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發布了方案 2022-08-04 17:18
上海伯東光刻機氦質譜檢漏法
半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310.439瀏覽量 -
發布了方案 2022-08-04 16:59
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發布了方案 2022-08-04 16:54
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發布了方案 2022-08-04 16:17
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發布了方案 2022-08-04 15:30
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發布了產品 2022-08-04 13:56
模塊化氦質譜檢漏儀 ASI 35,檢漏模塊
產品型號:ASI 35 品牌:Pfeiffer 型號:ASI 35 產地:法國179瀏覽量 -
發布了產品 2022-08-04 13:38
氫氦雙檢吸槍檢漏儀 ASM 306 S
產品型號:ASM 306 S 品牌:Pfeiffer 型號:ASM 306S 產地:法國131瀏覽量 -
發布了產品 2022-07-28 09:23
便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310
產品型號:ASM 310 品牌:Pfeiffer 型號:ASM310 產地:法國333瀏覽量 -
發布了產品 2022-07-28 09:19
芯片氣密性測試用氦質譜檢漏儀 ASM 390
產品型號:ASM 390 品牌:Pfeiffer 型號:ASM 390 產地:法國333瀏覽量 -
發布了產品 2022-07-28 09:16
光模塊氣密性測試用氦質譜檢漏儀 ASM340
產品型號: ASM340 型號:ASM340 品牌:Pfeiffer 產地:法國227瀏覽量