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中科院半導(dǎo)體所

文章:1036 被閱讀:286.5w 粉絲數(shù):194 關(guān)注數(shù):0 點(diǎn)贊數(shù):31

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在SPICE模擬器中應(yīng)該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)?需要全部調(diào)優(yōu)嗎?

在SPICE模擬器中有幾十種標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體器件模型,例如,用于GaN器件的最新ASM-HEMT模型有近....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-06 10:37 ?1032次閱讀
在SPICE模擬器中應(yīng)該調(diào)諧優(yōu)化哪些模型參數(shù)?需要全部調(diào)優(yōu)嗎?

MCU、DSP、PLC三者的比較和分析

PLC廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動化控制系統(tǒng)中,包括機(jī)床控制、流水線控制、機(jī)器人控制、電力系統(tǒng)控制等領(lǐng)域。PL....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 14:51 ?2941次閱讀

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來定。比如對于需要長時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場景,較厚的光刻膠層....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 10:49 ?696次閱讀
如何在芯片中減少光刻膠的使用量

基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

電子束光刻(e-beam lithography,EBL)是無掩膜光刻的一種,它利用波長極短的聚焦電....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 03-04 10:19 ?2019次閱讀
基于SEM的電子束光刻技術(shù)開發(fā)及研究

光學(xué)巴比涅原理及應(yīng)用

巴比涅原理???,也譯作巴俾涅原理,指在點(diǎn)光源照射下,一個(gè)不透光物體產(chǎn)生的衍射圖樣和一個(gè)帶有與該物體....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-29 14:39 ?2302次閱讀
光學(xué)巴比涅原理及應(yīng)用

在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進(jìn)行修調(diào)呢?

在MEMS某些器件設(shè)計(jì)中,常常需要用到可調(diào)電阻,在板級電路上可以通過電位器對貼片電阻進(jìn)行調(diào)阻,但在芯....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-29 10:44 ?986次閱讀
在芯片級的薄膜電阻和板級的厚膜電阻都是如何進(jìn)行修調(diào)呢?

雙頻激光干涉測量的原理是什么?

雙頻激光干涉儀是在單頻激光干涉儀的基礎(chǔ)上發(fā)展的一種外差式干涉儀。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-28 11:10 ?1661次閱讀
雙頻激光干涉測量的原理是什么?

薄膜和厚膜的區(qū)別以及不同的制備工藝介紹

相對于塊體材料,膜一般為二維材料。薄膜和厚膜從字面上區(qū)分,主要是厚度。薄膜一般厚度為5nm至2.5μ....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-28 11:08 ?3325次閱讀

提拉法生長晶體的概念和應(yīng)用

在外加電場作用下折射率發(fā)生變化,從而使通過晶體的一束激光分解為兩束偏振方向相互垂直的偏振光,并產(chǎn)生一....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-27 11:09 ?1554次閱讀
提拉法生長晶體的概念和應(yīng)用

多晶硅的塊狀破碎過程解析

人工破碎就是工人用碳化鎢錘多晶硅棒進(jìn)行錘擊達(dá)到粉碎的目的。碳化鎢的硬度僅次于鉆石,能夠保持鋒利的邊緣....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-27 10:17 ?1331次閱讀
多晶硅的塊狀破碎過程解析

多層石墨烯中的分?jǐn)?shù)量子霍爾效應(yīng)解析

霍爾效應(yīng)在普通的導(dǎo)體中是線性的,即霍爾電阻和磁場強(qiáng)度成正比。但是,在一些特殊的材料中,當(dāng)磁場很強(qiáng)時(shí),....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-26 09:54 ?731次閱讀

腦機(jī)接口的物理原理與技術(shù)探索

在電磁波譜中,近紅外光(NIR)的波長在700—1400 nm之間,只要功率密度控制在每平方厘米毫瓦....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 11:48 ?933次閱讀

如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕?影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些?

影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有:氣體流量、上電極功率、下電極功率、腔體壓力和冷卻器。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 10:44 ?2890次閱讀
如何調(diào)控BOSCH工藝深硅刻蝕?影響深硅刻蝕的關(guān)鍵參數(shù)有哪些?

什么是薄膜與厚膜?薄膜與厚膜有什么區(qū)別?

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,我們經(jīng)常聽到“薄膜制備技術(shù)”,“薄膜區(qū)”,“薄膜工藝”等詞匯,那么有厚膜嗎?答案是....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-25 09:47 ?2002次閱讀
什么是薄膜與厚膜?薄膜與厚膜有什么區(qū)別?

die,device和chip的定義和區(qū)別

在半導(dǎo)體行業(yè)中,“die”,“device”,和“chip”這三個(gè)術(shù)語都可以用來指代芯片。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-23 18:26 ?8411次閱讀

量子世界能否被經(jīng)典計(jì)算機(jī)所模擬?

量子和計(jì)算,兩者聽起來似乎風(fēng)馬牛不相及,為何要“聯(lián)姻”呢?
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-23 11:21 ?716次閱讀
量子世界能否被經(jīng)典計(jì)算機(jī)所模擬?

介紹離子注入在電容極板和濕法腐蝕自停止技術(shù)上的應(yīng)用

在MEMS電容式壓力傳感器、平面硅電容器和RF MEMS開關(guān)中,離子注入均有應(yīng)用。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-23 10:47 ?873次閱讀
介紹離子注入在電容極板和濕法腐蝕自停止技術(shù)上的應(yīng)用

什么是離子注入?離子注入的應(yīng)用介紹

離子注入是將高能離子注入半導(dǎo)體襯底的晶格中來改變襯底材料的電學(xué)性能的摻雜工藝。通過注入能量、角度和劑....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-21 10:23 ?5143次閱讀
什么是離子注入?離子注入的應(yīng)用介紹

一文解析離子注入的溝道效應(yīng)

什么是溝道效應(yīng)? 溝道效應(yīng)是指在晶體材料中,注入的離子沿著晶體原子排列較為稀疏的方向穿透得比預(yù)期更....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-21 10:19 ?3824次閱讀
一文解析離子注入的溝道效應(yīng)

化學(xué)機(jī)械研磨拋光CMP技術(shù)詳解

本文介紹了半導(dǎo)體研磨方法中的化學(xué)機(jī)械研磨拋光CMP技術(shù)。
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-21 10:11 ?2251次閱讀
化學(xué)機(jī)械研磨拋光CMP技術(shù)詳解

功能密度定律是否能替代摩爾定律?摩爾定律和功能密度定律比較

眾所周知,隨著IC工藝的特征尺寸向5nm、3nm邁進(jìn),摩爾定律已經(jīng)要走到盡頭了,那么,有什么定律能接....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-21 09:46 ?758次閱讀
功能密度定律是否能替代摩爾定律?摩爾定律和功能密度定律比較

光頻梳在WDM波分復(fù)用中的作用以及優(yōu)勢

我們知道,自上個(gè)世紀(jì)90年代以來,WDM波分復(fù)用技術(shù)已被用于數(shù)百甚至數(shù)千公里的長距離光纖鏈路。對大多....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 02-21 09:34 ?998次閱讀
光頻梳在WDM波分復(fù)用中的作用以及優(yōu)勢

離子注入中的劑量和濃度之間有何關(guān)系呢?

對器件設(shè)計(jì)工程師來講,離子注入的濃度往往是需要關(guān)心的參數(shù),什么樣的濃度對應(yīng)什么樣的方阻,器件仿真參數(shù)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-26 13:37 ?3022次閱讀
離子注入中的劑量和濃度之間有何關(guān)系呢?

什么是刻蝕呢?干法刻蝕與濕法刻蝕又有何區(qū)別和聯(lián)系呢?

在半導(dǎo)體加工工藝中,常聽到的兩個(gè)詞就是光刻(Lithography)和刻蝕(Etching),它們像....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-26 10:01 ?3190次閱讀
什么是刻蝕呢?干法刻蝕與濕法刻蝕又有何區(qū)別和聯(lián)系呢?

介紹晶圓減薄的原因、尺寸以及4種減薄方法

在封裝前,通常要減薄晶圓,減薄晶圓主要有四種主要方法:機(jī)械磨削、化學(xué)機(jī)械研磨、濕法蝕刻和等離子體干法....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-26 09:59 ?4563次閱讀
介紹晶圓減薄的原因、尺寸以及4種減薄方法

為什么單顆裸芯會被稱為die呢?

Wafer、die、chip是半導(dǎo)體領(lǐng)域常見的術(shù)語,但是為什么單顆裸芯會被稱為die呢?
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-24 09:14 ?3036次閱讀
為什么單顆裸芯會被稱為die呢?

一文詳解MEMS高溫壓力傳感器

高溫壓力傳感器廣泛應(yīng)用于工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域,用來監(jiān)測航空發(fā)動機(jī)、重型燃?xì)廨啓C(jī)、燃煤燃?xì)忮仩t等動力設(shè)....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 18:10 ?4711次閱讀
一文詳解MEMS高溫壓力傳感器

介紹一種新的可以約束光的納米級領(lǐng)結(jié)結(jié)構(gòu)

結(jié)合自下而上和自上而下兩種方法,利用兩種表面力,制備出可以用來約束光的、原子級尺度的領(lǐng)結(jié)型間隙,在電....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-23 10:26 ?453次閱讀
介紹一種新的可以約束光的納米級領(lǐng)結(jié)結(jié)構(gòu)

原子陣列實(shí)現(xiàn)容錯通用量子計(jì)算的前景和挑戰(zhàn)

原子陣列量子計(jì)算由以下三個(gè)核心要素組成(圖1):(1)利用原子內(nèi)態(tài)編碼量子比特。在使用堿金屬原子的陣....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 11:29 ?925次閱讀
原子陣列實(shí)現(xiàn)容錯通用量子計(jì)算的前景和挑戰(zhàn)

請問丙酮在芯片制造中有什么作用呢?丙酮怎樣防護(hù)?

丙酮在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮關(guān)鍵作用,是不可或缺的清洗劑。它憑借出色的溶解能力和揮發(fā)性,助力芯片制造流程的....
的頭像 中科院半導(dǎo)體所 發(fā)表于 01-22 10:06 ?1217次閱讀
請問丙酮在芯片制造中有什么作用呢?丙酮怎樣防護(hù)?
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