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電子發燒友網>工業控制>集成電路銅線鍵合工藝技術詳解

集成電路銅線鍵合工藝技術詳解

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2019-01-01 16:52:004699

集成電路的器件隔離 Device Isolation

集成電路制造需要某種隔離工藝將單個器件隔離開來。因為半導體集成電路是在同一塊半導體硅片上,通過平面工藝技術制造許多元件和器件(如電阻、電容、二極管、三極管等),并按需要將它們連接在一起,形成具有一定功能的電路
2019-05-06 09:00:466727

關于華虹集團集成電路制造工廠的介紹和說明

華虹集團作為國內領先的集成電路產業集團,目前制造工藝技術覆蓋0.5微米到28納米各技術節點,專利申請量約1.1萬項,并擁有國家級集成電路研發中心。我們將不斷追求先進工藝,提升和拓展特色工藝,擴大制造規模,繼續為全球客戶提供各工藝節點和技術平臺一站式芯片制造的優質服務。
2019-10-18 11:25:3010895

集成電路工藝簡析-單片工藝

,然后封裝在一個管殼內,使整個電路的體積大大縮小,引出線和焊接點的數目也大為減少。集成的設想出現在50年代末和60年代初,是采用硅平面技術和薄膜與厚膜技術來實現的。電子集成技術工藝方法分為以硅平面工藝為基礎的單片集成電路、以薄膜技術為基礎的薄膜集成
2020-03-27 16:45:073066

我國集成電路產業進入新一輪的高速發展期

經過五年的發展,目前我國集成電路制造企業的工藝技術水平已提升至28納米,與全球先進水平的差距逐漸縮小,設備材料國產化比例全面提升。與此同時,我國的集成電路特色工藝水平和技術能力也大幅增強,存儲器工藝技術研發取得一系列顯著進展。
2020-07-27 09:35:191040

集成電路工藝基礎及版圖設計

集成電路的制造需要非常復雜的技術,它主要由半導體物理與器件專業負責研究。VLSI設計者可以不去深入研究,但是有必要了解芯片設計中的工藝基礎知識,才能根據工藝技術的特點優化電路設計方案。對于電路和系統設計者來說,更多關注的是工藝制造的能力,而不是工藝的具體實施過程。
2021-04-09 14:18:540

集成電路制造的光刻與刻蝕工藝

光刻是集成電路工藝中的關鍵性技術。在硅片表面涂上光刻膠薄層,經過光照、顯影,在光刻膠上留下掩模版的圖形。
2021-04-09 14:27:1963

CMOS集成電路的雙阱工藝簡析

CMOS 集成電路的基礎工藝之一就是雙阱工藝,它包括兩個區域,即n-MOS和p-MOS 有源區
2022-11-14 09:34:516647

集成電路制造工藝有哪幾種?

早期的硅基集成電路工藝以 **雙極型工藝為主** ,不久之后,則以更易大規模集成的 **平面金屬氧化物半導體(MOS)工藝為主流** 。MOSFET由于具有高輸入阻抗、較低的靜態功耗等優異性能,以及
2023-05-06 10:38:414062

集成電路按照實現工藝分類可以分為哪些?

集成電路按照實現工藝分類可以分為哪些? 集成電路 (Integrated Circuit,簡稱IC) 是一種半導體器件,通過將許多電子元器件集成在單一的芯片上,實現了高度的集成度和電路的升級
2023-08-29 16:28:551712

電子產品裝聯工藝技術詳解

電子產品裝聯工藝技術詳解
2023-10-27 15:28:22373

MEMS封裝中的封帽工藝技術

共讀好書 孫瑞花鄭宏宇吝海峰 (河北半導體研究所) 摘要: MEMS封裝技術大多是從集成電路封裝技術繼承和發展而來,但MEMS器件自身有其特殊性,對封裝技術也提出了更高的要求,如低濕,高真空,高氣
2024-02-25 08:39:28171

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