壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據英國金融時報的報道,負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:002909 電子發燒友網報道(文/李寧遠)提及芯片制造技術,首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業,光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下,摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4136 制造集成電路的大多數工藝區域要求100級(空氣中每立方米內直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數不超過約3500)潔凈室,在光刻區域,潔凈室要求10級或更高。
2024-03-20 12:36:0056 超光學元件,最簡單的形式,是由一個平面上亞波長尺度納米柱陣列組成,每個柱子對穿過它的光引入局部相移。通過特殊排列這些柱子,可以控制光產生轉向和透鏡。
2024-03-18 12:29:19175 納米材料及器件作為戰略性新興產業和高新技術產業,是促進產業轉型升級和高質量發展的重要支柱之一。普賽斯數字源表具有測試精度高、微弱信號檢測能力強的特點,可根據用戶測試需求配置高效率、高精度、高性價比的納米材料測試方案,廣泛應用在納米材料、納米器件、納米發電等產品的研發生產領域
2024-03-05 17:22:40188 瑞薩日前宣布,公司已基于STT-MRAM的電路技術開發出具有快速讀寫能力的測試芯片。該MCU 測試芯片采用 22 納米工藝制造,包括一個 10.8Mbit嵌入式 MRAM 存儲單元陣列。
2024-03-05 10:05:46192 電子束光刻(e-beam lithography,EBL)是無掩膜光刻的一種,它利用波長極短的聚焦電子直接作用于對電子敏感的光刻膠(抗蝕劑)表面繪制形成與設計圖形相符的微納結構。
2024-03-04 10:19:28206 。此外,激光干擾還可以通過欺騙手段,模擬出虛假的光學信號,誤導敵方判斷,達到欺騙的目的。
視覺干擾技術
視覺干擾技術則主要利用人眼的視覺錯覺和感知缺陷,通過特定的光學裝置或材料,制造出讓人眼產生誤判
2024-03-01 17:26:30
引言 在過去的二十年中,市場對大量N灰度級三維微納米元件的需求一直很活躍。基于鉛筆束的光刻技術,我們可以生產出精確的組件,但目前需要更長的時間去處理。使用X射線光刻制作的典型高縱橫比結構
2024-02-28 15:39:47111 WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統是通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。可兼容不同材質
2024-02-21 13:50:34
日本政府近期宣布了一項重大投資計劃,將投入約452億日元(約合3.07億美元)用于光學芯片技術的開發。這一舉措旨在促進日本半導體產業的復興,并加強其在全球市場的競爭力。
2024-02-05 11:22:35619 Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月,該公司表示該設備的價格將比ASML的EUV機器便宜一位數。 佳能表示,與利用光曝光電路圖案的傳統光刻技術不同,納米壓印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270 佳能近日表示,計劃年內或明年上市使用納米壓印技術的光刻設備FPA-1200NZ2C。對比已商業化的EUV光刻技術,雖然納米壓印的制造速度較傳統方式緩慢,但由于制程簡化,耗電僅為EUV的十分之一,且投資額也僅為EUV設備的四成。
2024-01-31 16:51:18551 電子元件的設計和制造。不同的電子元件對材料的要求有所不同,而材料的特性和性能決定了元件的工作能力和可靠性。例如,半導體器件常需要具備特定的電子傳導、絕緣和熱導能力,因此選擇具有優異導電性、絕緣性和熱導性能的材
2024-01-23 14:25:06197 納米技術是一種高度前沿的技術,利用控制和操縱物質的尺寸在納米級別來創造新的材料和應用。納米技術的特點主要包括以下幾個方面:高比表面積、尺寸效應、量子效應和可調控性。 首先,納米技術的一個重要特點是
2024-01-19 14:06:424311 電子發燒友網站提供《索雷碳納米聚合物材料技術修復輥壓機軸磨損的工藝.docx》資料免費下載
2024-01-18 15:50:550 電子發燒友網站提供《索雷碳納米聚合物材料技術的優勢.docx》資料免費下載
2024-01-16 15:29:340 此外,應用材料公司的保羅·邁斯納博士指出,本司將運用先進光學技術及卓越輕量化設計理念,助力新一代AR產品的誕生。他還強調,應用材料與谷歌的聯合,將為AR產品打開無限可能。
2024-01-11 09:51:14138 WD4000無圖晶圓幾何形貌測量設備采用高精度光譜共焦傳感技術、光干涉雙向掃描技術,完成非接觸式掃描并建立3D Mapping圖,實現晶圓厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI、等
2024-01-10 11:10:39
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2024-01-07 09:51:170 單片機開發是現代電子技術中的重要分支,其在各個領域都有著廣泛的應用。單片機開發技術的提升不僅可以提高工作效率,還可以提高工作質量和創新能力。那么,如何提升單片機開發技術呢?
一、加強基礎知識
2024-01-05 10:14:30
研究嘗試將光學超材料與PIV技術融合,以實現PIV系統小型化的目的。超構透鏡是一種先進的平面光學元件,由人工制造的納米單元陣列組成。
2024-01-02 13:47:16134 電子發燒友網站提供《如何選擇索雷碳納米聚合物材料技術.docx》資料免費下載
2023-12-29 11:02:410 )及分析反映表面質量的2D、3D參數。廣泛應用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業。WD
2023-12-20 11:22:44
光照條件的設置、掩模版設計以及光刻膠工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度,ASML認為其物理極限在0.25,k?體現了各家晶圓廠運用光刻技術的水平。
2023-12-18 10:53:05326 來源:Silicon Semiconductor 紅外激光切割技術能夠以納米精度從硅襯底上進行超薄層轉移,徹底改變了先進封裝和晶體管縮放的3D集成。 EV集團(EVG)推出了EVG?850
2023-12-13 17:26:46489 納米材料具有獨特的物理化學性質,其作為新一代藥物給藥劑型日益受到重視。納米材料的小尺寸能夠增加藥物負載能力,延長藥物的血液循環時間,并改善藥物的細胞攝取和組織滲透。特定的納米結構有助于調節藥物的負載
2023-12-12 16:59:45259 “半導體研發機構 imec 的項目經理塞德里克-羅林(Cedric Rolin)說:”納米壓印技術很難在質量上與 EUV 相媲美。” 他說,納米壓印的缺陷率“相當高”。
2023-12-06 15:54:42314 電子發燒友網站提供《什么是索雷碳納米聚合物材料技術?他與傳統的修復工藝比有什么優點.docx》資料免費下載
2023-12-05 09:50:110 。這是因為晶圓的溫度直接影響到其上形成的薄膜的質量,包括其厚度、結構、電學和光學性質等。因此,對晶圓表面溫度的精確控制和測試是保證半導體產品質量的關鍵步驟。本文將
2023-12-04 11:36:42
索雷碳納米聚合物材料技術的優勢
2023-12-04 10:18:550 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發生性質變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 據報道,韓國SK集團于2020年斥資400億韓元收購當地錦湖石化的電子材料業務,收購后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已開發出一種高厚度KrF光刻膠,并通過了SK海力士的性能驗證,這將有利于SK海力士3D NAND閃存的技術開發。
2023-11-29 17:01:56433 在工業應用中,光學3D表面輪廓儀超0.1nm的縱向分辨能力能夠高精度測量物體的表面形貌,可用于質量控制、表面工程和納米制造等領域。與其它表面形貌測量方法相比,SuperViewW系列光學3D表面
2023-11-29 10:04:380 的測量方法等手段來降低PDI值是提高納米材料質量和穩定性的重要途徑之一。七、總結
PDI作為衡量顆粒尺寸分布均勻程度的重要指標,在納米材料制備和生物醫藥領域的應用中具有重要意義。通過控制制備工藝、選擇
2023-11-28 13:38:39
11月24日,博泰廈門智能制造基地在工藝能力構建和提升方面取得了卓越的成果,榮獲了“2023年度IAS關鍵工藝基線能力建設-最佳進步獎”。
2023-11-27 18:22:48418 《光電科學》發表的一篇新文章回顧了光學捕獲的光學納米粒子的基本原理和應用。光學納米粒子是光子學的關鍵要素之一。
2023-11-25 14:25:54381 者們共聚魅力東莞,圍繞自動化編程的痛難點互相交流分享,交流如何開發標準化程序,提升項目開發效率與可靠性。 ? ? 匯川技術開發者大會線下沙龍由匯川技術生態戰略發展部發起,旨在以知識為橋梁,以經驗為分享,讓國內工控從
2023-11-22 16:20:06533 小型電橋技術開發概要
2023-11-22 09:17:10219 據DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引進佳能納米壓印設備,正在進行測試與研發,目標在2025年左右將該設備用于3D NAND量產。有業內人士表示:“與EUV相比,納米壓印技術形成圖案
2023-11-10 16:25:06434 中圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學測量系統、超高直線度研磨級摩擦導軌、高性能直流伺服驅動系統、高性能計算機控制系統技術,分辨率高達0.1nm,系統殘差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
納米壓印是微納工藝中最具發展潛力的第三代光刻工藝,是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近,海力士公司從佳能購買了一套奈米壓印機,進行了大規模生產,并取得了不錯的效果。
2023-11-08 14:34:02550 的高質量晶體,美國斯坦福大學(Stanford University)與勞倫斯伯克利國家實驗室(LBNL)共同合作,開發利用自上而下、自組裝的方法來合成的具有與塊狀單晶相一致的晶體質量納米結構。超薄納米結構作為紅外波段晶格振動的超高質量納米
2023-11-08 09:18:51305 。WD4000晶圓幾何形貌測量及參數自動檢測機采用高精度光譜共焦傳感技術、光干涉雙向掃描技術,完成非接觸式掃描并建立3D Mapping圖,實現晶圓厚度、TTV、LTV、B
2023-11-06 10:49:18
據了解ACCEL芯片的光學芯片部分只要采用百納米級別工藝,而電路部分更是可以采用180納米CMOS工藝就能生產這種芯片,用如此落后的工藝卻能將芯片性能提升3000倍,與當前的7納米工藝芯片性能相當。
2023-11-03 16:29:08377 為了制備蜂窩狀紋理的絨面結構,研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術(TUV-Roller-NIL),基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:36253 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上,通過光的照射,光刻膠的成分發生化學反應,從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關,而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 WD4000無圖晶圓幾何量測系統自動測量 Wafer 厚度 、表面粗糙度 、三維形貌 、單層膜厚 、多層膜厚 。使用光譜共焦對射技術測量晶圓 Thickness 、TTV 、LTV 、BOW
2023-10-18 09:09:00
來源:中國半導體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創達午后
2023-10-17 11:07:23230 璞璘科技成立于2017年,致力于納米壓印設備及材料的生產和開發。據璞璘科技官方消息,公司是目前國內市場上唯一一家集納米壓印設備、材料、技術于一體的納米壓印尖端微納米制造企業。
2023-10-13 10:03:231622 納米科技的迅猛發展將我們的視野拓展到了微觀世界,而測量納米級尺寸的物體和現象則成為了時下熱門的研究領域。納米級測量儀器作為一種重要的工具,扮演著重要的角色。那么,如何才能準確測量納米級物體呢?在
2023-10-11 14:37:46
傳感器:高壓放大器在納米材料傳感器中的應用非常有前景。納米材料常常表現出高靈敏度和特定的電學、光學或磁學特性,可以被用作傳感器探測不同的物理或化學參數。高壓放大器可以放大來自這些納米材料傳感器的微弱信號,提高傳
2023-10-11 13:54:31155 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應,經曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上,是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674 器件制造具有以下優點[1]
(1) 片子平面的總體平面度: CMP 工藝可補償亞微米光刻中步進機大像場的線焦深不足。
(2) 改善金屬臺階覆蓋及其相關的可靠性: CMP工藝顯著地提高了芯片測試中的圓片成品率。
(3) 使更小的芯片尺寸增加層數成為可能: CMP技術允許所形成的器件具有更高的縱橫比。
2023-09-19 07:23:03
(TSMC) 超低功耗的 40 納米工藝。ESP32-S3-PICO-1 SiP 已將晶振、去耦電容、SPI flash/PSRAM、RF 匹配鏈路等所有外圍器件無縫集成進封裝內,無需外圍元器件即可工作
2023-09-18 07:38:02
和藍牙雙模的單芯片方案,采用臺積電 (TSMC) 超低功耗的 40 納米工藝。ESP32-PICO-V3-ZERO 模組已將晶振、flash、濾波電容、RF 匹配鏈路等所有外圍器件無縫集成進封裝內,不再
2023-09-18 07:07:42
公開的資料顯示,蘇大維格他致力于微納關鍵技術,柔性智能制造、柔性光電子材料的創新應用,涉及微納光學印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示(大尺寸電容觸控屏,超薄導光板)、高端智能微納裝備(納米壓印、微納直寫光刻、3D光場打印等)的開發和技術產業化
2023-09-11 11:45:593530 不是所有尺寸小于100nm納米材料都叫納米科技納米科技廣義的定義,泛指尺寸小于100nm(納米)的材料,而研究納米材料的科學技術泛稱為「納米科技(Nanotechnology)」。納米技術的研究領域
2023-09-09 08:28:01562 ,已經用于微型機械加速度計和陀螺儀產品。多種傳感元件采用專門的微型機械加工工藝制造,而 IC 接口采用 CMOS 技術開發,可以設計出專用電路,對該電路進行修調可以更好地匹配傳感元件的特性。在
2023-09-08 07:33:46
SuperViewW1光學形貌輪廓儀是利用光學干涉原理研制開發的超精細表面輪廓測量儀器,主要用于對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量。可在半導體制造及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件
2023-09-04 11:44:34
、包膜機、入殼機、頂蓋焊、氦檢機、注液機、化成柜、補液機、密封焊機、分容柜、Pack線等。
半導體行業:清洗設備、光刻機、刻蝕機、修復檢測設備、劃片機、晶圓探針測試設備、分選機、貼片機、邦定機等設備
2023-09-04 09:16:12
在上一節計算光學小講堂中,我們學習了光源掩模協同優化(source mask co-optimization, SMO)的相關知識。這一節我們將主要探索光學鄰近效應修正(Optical Proximity Correction,OPC)技術是如何用來提升光刻工藝窗口,為芯片生產保駕護航的。
2023-09-01 09:48:442297 光刻蝕(Photolithography)是一種在微電子和光電子制造中常用的加工技術,用于制造微細結構和芯片元件。它的基本原理是利用光的化學和物理作用,通過光罩的設計和控制,將光影投射到光敏材料上,形成所需的圖案。
2023-08-24 15:57:422264 半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上,這一過程通過光刻來實現, 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578 2000年代初,芯片行業一直致力于從193納米氟化氬(ArF)光源光刻技術過渡到157納米氟(F 2 )光源光刻技術。
2023-08-23 10:33:46798 計算機模擬和計算等手段來精確測量參數。
無論是研究材料性質、表面形貌,還是進行質量控制和判別等方面,白光干涉儀都具有廣泛的應用前景。
SuperViewW1白光干涉儀能夠以優于納米級的分辨率,測試各類
2023-08-21 13:46:12
分析等,幫助優化生產流程和提高產品質量;
2、色彩圖像可以直觀地展示金屬表面的紋理、顏色等特征,為審美評價和設計提供參考。
SuperViewW1光學3D表面輪廓儀能夠以優于納米級的分辨率,測試各類表面
2023-08-21 13:41:46
RXIRY昕銳作為行業內成熟的激光測量技術、面向未來戰場訓練的技術開發及應用方案供應商,一直以來專注于為受訓人員提供完整的智能化、標準化、精準化訓練體系,對于提升訓練的效能、提升部隊作戰的能力具有重要的意義。
2023-08-14 15:10:26221 光的偏振是一種有價值的信息通道,在光學器件中得到了廣泛的研究。但是,目前在開發易于集成和大規模生產的低折射率對比度、大面積手性超構器件(meta-device)方面的進展非常有限。
2023-08-01 09:31:32723 當談到該創新工藝時,不可避免地要與傳統的光刻工藝體系進行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層光刻膠;接著將光刻膠圖形化曝光并顯影,形成有圖案的光刻覆蓋區域
2023-07-29 11:01:50835 據新維度公司總經理羅鋼博士介紹,新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術系統,是世界主要納米壓印技術路線之一。
2023-07-20 10:58:361179 絕緣體上硅(FD-SOI)技術開發10納米低功耗工藝技術模塊,該技術未來將進一步向7納米拓展,這也是浸沒式DUV光刻技術的極限。該機構透露,FD-SOI新一代工藝將與18、22和28nm的現有設計兼容,并且還將包括嵌入式非易失性存儲器(eNVM)工藝。該項目由法國政府獨立于《歐盟芯片法案》提供資金。
2023-07-20 10:54:19427 電子發燒友網站提供《直流至85GHz TWA和Ka頻段4.9W功率放大器使用 基于光學光刻PHEMT工藝.pdf》資料免費下載
2023-07-20 09:17:340 GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統)等微細結構。光刻機是一種光學投影技術,通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
晶圓測溫系統,晶圓測溫熱電偶,晶圓測溫裝置一、引言隨著半導體技術的不斷發展,晶圓制造工藝對溫度控制的要求越來越高。熱電偶作為一種常用的溫度測量設備,在晶圓制造中具有重要的應用價值。本文
2023-06-30 14:57:40
SuperViewW系列光學輪廓儀以白光干涉技術為原理,能夠以優于納米級的分辨率,測試各類表面并自動聚焦測量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數,廣泛應用于光學,半導體,材料,精密機械
2023-06-16 11:34:49
*附件:深圳市其利天下技術開發有限公司.pdf
2023-06-13 21:30:42
損耗,低粗糙度棕化藥水在高速板加工中應用越來越廣泛。
華秋作為目前線上出色的 PCB 快板打樣及中小批量生產商,有10多年成熟的制程經驗和行業數據,我們也向行業技術發展看齊,不斷提升自身工藝水平,高
2023-06-09 14:08:34
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現高性能的先進封裝,技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 中國在半導體芯片制造方面仍落后于美國。早在上世紀60年代,美國就開始占據世界半導體市場的絕對主導地位。隨著技術的不斷發展,半導體芯片的制造越來越精細化。從最初的65納米工程到現在的7納米技術開發,美國一直處于領先地位。
2023-06-01 10:12:43583 金剛石光學真空窗片高質量的金剛石晶圓應用作為光學窗口是理想的,主要為紅外,遠紅外和太赫茲范圍。這些金剛石晶片由高功率微波等離子體輔助化學氣相沉積(CVD)生長的高純多晶金剛石組成。 
2023-05-24 11:26:37
納米壓印技術,即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形,通過壓印等技術轉移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949 光學材料能對光學產品的性能產生舉足輕重的影響,隨著光學技術的發展,業界對材料、表面、元件和系統的質量要求越來越高,甚至提出了新的需求。例如,在汽車行 業中,光學元件 需要高透射率和高散射率的材料
2023-05-17 22:10:01249 半導體材料在開發納米光子技術方面發揮著重要作用。
2023-05-14 16:58:55590 測量、顯微操作、納米壓印等。隨著科技不斷進步,精密定位技術對于定位系統的行程、負載、精度要求也不斷攀升,哈爾濱芯明天科技有限公司持續加強技術實力和研發能力,不斷攻克技術壁壘,提升產品性能,以滿足對大行程、大
2023-05-11 08:56:02347 致力于衍射元器件、CGH、光柵、光掩模等產品的設計、生產、服務,該公司生產的光掩模產品是半導體的基石,在技術上突破了傳統納米壓印制作光學器件的路徑,簡化了工藝流程,其也是國內唯一掌握了把半導體技術用于量產純石英結構光
2023-04-26 16:53:19595 一、PCB制造基本工藝及目前的制造水平
PCB設計最好不要超越目前廠家批量生產時所能達到的技術水平,否則無法加工或成本過高。
1.1層壓多層板工藝
層壓多層板工藝是目前廣泛
2023-04-25 17:00:25
光刻技術簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術,CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 正式發布,該版本系統能力進一步完善,全面提升了復雜帶屏設備體驗。OpenHarmony項目管理委員會主席任革林從系統流暢、系統性能、應用性能、分布式能力、開發效率五個方面對新版本的技術特性進行了深度解讀。在
2023-04-21 10:12:44
和散熱能力優于片式電阻,非常適合作為IGBT電路中的柵級電阻(Rg),以及汽車電子電路。特性:額定功率范圍:0.4W3W電阻范圍:0.5Ω10MΩ耐高壓能力優于片式電阻低溫漂、低誤差值散熱能力佳長期
2023-04-20 16:34:17
以共聚焦技術為原理的共聚焦顯微鏡,是用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量的檢測儀器。 中圖儀器VT6000系列三維光學輪廓共聚焦材料顯微鏡基于共聚焦顯微技術,結合精密Z向掃描模塊
2023-04-20 10:52:25
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發,必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰,imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 的硬件配置完成,一個相對完整的、有模有樣的HarmonyOS/OpenHarmony公司級技術開發團隊的的裝備就完成了。
2023-04-10 09:34:15
狀防靜電材料上對應于PCB通孔插裝器件的位置打上相應形狀的孔,將其放在插裝完成的PCB板上便可以簡易地目測插裝器件的正確與否。 一、PCBA檢測工藝流程 PCBA檢測工藝總流程如圖所示: 注:各種檢測
2023-04-07 14:41:37
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