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中科院半導(dǎo)體所

文章:1034 被閱讀:286.5w 粉絲數(shù):194 關(guān)注數(shù):0 點贊數(shù):31

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芯片制造過程中的兩種刻蝕方法

本文簡單介紹了芯片制造過程中的兩種刻蝕方法 ? 刻蝕(Etch)是芯片制造過程中相當(dāng)重要的步驟。 刻....
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Monitor Wafer的核心功能、特點、生產(chǎn)流程和應(yīng)用

? 文本簡單介紹了非生產(chǎn)晶圓Monitor Wafer的核心功能、特點、生產(chǎn)流程和應(yīng)用。 Monit....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-06 10:59 ?341次閱讀

不同材料間的焊接冶金特性

本文簡單介紹了不同材料間的焊接冶金特性。 不同材料間的焊接冶金特性是超聲波壓焊技術(shù)中需要重點關(guān)注的問....
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菱形石墨烯結(jié)構(gòu)及其中的量子反常霍爾效應(yīng)

本文簡單介紹了菱形石墨烯莫爾結(jié)構(gòu)以及該材料中的量子反常霍爾效應(yīng)以及未來的應(yīng)用方向。 莫爾材料的出現(xiàn)開....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-06 09:52 ?115次閱讀

光罩(Mask)的系統(tǒng)性講解

? ? ? 本文介紹了什么是光罩(Mask)。 光罩(Mask),也稱為掩膜版,是集成電路(IC)制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-06 09:33 ?438次閱讀
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半導(dǎo)體所在PZT光電子材料與器件領(lǐng)域取得重大突破

數(shù)據(jù)中心、人工智能和云計算等技術(shù)的飛速發(fā)展導(dǎo)致全球流量需求激增,對高速信息網(wǎng)絡(luò)的構(gòu)建提出了前所未有的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-05 16:46 ?315次閱讀
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刻蝕工藝的參數(shù)有哪些

本文介紹了刻蝕工藝參數(shù)有哪些。 刻蝕是芯片制造中一個至關(guān)重要的步驟,用于在硅片上形成微小的電路結(jié)構(gòu)。....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-05 16:03 ?515次閱讀
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第三代寬禁帶半導(dǎo)體:碳化硅和氮化鎵介紹

? 第三代寬禁帶功率半導(dǎo)體在高溫、高頻、高耐壓等方面的優(yōu)勢,且它們在電力電子系統(tǒng)和電動汽車等領(lǐng)域中有....
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激光導(dǎo)熱儀設(shè)備原理

本文介紹激光導(dǎo)熱儀 微納電子器件和光電器件向著模塊化、集成化、高頻化及小型化的方向不斷邁進,使其單位....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 14:00 ?248次閱讀
激光導(dǎo)熱儀設(shè)備原理

聲光調(diào)制原理說明

本文介紹聲光調(diào)制 聲光是研究聲音如何改變這種介質(zhì)對光的影響,如圖所示。許多有用的光子器件利用聲音控制....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 13:58 ?454次閱讀
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填充片的定義及作用

本文介紹填充片的定義及作用 一、Dummy Wafer 的定義與作用 Dummy Wafer,中文稱....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 13:56 ?244次閱讀

從平面晶體管到FinFET的演變

在90納米制程之前,每一代集成電路技術(shù)節(jié)點的縮放不僅帶來了更高的器件密度,還提升了器件性能。然而,當(dāng)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 11:04 ?300次閱讀
從平面晶體管到FinFET的演變

模塊封裝的關(guān)鍵工藝

區(qū)別于分立器件模塊的制造有一些特別的關(guān)鍵工藝技術(shù),如銀燒結(jié)、粗銅線鍵合、端子焊接等。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 11:01 ?246次閱讀
模塊封裝的關(guān)鍵工藝

多芯片封裝的基本概念和關(guān)鍵技術(shù)

本文簡單介紹了多芯片封裝的概念、技術(shù)、工藝以及未來發(fā)展趨勢。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-04 10:59 ?577次閱讀
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干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法

本文介紹了干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側(cè)壁彎曲? 如上圖,是典型的干法刻蝕時,側(cè)壁彎曲....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-03 11:00 ?264次閱讀
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晶圓表面溫度對干法刻蝕的影響

本文介紹晶圓表面溫度對干法刻蝕的影響 表面溫度對干法刻蝕的影響主要包括:聚合物沉積,選擇性,光刻膠流....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-03 10:48 ?308次閱讀
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鍵合絲焊接質(zhì)量控制說明

本文重點圍繞焊點機械性能指標(biāo)的測試方法和判定標(biāo)準(zhǔn),介紹了焊點測試、過程能力指數(shù)以及焊接不良的分析。 ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-03 09:29 ?151次閱讀
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功率模塊封裝工藝有哪些

本文介紹了有哪些功率模塊封裝工藝。 功率模塊封裝工藝 典型的功率模塊封裝工藝在市場上主要分為三種形式....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-02 10:38 ?320次閱讀
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電光效應(yīng)之普克爾效應(yīng)和克爾效應(yīng)

本文介紹了電光效應(yīng)之普克爾效應(yīng)和克爾效應(yīng)。 電光是光子學(xué)的一個分支,研究光束的調(diào)制、切換、偏轉(zhuǎn)、掃描....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-02 10:27 ?333次閱讀
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SiO2薄膜的刻蝕機理

本文介紹了SiO2薄膜的刻蝕機理。 干法刻蝕SiO2的化學(xué)方程式怎么寫?刻蝕的過程是怎么樣的?干法刻....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-02 10:20 ?334次閱讀
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干法刻蝕工藝的不同參數(shù)

? ? ? 本文介紹了干法刻蝕工藝的不同參數(shù)。 干法刻蝕中可以調(diào)節(jié)的工藝參數(shù)有哪些?各有什么作用? ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 12-02 09:56 ?438次閱讀

晶圓制造生產(chǎn)周期時間的概念及意義

本文介紹生產(chǎn)周期時間的概念以及其意義。 生產(chǎn)周期時間的概念 生產(chǎn)周期時間是指從生產(chǎn)原料(如硅片)進入....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-28 11:16 ?427次閱讀

常見的表面測量方法簡介

可實現(xiàn)更小晶體管的下一代技術(shù)是高數(shù)值孔徑EUV光刻。 眼睛是心靈的窗戶,人腦接收到的信息80%都是來....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-28 10:53 ?299次閱讀
常見的表面測量方法簡介

一文看懂光刻技術(shù)的演進

光刻機的分辨率受光源波長(λ)、工藝因子(k1)和數(shù)值孔徑(NA)三個主要參數(shù)的影響。根據(jù)瑞利第一公....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-28 09:58 ?638次閱讀
一文看懂光刻技術(shù)的演進

激光束能投射陰影,科學(xué)家顛覆傳統(tǒng)認(rèn)知

??? 光及其與物質(zhì)的各種相互作用的研究,幾個世紀(jì)以來一直是科學(xué)探究的基石。從早期對反射和折射現(xiàn)象的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-28 09:09 ?170次閱讀

第三代半導(dǎo)體氮化鎵(GaN)基礎(chǔ)知識

第三代半導(dǎo)體氮化鎵(GaN)。它以其卓越的性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域,在科技界掀起了一陣熱潮。 ? 今天我....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-27 16:06 ?547次閱讀
第三代半導(dǎo)體氮化鎵(GaN)基礎(chǔ)知識

一種名為MARORA的等離子體選擇氧化裝置

??? 隨著半導(dǎo)體器件的精細(xì)化,晶體管柵極的尺寸逐漸縮小或微小結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜。蝕刻過程中,蝕刻損傷會....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-27 15:59 ?225次閱讀
一種名為MARORA的等離子體選擇氧化裝置

硅晶棒產(chǎn)率提升措施

??? 主要回答以下兩個問題:加大硅芯直徑對產(chǎn)率有什么影響?加大硅棒的最終直徑對產(chǎn)率有什么影響???....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-27 10:56 ?156次閱讀
硅晶棒產(chǎn)率提升措施

隧穿晶體管的原理及優(yōu)勢

本文介紹了隧穿晶體管的原理及它的優(yōu)勢。 ? 我們所處的這個由永遠(yuǎn)在線的個人電腦、平板電腦和智能手機構(gòu)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-27 09:04 ?320次閱讀
隧穿晶體管的原理及優(yōu)勢

等離子清洗技術(shù)原理??、分類???、特點、應(yīng)用及發(fā)展趨勢

??? 等離子清洗技術(shù)是一種新型的表面處理技術(shù),它通過利用等離子體中的活性粒子與材料表面的化學(xué)反應(yīng),....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 11-26 11:42 ?353次閱讀
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