電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機(jī)來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2911 中的項(xiàng)目就是光刻廠。 ? ? 中國電子院對此回應(yīng)稱，該圖片中的項(xiàng)目并不是國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目（HEPS）。該項(xiàng)目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源
2023-09-20 08:56:502576 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4142 
3 月 13 日消息，光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機(jī)型將帶來更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
2024-03-14 08:42:345 
據(jù)荷蘭《電訊報(bào)》3月6日報(bào)道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1，分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會(huì)引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機(jī)巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計(jì)劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 郭御風(fēng)指出，我國已提出“大力推進(jìn)現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系建設(shè)，加快發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力”的主張。他解釋道，新質(zhì)生產(chǎn)力主要體現(xiàn)在如人工智能、腦機(jī)接口、新型顯示及智能制造等領(lǐng)域的蓬勃發(fā)展，其背后的動(dòng)力來源正是高端芯片，CPU作為科技產(chǎn)業(yè)的算力基石
2024-03-06 15:28:44108 英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機(jī)而成為新聞焦點(diǎn)。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機(jī)的晶圓廠，據(jù)報(bào)道它們的售價(jià)約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01161 
ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機(jī)上的模板或掩模來進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 我國在光存儲領(lǐng)域獲重大突破 或?qū)㈤_啟綠色海量光子存儲新紀(jì)元 據(jù)新華社的報(bào)道，中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所與上海理工大學(xué)等合作，在超大容量超分辨三維光存儲研究中取得突破性進(jìn)展?？梢哉f是“超級光盤
2024-02-22 18:28:451334 ）、高級計(jì)劃管理（APM）、產(chǎn)能預(yù)測（PCE）、生產(chǎn)訂單管理（MOM）和高級物料需求計(jì)劃（AMRP）。下面我將詳細(xì)介紹這六大核心技術(shù)。 1. 產(chǎn)品工藝數(shù)據(jù)管理（PDM）：PDM是APS生產(chǎn)排程軟件的基礎(chǔ)，它負(fù)責(zé)管理產(chǎn)品的設(shè)計(jì)和制造過程中的所有數(shù)據(jù)，包括產(chǎn)
2024-02-20 16:09:17132 
Takeishi向英國《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構(gòu)筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機(jī)電器件等用到光刻技術(shù)的領(lǐng)域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
一系列環(huán)節(jié)如制造、封裝、測試等。 ? 在這其中，制造過程顯得尤為關(guān)鍵，而高端光刻機(jī)則是制造過程中不可或缺的設(shè)備。 光刻機(jī)在微電子制造過程中扮演核心角色，其要求具備高度精密的光學(xué)系統(tǒng)、復(fù)雜的機(jī)械結(jié)構(gòu)和先進(jìn)的控制技術(shù)。
2024-01-17 17:56:59292 理想晶延最近發(fā)布的業(yè)界首款光伏切片電池側(cè)壁鈍化 (Edge Passivation Deposition EPD）設(shè)備正式整裝出貨，這標(biāo)志著EPT技術(shù)已經(jīng)從研發(fā)階段進(jìn)入了量產(chǎn)階段。這一突破意味著理想晶延在高端裝備核心技術(shù)領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展。
2024-01-17 14:03:29303 在10-11月份中國進(jìn)口ASML的光刻機(jī)激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 中國近年來向著科技自立自強(qiáng)的方向邁出了堅(jiān)定的步伐，核心技術(shù)不斷突破，高端儀器設(shè)備持續(xù)涌現(xiàn)。近日消息，由蘇州博眾儀器科技有限公司（簡稱博眾儀器）自主研發(fā)的200kV透射電子顯微鏡BZ-F200已經(jīng)進(jìn)入
2023-12-28 11:24:09766 
大族半導(dǎo)體成功承接“十三五”規(guī)劃中的科技部重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃重點(diǎn)專項(xiàng)“超短脈沖激光隱形切割系統(tǒng)及應(yīng)用”，以及“十四五”規(guī)劃中的科技部重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃重點(diǎn)專項(xiàng)“高品質(zhì)激光剝離與解鍵合裝備開發(fā)及應(yīng)用示范”。
2023-12-15 09:46:03258 “以前中國人對航空發(fā)動(dòng)機(jī)技術(shù)的了解，還停留在‘0’的階段?！敝袊娇瞻l(fā)動(dòng)機(jī)研究院院長羅榮懷說，過去我國航空發(fā)動(dòng)機(jī)都是從國外進(jìn)口，核心技術(shù)掌握不了，只能看別人的臉色。
2023-12-13 14:29:07180 衍梓裝備擁有業(yè)界最好的研究開發(fā)組。核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)來自國際知名的idm， foundry，設(shè)備和材料等大工廠，包括零部件，制作工程，材料，設(shè)備及模擬等領(lǐng)域，具有數(shù)十年的生產(chǎn)和研發(fā)經(jīng)驗(yàn)。
2023-12-08 14:46:26287 政策環(huán)境是智能制造裝備行業(yè)發(fā)展強(qiáng)大的內(nèi)驅(qū)力及支撐，智能制造裝備作為推進(jìn)智能制造的重要環(huán)節(jié)受到各國政府重視，2011年美國提出“先進(jìn)制造伙伴計(jì)劃”，2012年我國提出《智能制造裝備產(chǎn)業(yè)“十二五”發(fā)展規(guī)劃》
2023-12-05 15:25:20708 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機(jī)，它的精度決定了制程的精度。光刻機(jī)的運(yùn)作原理是先把設(shè)計(jì)好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 
顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機(jī) 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟(jì)的核心，在中國
2023-11-08 15:57:14199 
來源：總臺央視 編輯：感知芯視界 Link 10月30日，國家管網(wǎng)集團(tuán)發(fā)布消息，我國首套自主設(shè)計(jì)研發(fā)的天然氣氣質(zhì)分析裝備日前完成全部工業(yè)性試驗(yàn)正式發(fā)布，填補(bǔ)了該類產(chǎn)品國產(chǎn)化空白，標(biāo)志著我國天然氣檢測
2023-11-06 09:55:34272 清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)在超高性能計(jì)算芯片領(lǐng)域取得新突破，相關(guān)研究發(fā)表在Nature上。
2023-10-29 09:20:35553 
中圖儀器牽頭的國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃——“六自由度激光自動(dòng)精準(zhǔn)跟蹤測量關(guān)鍵技術(shù)"的項(xiàng)目綜合績效評價(jià)會(huì)議在深圳順利召開。本項(xiàng)目瞄準(zhǔn)我國航空航天、汽車船舶、軌道交通、機(jī)器人、核電、大科學(xué)裝置等裝備制造領(lǐng)域
2023-10-27 11:27:00
光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359 
線路板PCB：特斯拉Cybertruck的核心技術(shù)
2023-10-25 10:49:18349 近日，上海微系統(tǒng)所魏星研究員團(tuán)隊(duì)在300mm SOI晶圓制造技術(shù)方面取得突破性進(jìn)展，制備出了國內(nèi)第一片300mm 射頻（RF）SOI晶圓。
2023-10-23 09:16:45498 
當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
、歐萊新材半導(dǎo)體集成電路靶材研發(fā)試制基地項(xiàng)目及補(bǔ)充流動(dòng)資金。 持續(xù)研發(fā)投入，構(gòu)建核心技術(shù)壁壘 作為國家高新技術(shù)企業(yè)，歐萊新材一直以來高度重視技術(shù)研發(fā)在企業(yè)發(fā)展中的重要性，并持續(xù)加大在研發(fā)方面的投入。據(jù)歐萊新材IPO招股書披露，公司最
2023-10-12 15:13:29375 公司研究開發(fā)組結(jié)構(gòu)完整，現(xiàn)有的研究開發(fā)組和核心技術(shù)人員可以支持公司未來核心技術(shù)和創(chuàng)新產(chǎn)品的持續(xù)研究開發(fā)業(yè)務(wù)。公司歷來高度重視研究開發(fā)。未來公司將繼續(xù)增加研發(fā)投入，不斷完善研發(fā)團(tuán)隊(duì)建設(shè)，加強(qiáng)研發(fā)技術(shù)人員培訓(xùn)，不斷提高研發(fā)創(chuàng)新能力。
2023-10-10 11:22:19541 電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《電磁感應(yīng)式無線充電的核心技術(shù).pdf》資料免費(fèi)下載
2023-10-09 16:45:36
1 先進(jìn)封裝技術(shù)以SiP、WLP、2.5D/3D為三大發(fā)展重點(diǎn)。先進(jìn)封裝核心技術(shù)包括Bumping凸點(diǎn)、RDL重布線、硅中介層和TSV通孔等，依托這些技術(shù)的組合各廠商發(fā)展出了滿足多樣化需求的封裝解決方案，SiP系統(tǒng)級封裝、WLP晶圓級封裝、2.5D/3D封裝為三大發(fā)展重點(diǎn)。
2023-09-28 15:29:371613 
一、核心技術(shù)理念
圖片來源：OpenHarmony官方網(wǎng)站
二、需求機(jī)遇簡析
新的萬物互聯(lián)智能世界代表著新規(guī)則、新賽道、新切入點(diǎn)、新財(cái)富機(jī)會(huì);各WEB網(wǎng)站、客戶端( 蘋果APP、安卓APK)、微信
2023-09-22 16:12:02
早在2015年，中國的長春光機(jī)所就成功研發(fā)出了EUV（極紫外光刻）光刻機(jī)的高精度弧形反射鏡系統(tǒng)。這個(gè)系統(tǒng)的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達(dá)到了EUV級光刻機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)。這個(gè)成就在國際上已經(jīng)堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 萊普科技全國總公司及集成電路裝備研發(fā)制造基地項(xiàng)目總投資16億元，在成都高新區(qū)建設(shè)萊普科技全國總部、技術(shù)中心、制造及國產(chǎn)核心零部件開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化基地等設(shè)施中國產(chǎn)核心零部件的開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化基地主要有定制化開發(fā)的激光。
2023-09-08 14:50:13732 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造行業(yè)的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備。盡管國在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，但在光刻機(jī)的自主研發(fā)方面仍面臨諸多挑戰(zhàn)。本文旨在分析國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)中的幾大難點(diǎn)。
2023-08-30 09:42:062096 
Neoverse?N2內(nèi)核是一款高性能、低功耗的產(chǎn)品，采用ARM?v9.0-A架構(gòu)。
此實(shí)施支持所有以前的ARMv8-A架構(gòu)實(shí)施，包括ARM?v8.5-A。
Neoversedsu n2核心在
2023-08-29 08:12:31
光刻機(jī)有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺光刻機(jī)有10萬個(gè)組件）。目前全世界的高端光刻機(jī)被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 隨著科技領(lǐng)域國際競爭不斷加劇，我國的關(guān)鍵核心技術(shù)“卡脖子”問題依然存在，在芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域追求自主研發(fā)的需求尤為迫切。
2023-08-21 15:22:51627 
芯片進(jìn)行代碼編程的電源研發(fā)模式，填補(bǔ)了國內(nèi)該領(lǐng)域技術(shù)空白，開啟了免代碼編程開發(fā)電源產(chǎn)品的新紀(jì)元。
一、PPEC系列產(chǎn)品特點(diǎn)
1、免代碼開發(fā)：PPEC系列產(chǎn)品采用森木磊石獨(dú)家核心技術(shù)，以電源拓?fù)錇?b class="flag-6" style="color: red">核心
2023-08-17 15:42:16
利益為中心”的價(jià)值主張，從創(chuàng)新突破到創(chuàng)新引領(lǐng)，是西安大醫(yī)集團(tuán)在專業(yè)化之路上越走越遠(yuǎn)的“法寶”，更是書寫了“健康中國建設(shè)”的優(yōu)秀答卷。 創(chuàng)新突破，堅(jiān)持核心技術(shù)自主可控，以精準(zhǔn)醫(yī)療打開腫瘤診療新境界。 一直以來，大
2023-08-16 14:42:34288 雷達(dá)逐步成為探測核心裝備。在第二次世界大戰(zhàn)中，雷達(dá)（無線電探測及測距， Radio Detection and Ranging，縮寫 Radar）已經(jīng)被應(yīng)用于探測目標(biāo)并取得顯著成果。
2023-08-10 11:25:16714 
此前，國家知識產(chǎn)權(quán)局公布了一項(xiàng)華為新的專利。反射鏡、光刻設(shè)備及其控制方法在極紫外光刻及核心技術(shù)上取得突破性進(jìn)展。 4月，哈工大宣布實(shí)現(xiàn)了“電能轉(zhuǎn)化等離子體線路”,實(shí)現(xiàn)了DPP-EUV光源。 7月23
2023-08-09 16:56:371612 
芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)，比如在EDA工具的國產(chǎn)化、光刻機(jī)等，國產(chǎn)化都還有很長的路要走。有統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國產(chǎn)化率分別達(dá)到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204182 。
Cortex?-A77內(nèi)核具有L1內(nèi)存系統(tǒng)和專用的集成L2緩存。
它還包括。超標(biāo)量、可變長度、無序的管道。
Cortex?-A77核心在Dynamiq?共享單元(DSU)群集中實(shí)施。了解更多。
有關(guān)詳細(xì)信息，請參閱《ARM?Dynamiq?共享單元技術(shù)參考手冊》。
2023-08-08 07:17:20
(CSDB、SSBB、PSSBB)指令。
Cortex?-A76內(nèi)核具有L1內(nèi)存系統(tǒng)和專用的集成L2緩存。
它還包括一個(gè)超標(biāo)量、可變長度、無序的管道。
Cortex?-A76核心在Dynamiq?共享
2023-08-08 07:05:05
洞悉全球汽車產(chǎn)業(yè)格局，前瞻業(yè)界未來趨勢。2023年7月27日-30日，時(shí)隔三年，重聚武漢國際博覽中心，2023世界汽車制造技術(shù)暨智能裝備博覽會(huì)盛大開幕。深耕汽車行業(yè)多年的世界汽車制造技術(shù)暨智能裝備
2023-08-04 13:47:21
Arm Cortex-A78C核心技術(shù)參考手冊
2023-08-02 13:44:07
ARM9E-S核心技術(shù)參考手冊
2023-08-02 12:00:18
Arm Cortex-A65核心技術(shù)參考手冊
2023-08-02 07:38:58
因?yàn)樵撚?jì)數(shù)器數(shù)據(jù)直接綁定到GPU塊。
在本指南結(jié)束時(shí)，您將更好地了解Mali-Midgard系列GPU如何通過共享訪問L2緩存來執(zhí)行著色器核心操作，Tripipe執(zhí)行核心的三個(gè)不同管道是如何工作
2023-08-02 06:20:08
的產(chǎn)品線，并滿足下游廠商的不同需求，才能在競爭激烈的市場中脫穎而出。其中，廣東歐萊高新材料股份有限公司（歐萊新材）依托經(jīng)驗(yàn)豐富的核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)，持續(xù)推動(dòng)技術(shù)工藝的創(chuàng)新和突破，形成了豐富的產(chǎn)品體系，且主要產(chǎn)品
2023-07-19 15:01:42263 領(lǐng)域展開深度技術(shù)合作，充分發(fā)揮各自業(yè)務(wù)領(lǐng)域的優(yōu)勢資源，搭建技術(shù)交流合作平臺，共同為構(gòu)建新型起重裝備制造體系、推進(jìn)中國高端裝備制造業(yè)創(chuàng)新發(fā)展作出積極貢獻(xiàn)。 華新機(jī)電總經(jīng)理王吉如、副總經(jīng)理沈策以 及華新機(jī)電核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)
2023-07-18 16:40:01983 摘要 ：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機(jī)。曝光波長為193nm的投影式光刻機(jī)因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點(diǎn)的優(yōu)勢已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592 
運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)屬于國家戰(zhàn)略物資，對于數(shù)控機(jī)床、機(jī)器人及各類高端裝備高質(zhì)高小運(yùn)行至關(guān)重要，運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的智能化控制是裝備領(lǐng)域和制造行業(yè)的核心技術(shù)，決定了裝備的精度、效率。
2023-07-11 16:58:271462 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
展覽會(huì)（AMTS）以國際化的視角呈現(xiàn)汽車工程領(lǐng)域全方位的系統(tǒng)集成解決方案。AMTS2023第十八屆上海國際汽車制造技術(shù)與裝備及材料展覽會(huì)作為AMTS品牌全球系列展的母
2023-07-05 10:11:34437 
? ? 紫外光刻和曝光 是半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)各種高端芯片、微觀電路結(jié)構(gòu)的核心技術(shù)。在紫外光刻過程中，光源發(fā)射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細(xì)圖案。 長期以來
2023-07-05 10:11:241026 光刻機(jī)的難度在于要滿足復(fù)雜的制程需求、高精度的要求以及大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn)。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，光刻機(jī)制造商需要投入大量的研發(fā)資源和技術(shù)創(chuàng)新，不斷提升設(shè)備性能和穩(wěn)定性。
2023-06-28 16:37:4819503 搞光刻機(jī)必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機(jī)畢竟不是核彈，光刻機(jī)從試驗(yàn)機(jī)改良成量產(chǎn)機(jī)，需要與產(chǎn)線相結(jié)合試驗(yàn)生產(chǎn)，這些步驟是不可能秘密進(jìn)行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
·從接觸式到EUV，制程持續(xù)演進(jìn) ·多個(gè)先進(jìn)系統(tǒng)組合，技術(shù)壁壘極高 光刻機(jī) 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 光刻機(jī)是芯片制造最核心環(huán)節(jié) 光刻機(jī)是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個(gè)工藝，如初步氧
2023-06-19 10:04:008367 
近日，湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
光刻機(jī)技術(shù)有多難搞？有人將它與核彈相提并論：目前，全球光刻機(jī)已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節(jié)點(diǎn)以下，ASML穩(wěn)穩(wěn)占據(jù)100%的市場，佳能和尼康等同業(yè)競爭對手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品，并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心設(shè)備之一，其發(fā)展過程當(dāng)然是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要組成部分。雖然我們在網(wǎng)上經(jīng)?？梢钥吹?b class="flag-6" style="color: red">光刻機(jī)的突破性地圖，但事實(shí)上，從光刻機(jī)的概念萌芽到目前的技術(shù)發(fā)展和大量生產(chǎn)，其發(fā)展過程是漫長而艱辛的。
2023-06-08 09:30:07992 由于無法獲得尖端光學(xué)光刻技術(shù)，中國芯片的制造工程目前限制在14納米，為了獲得更小的芯片、更強(qiáng)的性能，突破尖端包裝技術(shù)更為重要。此前，toff micro實(shí)現(xiàn)了5納米芯片技術(shù)，吸引了美國企業(yè)amd的關(guān)注，將本公司80%的包裝事業(yè)委托給了該中國企業(yè)。
2023-06-01 11:33:532619 汽車整車制造、高端電子制造等領(lǐng)域。 近年來，包括上海思客琦智能裝備科技股份有限公司（以下簡稱：思客琦）在內(nèi)的行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)，通過不斷的研發(fā)投入和技術(shù)積累，突破多項(xiàng)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的重大智能裝備，初步形成了自動(dòng)
2023-05-24 17:01:32246 摘 要：針對半導(dǎo)體工藝與制造裝備的發(fā)展趨勢進(jìn)行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術(shù)發(fā)展的角度，分析半導(dǎo)體工藝與制造裝備的總體發(fā)展趨勢，重點(diǎn)介紹集成電路工藝設(shè)備、分立器件工藝設(shè)備等細(xì)分領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展態(tài)勢和主要技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-05-23 15:23:47974 
汽車整車制造、高端電子制造等領(lǐng)域。 ? 近年來，包括上海思客琦智能裝備科技股份有限公司（以下簡稱：思客琦）在內(nèi)的行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)，通過不斷的研發(fā)投入和技術(shù)積累，突破多項(xiàng)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的重大智能裝備，初步形成了自
2023-05-23 10:28:24247 芯片產(chǎn)業(yè)一直是我國目前致力于突破的重點(diǎn)領(lǐng)域。畢竟，今天是一個(gè)強(qiáng)調(diào)高科技的時(shí)代。只有掌握了芯片領(lǐng)域的核心技術(shù)，才能徹底擺脫受制于人的命運(yùn)。我們必須知道，美國為了遏制我國在芯片領(lǐng)域的發(fā)展，已經(jīng)對許多中國
2023-05-16 16:46:261925 
不僅是國內(nèi)的網(wǎng)友這么認(rèn)為，唯光刻機(jī)論在海外也很有市場，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會(huì)強(qiáng)調(diào)光刻機(jī)會(huì)卡脖子，而有了光刻機(jī)，臺積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
的嵌入式技術(shù)企業(yè)，專注嵌入式核心控制系統(tǒng)研發(fā)、設(shè)計(jì)和生產(chǎn)，推出的智能主控產(chǎn)品在能源及電力領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
在未來，飛凌嵌入式將按照國家六部委意見精神，專注智能設(shè)備核心平臺研發(fā)與制造
2023-05-11 15:33:10
2023年中國光刻機(jī)現(xiàn)狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機(jī)被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進(jìn)的光刻機(jī)給我們，這也讓這些年來無數(shù)國人關(guān)注光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)度。
2023-05-10 16:24:1521220 在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 智能制造裝備技術(shù)是指為實(shí)現(xiàn)智能制造而開發(fā)的高度智能化、自動(dòng)化、柔性化的工裝設(shè)備、機(jī)械裝置、工具等技術(shù)，其主要作用是提高制造流程的效率、精度和品質(zhì)。
2023-04-25 14:54:269994 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
中國在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進(jìn)的技術(shù)，雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距，但近年來中國在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了一些進(jìn)展，下面將詳細(xì)介紹中國目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466 無線回傳技術(shù)是移動(dòng)回傳網(wǎng)絡(luò)中連接基站與核心網(wǎng)設(shè)備的關(guān)鍵技術(shù)。隨著通信速率需求的不斷提升，移動(dòng)通信頻段被擴(kuò)展至毫米波和更高的太赫茲頻段，信號傳輸損耗大大增加，基站部署密度將成倍增長。
2023-04-20 10:04:26659 ? ? ? ?好消息，中國6G通信技術(shù)研發(fā)取得重要突破！ 日前，國內(nèi)完成首次太赫茲軌道角動(dòng)量的實(shí)時(shí)無線傳輸通信實(shí)驗(yàn)，最大限度提升了帶寬利用率，這是中國航天科工二院完成的通信實(shí)驗(yàn)，利用高精度螺旋相位
2023-04-19 18:58:486040 軟硬件產(chǎn)品的研發(fā)，是國家級高新技術(shù)企業(yè)。堅(jiān)持自主創(chuàng)新，積極聯(lián)合各大高校協(xié)同運(yùn)動(dòng)控制基礎(chǔ)技術(shù)的研究，是國內(nèi)工控領(lǐng)域發(fā)展最快的企業(yè)之一，也是國內(nèi)少有、完整掌握運(yùn)動(dòng)控制核心技術(shù)和實(shí)時(shí)工控軟件平臺技術(shù)的企業(yè)，主要核心產(chǎn)品有激光振鏡運(yùn)動(dòng)控制器、運(yùn)動(dòng)控制器、運(yùn)動(dòng)控制卡、視覺運(yùn)動(dòng)控制一體機(jī)、遠(yuǎn)程IO模塊和HMI等。
2023-04-19 14:34:32
在智能時(shí)代，人工智能的底層關(guān)鍵技術(shù)包括智能裝備、智能產(chǎn)品、互聯(lián)網(wǎng)和大數(shù)據(jù)，而機(jī)器人是智能裝備和智能產(chǎn)品的核心技術(shù)之一。
2023-04-07 10:51:35215 肖特基的硅片上制作孔專利 此后， IBM開始在集成電路領(lǐng)域發(fā)力，并在垂直電互連方面取得了突破。
2023-04-06 11:12:381605 一樣。像上文提及的EUV光刻機(jī)則是用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)，此外還有封裝芯片的光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 近幾年，我國本土企業(yè)在光刻機(jī)的研制方面正一步一個(gè)腳印地穩(wěn)步前進(jìn)，拿上海微電子裝備股份有限公司來說，近幾年，其先
2023-04-06 08:56:49679 
項(xiàng)核心技術(shù)。光控制技術(shù)有如下特點(diǎn)01使用指向性的全新感覺的光顯示除了控制光的強(qiáng)度和顏色之外還可控制指向性，實(shí)現(xiàn)了逼真的質(zhì)感表現(xiàn)和空中圖像等全新光感帶來的顯示效果。02透
2023-04-03 10:31:11426 
光刻是將設(shè)計(jì)好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標(biāo)圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個(gè)核心流程：涂膠、對準(zhǔn)和曝光以及光刻膠顯影，整個(gè)過程涉及光刻機(jī)，涂膠顯影機(jī)、量測設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備，其中價(jià)值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機(jī)。
2023-03-25 09:32:394950 為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻是芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載，每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377488 
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