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電子發燒友網>今日頭條>EVG與DELO合作為晶圓級光學元件和納米壓印光刻技術開發材料并提升工藝能力

EVG與DELO合作為晶圓級光學元件和納米壓印光刻技術開發材料并提升工藝能力

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當談到該創新工藝時,不可避免地要與傳統的光刻工藝體系進行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層光刻膠;接著將光刻膠圖形化曝光并顯影,形成有圖案的光刻覆蓋區域
2023-07-29 11:01:50835

蘇州新維度微納科技有限公司舉行落成儀式,聚焦納米壓印

據新維度公司總經理羅鋼博士介紹,新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術系統,是世界主要納米壓印技術路線之一。
2023-07-20 10:58:361179

今日看點丨英飛凌CEO呼吁不應過多限制對華半導體出口;百度集團副總裁吳甜:文心大模型 3.5 能力已經超出

絕緣體上硅(FD-SOI)技術開發10納米低功耗工藝技術模塊,該技術未來將進一步向7納米拓展,這也是浸沒式DUV光刻技術的極限。該機構透露,FD-SOI新一代工藝將與18、22和28nm的現有設計兼容,并且還將包括嵌入式非易失性存儲器(eNVM)工藝。該項目由法國政府獨立于《歐盟芯片法案》提供資金。
2023-07-20 10:54:19427

直流至85GHz TWA和Ka頻段4.9W功率放大器使用 基于光學光刻PHEMT工藝

電子發燒友網站提供《直流至85GHz TWA和Ka頻段4.9W功率放大器使用 基于光學光刻PHEMT工藝.pdf》資料免費下載
2023-07-20 09:17:340

光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀

GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統)等微細結構。光刻機是一種光學投影技術,通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07

封裝技術崛起:傳統封裝面臨的挑戰與機遇

北京中科同志科技股份有限公司發布于 2023-07-06 11:10:50

測溫系統,測溫熱電偶,測溫裝置

 測溫系統,測溫熱電偶,測溫裝置一、引言隨著半導體技術的不斷發展,制造工藝對溫度控制的要求越來越高。熱電偶作為一種常用的溫度測量設備,在制造中具有重要的應用價值。本文
2023-06-30 14:57:40

繞不過去的測量

YS YYDS發布于 2023-06-24 23:45:59

光學輪廓儀應用案例

SuperViewW系列光學輪廓儀以白光干涉技術為原理,能夠以優于納米級的分辨率,測試各類表面并自動聚焦測量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項參數,廣泛應用于光學,半導體,材料,精密機械
2023-06-16 11:34:49

【方案公司簡介】深圳市其利天下技術開發有限公司

*附件:深圳市其利天下技術開發有限公司.pdf
2023-06-13 21:30:42

5G技術大發展,PCB板廠工藝技術新要求,你都了解嗎

損耗,低粗糙度棕化藥水在高速板加工中應用越來越廣泛。 華秋作為目前線上出色的 PCB 快板打樣及中小批量生產商,有10多年成熟的制程經驗和行業數據,我們也向行業技術發展看齊,不斷提升自身工藝水平,高
2023-06-09 14:08:34

芯片制造之光刻工藝詳細流程圖

光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現高性能的先進封裝,技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857

光刻技術再次升級了

中國在半導體芯片制造方面仍落后于美國。早在上世紀60年代,美國就開始占據世界半導體市場的絕對主導地位。隨著技術的不斷發展,半導體芯片的制造越來越精細化。從最初的65納米工程到現在的7納米技術開發,美國一直處于領先地位。
2023-06-01 10:12:43583

金剛石光學真空窗片

金剛石光學真空窗片高質量的金剛石應用作為光學窗口是理想的,主要為紅外,遠紅外和太赫茲范圍。這些金剛石晶片由高功率微波等離子體輔助化學氣相沉積(CVD)生長的高純多晶金剛石組成。 
2023-05-24 11:26:37

納米壓印,終于走向臺前?

納米壓印技術,即Nanoimprint Lithography(NIL),是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形,通過壓印技術轉移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949

測量材料表面,就可以提升光學設計精確度?

光學材料能對光學產品的性能產生舉足輕重的影響,隨著光學技術的發展,業界對材料、表面、元件和系統的質量要求越來越高,甚至提出了新的需求。例如,在汽車行 業中,光學元件 需要高透射率和高散射率的材料
2023-05-17 22:10:01249

半導體材料納米光子學中的作用

半導體材料開發納米光子技術方面發揮著重要作用。
2023-05-14 16:58:55590

新品推薦|XD770.300S大負載壓電納米定位臺

測量、顯微操作、納米壓印等。隨著科技不斷進步,精密定位技術對于定位系統的行程、負載、精度要求也不斷攀升,哈爾濱芯明天科技有限公司持續加強技術實力和研發能力,不斷攻克技術壁壘,提升產品性能,以滿足對大行程、大
2023-05-11 08:56:02347

半影光學微納光學器件及半導體光掩模生產項目簽約江蘇南通

致力于衍射元器件、CGH、光柵、光掩模等產品的設計、生產、服務,該公司生產的光掩模產品是半導體的基石,在技術上突破了傳統納米壓印制作光學器件的路徑,簡化了工藝流程,其也是國內唯一掌握了把半導體技術用于量產純石英結構光
2023-04-26 16:53:19595

PCB制造基本工藝及目前的制造水平

  一、PCB制造基本工藝及目前的制造水平   PCB設計最好不要超越目前廠家批量生產時所能達到的技術水平,否則無法加工或成本過高。   1.1層壓多層板工藝   層壓多層板工藝是目前廣泛
2023-04-25 17:00:25

什么是光刻技術

光刻技術簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術,CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

開放原子開源基金會OpenHarmony開發者大會2023滿舉辦

正式發布,該版本系統能力進一步完善,全面提升了復雜帶屏設備體驗。OpenHarmony項目管理委員會主席任革林從系統流暢、系統性能、應用性能、分布式能力開發效率五個方面對新版本的技術特性進行了深度解讀。在
2023-04-21 10:12:44

MELF色環貼片電阻專家 | 第一電阻(Firstohm)

和散熱能力優于片式電阻,非常適合作為IGBT電路中的柵電阻(Rg),以及汽車電子電路。特性:額定功率范圍:0.4W3W電阻范圍:0.5Ω10MΩ耐高壓能力優于片式電阻低溫漂、低誤差值散熱能力佳長期
2023-04-20 16:34:17

三維光學輪廓共聚焦材料顯微鏡

以共聚焦技術為原理的共聚焦顯微鏡,是用于對各種精密器件及材料表面進行微納米級測量的檢測儀器。 中圖儀器VT6000系列三維光學輪廓共聚焦材料顯微鏡基于共聚焦顯微技術,結合精密Z向掃描模塊
2023-04-20 10:52:25

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發,必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰,imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164

HarmonyOS/OpenHarmony公司技術開發團隊硬件基本配置清單

的硬件配置完成,一個相對完整的、有模有樣的HarmonyOS/OpenHarmony公司技術開發團隊的的裝備就完成了。
2023-04-10 09:34:15

PCBA檢測技術工藝標準流程介紹

狀防靜電材料上對應于PCB通孔插裝器件的位置打上相應形狀的孔,將其放在插裝完成的PCB板上便可以簡易地目測插裝器件的正確與否。  一、PCBA檢測工藝流程  PCBA檢測工藝總流程如圖所示:  注:各種檢測
2023-04-07 14:41:37

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