電子發燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。而眾所周知，EUV光刻機產能有限而且成本高昂，業界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產高端芯片的技術和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2911 電子發燒友網報道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺瘋傳一條消息，稱清華大學EUV項目，把ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502576 
電子發燒友網報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術，首先想到的自然是光刻機和光刻技術。眾所周知在芯片行業，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
聯想入股中科慧靈機器人公司 日前聯想入股中科慧靈機器人公司，北京中科慧靈機器人技術有限公司成立于2023年8月，是一家面向智能機器人、人工智能服務的企業，聯想的入股或是在加大對智能機器人的布局。
2024-03-21 16:46:34248 光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4142 
與正光刻膠相比，電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解，而曝光的光刻膠則保留下來，從而形成負像。
2024-03-20 11:36:50193 
3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關動態
2024-03-14 08:42:345 
刻蝕機的刻蝕過程和傳統的雕刻類似，先用光刻技術將圖形形狀和尺寸制成掩膜，再將掩膜與待加工物料模組裝好，將樣品置于刻蝕室內，通過化學腐蝕或物理磨蝕等方式將待加工物料表面的非掩膜區域刻蝕掉，以得到所需的凹槽和溝槽。
2024-03-11 15:38:24460 
據荷蘭《電訊報》3月6日報道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復接觸和分離，隨著曝光次數的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業界嘩然。據悉，荷蘭政府為阻止這一可能發生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 來源：半導體行業聯盟，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 3月3日消息，華為哈勃投資事件數量開始回落，2023 年僅在投資市場上出手 9 次，同比大降62.5%，基本與其成立之初持平。 哈勃投資
2024-03-07 09:32:12227 英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠，據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半導體產業中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 根據資料顯示，在2012年，為了支持ASML EUV光刻機的研發與商用，并獲得EUV光刻機的優先供應，在2012年，英特爾、臺積電、三星均斥資入股了ASML。2012年7月，英特爾入股ASML獲得15%股權，并出資10億美元支持研發。
2024-02-23 17:27:59562 來源：DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨，與ASML的EVU設備競爭市場，因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
光刻機是微電子制造的關鍵設備，廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
來源：AIot工業檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設備的力度，以提高產能。作為EUV光刻機制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
2024-01-26 09:20:12409 珠三角地區做攝像機、高速球、數碼矩陣、網絡攝像機、平安城市的安防企業支撐的，但是深圳的安防企業方陣在與杭州的安防企業集群PK中敗下陣來了，市場被杭州的海康威視、大華、紅蘋果這些給吃掉了，市場和企業都沒有了
2024-01-23 14:49:46
太平洋安防市場原來生意很旺，安防市場是由珠三角地區做攝像機、高速球、數碼矩陣、網絡攝像機、平安城市的安防企業支撐的，但是深圳的安防企業方陣在與杭州的安防企業集群PK中敗下陣來了，市場被杭州的海康威視
2024-01-23 09:51:28
關于光刻機，大家還記得美國荷蘭日本的三方協議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個領域的重要性不斷提升，人們對芯片制造的關注也日益增加。 但半導體產業鏈非常復雜，不僅僅涉及到底層的架構設計，還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346 
在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后，美國官員聯系了荷蘭政府。荷蘭外交發言人表示，出口許可證是根據荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 光刻與光刻機
?對準和曝光在光刻機(Lithography Tool)內進行。
?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。
光刻機結構及工作原理
?光刻機簡介
?光刻機結構及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
歡迎了解 光刻機（Lithography Machine）是一種半導體工業中常用的設備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉移到硅片上，是IC制造的核心環節，光刻機的基本工作原理是利用光學原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
勻膠是光刻中比較重要的一步，而旋涂速度是勻膠中至關重要的參數，那么我們在勻膠時，是如何確定勻膠速度呢？它影響光刻膠的哪些性質？
2023-12-15 09:35:56442 
光學模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學成像理論，預先計算出透射相交系數（TCCs），從而描述光刻機的光學成像。光學模型中，經過優化的光源，通過光刻機的照明系統，照射在掩模上。如果在實際光刻
2023-12-11 11:35:32288 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
雕刻電路圖案的核心制造設備是光刻機，它的精度決定了制程的精度。光刻機的運作原理是先把設計好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 
就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲了超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分，占據總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570 
1. 尼康將推出成熟制程光刻機，積極開拓中國市場 ? 目前在全球光刻機市場中，荷蘭ASML掌握62%的市場份額排名第一，佳能排名第二，占比31%。尼康排在第三位，占比僅7%，明顯落后。不過尼康近期
2023-11-09 11:17:29283 目前，俄羅斯雖然擁有利用外國制造設備的65納米技術，但不能生產光刻機。在現代光刻設備的情況下，外國企業被禁止出口之后，俄羅斯正在忙于自身的生產設備開發。
2023-11-06 11:38:55473 2020年時，ASML總裁還聲稱中國即使拿到設計圖紙也無法自制光刻機。但2021年開始，其態度出現變化，承認中國有可能獨立制造光刻機系統。2022年甚至主動表示要繼續向中國出售光刻機。2023年上半年，ASML開始大量向中國傾銷光刻機。
2023-10-30 16:18:101124 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
當制程節點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個生產線的良率也非常低，無法形成大規模的商業化生產。
2023-10-13 14:45:03834 
水平。 ? 美光的1γ節點 ? 在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV光刻機，用于開發下一代DRAM，基于最先進的1γ節點。此消息一出，美光也就成為第一個為日本引入EUV光刻機的企業，美光計劃在未來幾年內，為位于廣島的設施投資5000億日元持續
2023-10-10 01:13:001437 SMT鐳雕機_自動在線激光刻印_全自動翻板鐳雕機PCB在線激光鐳雕機，選用國際領先工業級激光器，加工速度快，使用壽命長， 可刻印漢字，英文、數字、圖表、流水號、LOGO、條形碼、二維碼等內容
2023-09-23 10:16:45
九月，華為新一代旗艦手機正式亮相市場，華為產業鏈火熱不斷。作為與電感變壓器企業息息相關的終端客戶，華為的動向給行業又帶來了哪些影響?
2023-09-20 10:17:21634 UV光刻機一般可以分為5種，即：接觸式光刻機，接近式光刻機，掃描投影式光刻機
2023-09-19 11:32:521303 
8 月 28 日，由華為云與生態伙伴聯合發起的“828?B2B 企業節”即將開幕，在這個以數字化轉型為主題的盛會上，華為云會攜手行業合作伙伴將以全新的形式為中小企業提供一個高效、便捷的在線溝通平臺
2023-09-12 23:18:22162 在芯片制造過程中，光刻機用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學系統將圖形投射到硅片上，以形成所需的微小結構和圖案。
2023-09-12 14:34:372324 早在2015年，中國的長春光機所就成功研發出了EUV（極紫外光刻）光刻機的高精度弧形反射鏡系統。這個系統的多層層鍍膜面形誤差小于0.1納米，達到了EUV級光刻機的標準。這個成就在國際上已經堪稱頂尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 運動平臺如雙XY橋臺、雙驅動龍門臺、空流平臺等。這些線性運動平臺也將用于光刻機、面板處理、測試機、印刷電路板鉆并機、高精度激光處理設備、基因序列儀、腦細胞成像儀和其他醫療設備。
高動態響應
低安裝高度
UL與CE認證
持續推力范圍103N至
瞬間推力范圍289N至
安裝高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
光刻機是半導體制造行業的“心臟”，也是集成電路制造過程中不可或缺的關鍵設備。盡管國在半導體領域取得了顯著進展，但在光刻機的自主研發方面仍面臨諸多挑戰。本文旨在分析國產光刻機研發中的幾大難點。
2023-08-30 09:42:062096 
，華為旗下深圳哈勃科技投資合伙企業（有限合伙）入股南京中江新材料科技有限公司，后者注冊資本由3000萬人民幣增至3529.41萬人民幣，哈勃將持有中江科易15%股權
2023-08-29 08:11:43976 
比亞迪入股前華為“天才少年”創辦的智元機器人 前幾天智元機器人的人形機器人“遠征A1”于正式發布。現在前華為“天才少年”“稚暉君”創辦的智元機器人再次迎來好消息，比亞迪入股。 比亞迪押注華為
2023-08-25 18:04:181483 東方嘉盛回答說，公司上半年向深圳海關申請設立寄售維修保稅倉庫，已經得到批準。7月初，公司已中標，將與國際頭芯片光刻機制造企業合作，共同在深圳建設承銷保價倉庫，為華南地區集成電路制造企業提供全天候快速反應的光刻機承銷維修服務。
2023-08-24 11:20:44687 光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531585 
光刻機有半導體工業“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產芯片所需要的最關鍵和最復雜的設備之一（一臺光刻機有10萬個組件）。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產品美國、日本和中國均能生產），而絕大部分的組件供應商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 、真空鍍膜的國產化率達到10-30％，在原子層沉積、光刻、量測檢測、離子注入的國產化率暫時低于5％。還有很長的路要走，還有很多創新要去發力，還有很多的困難要去克服。 對于光刻機而言我們也在積極發力，比如華為也在光刻機技術取得了
2023-08-09 11:50:204182 喜報！我國第一臺28nm光刻機，交付時間已定！
2023-08-02 16:54:41965 
聯想入股RISC-V計算芯片商進迭時空 RISC-V計算芯片商進迭時空已經得到了知名投資機構經緯、耀途、萬物、真格等的投資。 日前，聯想入股RISC-V計算芯片商進迭時空；進迭時空（杭州
2023-07-31 18:49:531000 隨著制程工藝的進步，DRAM內存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設備實在太貴，現在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內存有望實現單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設備，用于半導體制造業中的微電子芯片生產。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:471095 摘要 ：隨著微電子產業的迅猛發展，我國迫切需要研制極大規模集成電路的加工設備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術成熟、曝光線寬可延伸至32nm節點的優勢已成為目前光刻領域的主流設備
2023-07-17 11:02:38592 
ASML：沒向中國推出特別版光刻機 就是荷蘭出臺光刻機限制出口禁令后ASML給出了回應，ASML：沒向中國推出特別版光刻機。ASML表示ASML一致都遵守所適用的法律條例，并沒有面向中國市場推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻機是半導體產業的重要設備之一。網傳荷蘭ASML（阿斯麥）試圖規避荷蘭新銷售許可禁令，向中國推出特別版DUV光刻機，但ASML據報否認這一行動，并指一直都遵守所適用的法律條例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造，而 1980Di 是 10?年前推出
2023-07-06 16:45:01924 
6月27日，記者查詢天眼查發現，近日，深圳銳視智芯科技有限公司（下稱“銳視智芯”）發生工商變更，新增股東華為關聯公司深圳哈勃科技投資合伙企業（有限合伙）、青島同歌一期創業投資基金合伙企業（有限合伙
2023-06-29 08:44:11284 光刻機的難度在于要滿足復雜的制程需求、高精度的要求以及大規模生產的挑戰。為了應對這些挑戰，光刻機制造商需要投入大量的研發資源和技術創新，不斷提升設備性能和穩定性。
2023-06-28 16:37:4819503 報道稱，ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展開合作，有望強化供應鏈。
2023-06-27 16:08:05498 
搞光刻機必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機畢竟不是核彈，光刻機從試驗機改良成量產機，需要與產線相結合試驗生產，這些步驟是不可能秘密進行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
電子發燒友網報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產業中，除了光刻機等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經過曝光后將圖形信息轉移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻機對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質量和效率的重要因素。縱觀全球光刻機市場，荷蘭ASML公司一家獨大，占據全球80%的光刻機市場份額，高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環節，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備，市場規模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現象凸顯 光刻機：多個先進系統的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 
來源：欣奕華材料 據欣奕華材料官微消息，近日，國內光刻膠龍頭企業阜陽欣奕華材料科技有限公司（以下簡稱“阜陽欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據悉，本輪融資由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機，250W的功率，每天耗電達到三萬度。
生產效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻機技術有多難搞？有人將它與核彈相提并論：目前，全球光刻機已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。10nm節點以下，ASML穩穩占據100%的市場，佳能和尼康等同業競爭對手難以打破這樣的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技術開發的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業的領頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業。2012年，asml推出了世界上第一個euv試制品，并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻機是半導體制造領域的核心設備之一，其發展過程當然是半導體產業發展的重要組成部分。雖然我們在網上經常可以看到光刻機的突破性地圖，但事實上，從光刻機的概念萌芽到目前的技術發展和大量生產，其發展過程是漫長而艱辛的。
2023-06-08 09:30:07992 極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶日本某生產半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
上海伯東客戶某光刻機生產商, 生產的電子束光刻機 Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 ，獲2輪及以上融資的企業占比達54%。
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生態伙伴介紹：深圳科創學院
深圳科創學院由李澤湘教授攜二十多年科創教育以及150 多家硬科技企業、包括8家估值過十億美金的獨角獸企業培育與孵化的經驗，集合
2023-05-26 10:56:51
之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結構。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級別，才能穩定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 在投影光刻機照明系統中，均勻照明是保證加工出的線條線寬均勻一致的一項重要技術。通常，用于光刻機照明系統的勻光元件有積分棒、衍射光學元件和微透鏡陣列。積分棒勻光的缺點是，限制了照明最大孔徑角
2023-05-17 14:52:061061 
不僅是國內的網友這么認為，唯光刻機論在海外也很有市場，似乎大部分網友都是這樣想的，已經到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會強調光刻機會卡脖子，而有了光刻機，臺積電這樣的公司就能隨便復制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們，這也讓這些年來無數國人關注光刻機的研發進度。
2023-05-10 16:24:1521220 在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
光刻機是半導體工業中非常重要的設備，用于在半導體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對較大，目前市場上僅有少數幾家公司能夠生產出頂級光刻機。那么，中國能否造出頂級光刻機呢？
2023-04-07 13:35:244597 一樣。像上文提及的EUV光刻機則是用于生產芯片的光刻機，此外還有封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領域的投影光刻機。 近幾年，我國本土企業在光刻機的研制方面正一步一個腳印地穩步前進，拿上海微電子裝備股份有限公司來說，近幾年，其先
2023-04-06 08:56:49679 
光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程：涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影，整個過程涉及光刻機，涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備，其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:394952 為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻，可以極大的降低功耗、節省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經導入
2023-03-23 18:55:377488 
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