度。如果時間關閉，或者光線太暗，則抗蝕劑可能無法獲得足夠高的劑量以使其一直硬化。有時，光源不均勻，因此抗蝕劑上的固化相應地不均勻。這里的結果各不相同。如果蝕刻或電鍍步驟很快并且您的制造商具有堅韌的抗蝕劑，您可能會很好。或者，您可能會看到在下一步中抗蝕劑開始剝落，并且一小部分電路板開始暴露于它不應該接觸到的東西。

縱橫比：問題是任何一個都有輕微的角度偏差光，面罩或PCB。它與錯誤角度的投影儀相同，使得幻燈片的頂部和底部的寬度不同。在PCB上，這意味著抗蝕劑掩模將使用不正確的縱橫比（孔徑寬度與模板厚度）。當電路板完成后，焊接質量較差的風險較高，這通常會導致開路。如果電路板沒有正確固化，您可能還有內層和外層以不同的速率出現收縮，膨脹和翹曲，這也可能導致縱橫比問題。這不僅適用于光刻技術，而且可能會在以后導致電路板翹曲。這種縮小和擴展通常是由于CTE不匹配，這也受到整體PCB尺寸的影響，大板更容易出現問題。

對齊：未對準也可以是水平或垂直平移，其中圖案的布置距離本來應有的幾毫米或更小。隨著特征尺寸的減小，小的不對準會產生更大的影響，因為它更容易錯過焊盤或整個焊盤。隨著公差的減小，請確保您的制造商能夠生產并配合足夠小的特征以符合您的電路板規格。

公差：公差非常重要，值得一些額外的注意事項。特征尺寸周圍的公差取決于您的過程。有些蝕刻劑容易過度蝕刻到需要保護的區域，因此需要設計掩模層來解決這個問題。對油漆或絲網印刷層進行印刷更加寬容。

蝕刻是一個需要遮罩的過程，即使是家庭PCB生產。

就像你的演示文稿中可能出現的一些問題一樣 - 影響你的PCB制造過程的其他因素也是如此。您的特征尺寸和位置也會影響公差;非常靠近的小墊子沒有太多的錯誤緩沖。一些蝕刻是定向的并且將需要更厚的抗蝕劑層或在x或y方向上更好的公差。這里的關鍵是與制造商密切合作，確保您了解用于生產PCB的工藝的限制和要求。圍繞制造能力規劃您的設計將為您節省很多挫折。

光刻中使用的掩模通常是從PCB設計中的gerber文件生成的。您應該使用一種軟件，讓您的電路板的每一層都有足夠的文件，并與您的制造商的系統完全集成。轉換工件本身就是一堆問題！ Altium的CircuitStudio?是一種成熟的PCB設計軟件，可用于各種產品，能夠滿足您的軟件設計需求。您今天可以通過與Altium的專家交談來開始使用它。