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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>高顏值手機!星雨光刻工藝加持,OPPO Reno7系列將登場

高顏值手機!星雨光刻工藝加持,OPPO Reno7系列將登場

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介紹一種高度精密的工藝光刻工藝

用光作為畫筆在微納米世界中作畫。
2023-12-28 16:00:08170

全球光刻膠市場預計收入下滑,2024年有望反彈

所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。其品種繁多,此次漲價涉及的KrF 光刻膠則屬高級別光刻膠,將成為各廠商關(guān)注的焦點。
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什么是掩模版?掩模版(光罩MASK)—半導體芯片的母板設(shè)計

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光刻工藝的基本步驟 ***的整體結(jié)構(gòu)圖

光照條件的設(shè)置、掩模版設(shè)計以及光刻工藝等因素對分辨率的影響都反映在k?因子中,k?因子也常被用于評估光刻工藝的難度,ASML認為其物理極限在0.25,k?體現(xiàn)了各家晶圓廠運用光刻技術(shù)的水平。
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PCB的蝕刻工藝及過程控制

另外一種工藝方法是整個板子上都鍍銅,感光膜以外的部分僅僅是錫或鉛錫抗蝕層。這種工藝稱為“全板鍍銅工藝“。與圖形電鍍相比,全板鍍銅的缺點是板面各處都要鍍兩次銅而且蝕刻時還必須都把它們腐蝕掉。
2023-12-06 15:03:45261

半導體制造技術(shù)之刻蝕工藝

W刻蝕工藝中使用SF6作為主刻步氣體,并通過加入N2以增加對光刻膠的選擇比,加入O2減少碳沉積。在W回刻工藝中分為兩步,第一步是快速均勻地刻掉大部分W,第二步則降低刻蝕速率減弱負載效應(yīng),避免產(chǎn)生凹坑,并使用對TiN有高選擇比的化學氣體進行刻蝕。
2023-12-06 09:38:531536

埃瑞微半導體前道套刻設(shè)備總部項目簽約無錫高新區(qū)

據(jù)了解,無錫埃瑞微半導體設(shè)備有限責任公司以集成電路的全會工程正在專心研發(fā)制造量測量設(shè)備,為光刻工藝的大量生產(chǎn)誤差為代表的夾注測量設(shè)備和其他缺陷正在致力提供監(jiān)測設(shè)備。
2023-12-04 10:09:36288

半導體制造之光刻工藝講解

光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334

數(shù)字后端先進工藝知識科普

很小的尺寸了(寬度或者間距),所以可以用兩層甚至更多層mask來制造一層金屬,如下圖所示,所以可以看到版圖中有紅色和綠色(但看一種顏色,它們的間距光刻是可以加工的)。工藝有LELE(光刻 刻蝕 光刻
2023-12-01 10:20:03596

[半導體前端工藝:第三篇] 光刻——半導體電路的繪制

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2023-11-29 11:25:52242

光刻膠國內(nèi)市場及國產(chǎn)化率詳解

KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50283

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

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2023-11-23 18:13:02579

2023 OPPO開發(fā)者大會正式開幕,ColorOS 14亮相,手機流暢進入「最后一公里」比拼

2023年11月16日,OPPO開發(fā)者大會正式開幕,萬眾期待的ColorOS 14正式發(fā)布,并且已經(jīng)確定,將由OPPO Reno11系列首發(fā)。
2023-11-16 14:33:10408

光刻膠黏度如何測量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項重要指標。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571

中國折疊屏手機Q3出貨大漲90.4%,華為穩(wěn)居第一

OPPO(含一加)位居第二,市場份額16.2%。新品Find N3 Flip系列幫助OPPO在豎折折疊屏手機市場份額排名第一。Reno 10系列持續(xù)熱銷,穩(wěn)住基本盤;子品牌一加(OnePlus)依然保持三位數(shù)的同比增長,提升其線上400-600美元市場的競爭力。
2023-10-29 11:18:06869

半導體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

光刻是半導體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359

請問wincc7d對硬件要求嗎?

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2023-10-25 08:28:11

Bumping工藝流程工作原理 光刻工藝原理和流程

Bumping工藝是一種先進的封裝工藝,而Sputter是Bumping工藝的第一道工序,其重要程度可想而知。Sputter的膜厚直接影響B(tài)umping的質(zhì)量,所以必須控制好Sputter的膜厚及均勻性是非常關(guān)鍵。
2023-10-23 11:18:18475

半導體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝,將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上,是用于微細加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674

關(guān)于光刻技術(shù)的五大分類

光刻是通過一系列操作,除去外延片表面特定部分的工藝,在半導體器件和集成電路制作中起到極為關(guān)鍵的作用。
2023-10-08 10:11:23696

PCB線路板的蝕刻工藝需要注意哪些細節(jié)問題

一站式PCBA智造廠家今天為大家講講pcb打樣蝕刻工藝注意事項有哪些?PCB打樣蝕刻工藝注意事項。PCB打樣中,在銅箔部分預鍍一層鉛錫防腐層,保留在板外層,即電路的圖形部分,然后是其余的銅箔被化學方法腐蝕,稱為蝕刻。
2023-09-18 11:06:30669

低能量電子束曝光技術(shù)

直接蝕刻和剝離是兩種比較流行的圖案轉(zhuǎn)移工藝。在直接蝕刻工藝中,首先使用光刻技術(shù)對聚合物抗蝕劑進行構(gòu)圖,然后通過干法蝕刻技術(shù)用抗蝕劑作為掩模將圖案轉(zhuǎn)移到襯底或子層上。
2023-09-07 09:57:14292

具有鐵芯的P系列推力直接驅(qū)動直線伺服電機

P系列直線電機是一種具有鐵芯的推力直線電機。它具有很高的推力密度和較低的停止力。峰值推力可達450NM峰值加速度可達5G。它是TPA機器人的一種高性能的直接驅(qū)動線性運動臺。常用于高精度直線電動機
2023-09-04 16:14:38

小折疊用天璣!OPPO Find N3 Flip 煥新登場

OPPO Find N3 Flip 正式發(fā)布 MediaTek 天璣 9200 旗艦芯加持 MediaTek 攜手 OPPO 通過一年以上的深度協(xié)作 將天璣 9200 旗艦芯的性能充分釋放 時刻保持
2023-08-29 19:45:01279

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OPPO Find N3 Flip新品發(fā)布 新一代OPPO折疊手機OPPOFindN3Flip今日上市 今日OPPO Find N3 Flip新品發(fā)布;8 月 29 日 16:00 開啟全款預定
2023-08-29 18:18:381020

半導體制造工藝光刻工藝詳解

半導體制造工藝光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221

什么是光刻工藝光刻的基本原理

光刻是半導體芯片生產(chǎn)流程中最復雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產(chǎn)的難點和關(guān)鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實現(xiàn), 光刻工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531586

半導體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細化的關(guān)鍵

在半導體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如,光刻工藝中的光刻膠涂敷,其實也是在基底上形成各種薄膜;又如氧化工藝中晶圓(硅)氧化,也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨要強調(diào)“沉積”工藝呢?
2023-08-17 15:33:27370

如何實現(xiàn)PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

PCB蝕刻工藝中的“水池效應(yīng)”現(xiàn)象,通常發(fā)生在頂部,這種現(xiàn)象會導致大尺寸PCB整個板面具有不同的蝕刻質(zhì)量。
2023-08-10 18:25:431013

光刻技術(shù)概述及其分類

光刻是一種圖像復制技術(shù),是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說,光刻類似照相復制方法,即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面,然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531480

昇印光電完成超億元融資,開發(fā)原理級創(chuàng)新技術(shù):嵌入式納米印刷

當談到該創(chuàng)新工藝時,不可避免地要與傳統(tǒng)的光刻工藝體系進行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層光刻膠;接著將光刻膠圖形化曝光并顯影,形成有圖案的光刻覆蓋區(qū)域
2023-07-29 11:01:50835

次時代EUV光刻已箭在弦上!

半導體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的,盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止,但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130

半導體光刻工藝 光刻—半導體電路的繪制

金屬-氧化物半導體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。
2023-07-27 15:24:51609

光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀

GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統(tǒng))等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學投影技術(shù),通過光線通過
2023-07-07 11:46:07

今日看點丨ASML:沒有向中國市場推出特別版***;蘋果 iPhone 15 系列將于 8 月量產(chǎn)

1.ASML :沒有向中國市場推出特別版光刻機 ? 近日消息人士稱,荷蘭推出并即將實施出口限制,ASML可能會發(fā)布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調(diào)整版,以減輕對中國芯
2023-07-07 10:49:15708

案例分享,充電異常的OPPO R9SP

OPPO
學習電子知識發(fā)布于 2023-07-03 20:02:54

3D IC對光刻技術(shù)的新技術(shù)要求

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-30 10:06:02261

半導體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細化的關(guān)鍵(上)

在半導體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一種。比如,光刻工藝中的光刻膠涂敷,其實也是在基底上形成各種薄膜;又如氧化工藝中晶圓(硅)氧化,也需要在基底表面添加各種新材料。那為什么唯獨要強調(diào)“沉積”工藝呢?
2023-06-29 16:58:37404

基于機器學習的逆向光刻技術(shù)

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-29 10:02:17327

淺談半導體制造中的光刻工藝

在之前的文章里,我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史。現(xiàn)在,讓我們繼續(xù)了解光刻工藝,通過該過程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過程與使用膠片相機拍照非常相似。但是具體是怎么實現(xiàn)的呢?
2023-06-28 10:07:472427

淺談半導體制造中的刻蝕工藝

在上一篇文章,我們介紹了光刻工藝,即利用光罩(掩膜)把設(shè)計好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步,將在晶圓上進行刻蝕工藝,以去除不必要的材料,只保留所需的圖形。
2023-06-28 10:04:58843

光刻對準原理與精度控制

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-26 17:00:19766

一文了解光刻的歷史

如今,光刻技術(shù)已成為一項容錯率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度,在硅上刻出微小的形狀,尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569

半導體圖案化工藝流程之刻蝕(一)

Dimension, CD)小型化(2D視角),刻蝕工藝從濕法刻蝕轉(zhuǎn)為干法刻蝕,因此所需的設(shè)備和工藝更加復雜。由于積極采用3D單元堆疊方法,刻蝕工藝的核心性能指數(shù)出現(xiàn)波動,從而刻蝕工藝光刻工藝成為半導體制造的重要工藝流程之一。
2023-06-26 09:20:10816

CMP工藝影響下的版圖優(yōu)化

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-20 10:51:43335

硅基光刻技術(shù)在柔性電子器件制造中的應(yīng)用

近日,湖南大學段輝高教授團隊通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝,用于柔性及不規(guī)則(曲面、懸空)襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造,為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507

面向光刻的設(shè)計規(guī)則建立及優(yōu)化

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-14 10:16:38226

基于面向工藝輪廓仿真的水平集(level set)算法

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。 考慮到這些內(nèi)容也是目前業(yè)界關(guān)注的實用技術(shù),征得教師和學生的同意,本公眾號將陸
2023-06-13 16:24:08227

半導體制造光刻工藝制作流程

金屬-氧化物半導體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。MOSFET體積越小,單個 MOSFET的耗電量就越少,還可以制造出更多的晶體管,讓其發(fā)揮作用,可謂是一舉多得。
2023-06-13 12:29:09596

3D NAND刻蝕工藝的挑戰(zhàn)及特點

外,學生還就感興趣的課題做深入調(diào)研。師生共同討論調(diào)研報告,實現(xiàn)教學互動。調(diào)研的內(nèi)容涉及光刻工藝光刻成像理論、SMO、OPC和DTCO技術(shù)。
2023-06-12 11:19:55562

芯片制造中人類科技之巔的設(shè)備---***

機、離子注入機、拋光設(shè)備、清洗設(shè)備和檢測設(shè)備等。在整個半導體芯片制造過程中,光刻是最復雜工藝光刻工藝的費用約占芯片制造成本的1/3左右,耗費時間占比約為40-5
2023-06-12 10:13:334452

芯片制造之光刻工藝詳細流程圖

光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機用于芯片的制造,曝光工藝極其復雜,后道光刻機主要用于封裝測試,實現(xiàn)高性能的先進封裝,技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857

重點闡述濕法刻蝕

光刻工藝后,在硅片或晶圓上形成了光刻膠的圖形,下一步就是刻蝕。
2023-06-08 10:52:353318

知識分享---光刻模塊標準步驟

通常,光刻是作為特性良好的模塊的一部分執(zhí)行的,其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當?shù)目刮g劑調(diào)節(jié)。光刻工藝步驟需要按順序進行表征,以確保模塊末端剩余的抗蝕劑是掩模的最佳圖像,并具有所需的側(cè)壁輪廓。
2023-06-02 16:30:25418

一文了解DPC陶瓷基板工藝流程

直接鍍銅陶瓷基板(Direct Plating Copper, DPC)是在陶瓷薄膜工藝加工基礎(chǔ)上發(fā)展起來的陶瓷電路加工工藝。以氮化鋁/氧化鋁陶瓷作為線路的基板,采用濺鍍工藝于基板表面復合金屬層,并以電鍍和光刻工藝形成電路。
2023-05-31 10:32:021587

【機器視覺】歡創(chuàng)播報 | OPPO Reno10 系列正式發(fā)布

1 OPPO Reno10 系列正式發(fā)布 ? 24日,OPPO Reno10系列發(fā)布。據(jù)介紹,Reno10系列全系標配超光影長焦,配合OPPO超光影算法,F(xiàn)ind X6系列同款動態(tài)光影屏,實現(xiàn)人像
2023-05-25 15:44:57452

AAC為Reno10系列創(chuàng)新定制感知系統(tǒng)解決方案

5月24日,OPPO全新Reno10系列發(fā)布,這是Reno的十代里程碑之作,感知體驗全面升級。
2023-05-25 10:19:40380

產(chǎn)品力不容小覷,OPPO Reno10系列2499元起售,影像性能更強悍了

滿滿,不僅提供標準版、Pro版和Pro+版三款機型,滿足不同需求和預算的消費者。 和歷代Reno系列產(chǎn)品一樣,OPPO Reno10系列擁有輕薄機身高顏值的屬性。它擁有燦爛金、暮光紫、月海黑、溢彩藍四種全新優(yōu)雅配色,并在燦爛金配色上再次工藝創(chuàng)新,通過金縷流紗工藝,賦予機身精密
2023-05-25 10:07:44598

全系標配超光影長焦,十代里程碑之作 OPPO Reno10 系列今日正式發(fā)布

OPPO 今日正式發(fā)布 Reno 十代里程碑之作 Reno10 系列新品。得益于 Reno 系列在輕薄美學和人像科技賽道的長期深耕,Reno10 系列創(chuàng)新地為用戶帶來一款兼具輕薄手感和大底潛望的人像輕旗艦。
2023-05-24 16:03:25930

OPPO Reno10 系列兼顧輕薄手感與大底潛望長焦,定檔5月24日

OPPO 今日宣布,OPPO Reno10 Pro+的重量僅為194g,難得地兼顧了輕薄手感與大底潛望長焦。OPPO Reno10 系列,既是人像旗艦,又是輕薄標桿。
2023-05-19 17:56:411140

7種方法教您怎么進步電感Q

的方法來進步電感Q7種方法教您怎么進步電感Q總得來說,以上7種進步電感Q的方法,就是經(jīng)過對電感資料,尺度,繞線方法以及工藝上的優(yōu)化,來盡可能的下降電感損耗,然后進步Q。更多概況咨詢金昊德客服。
2023-05-19 15:08:32

采用光刻膠犧牲層技術(shù)改善薄膜電路制備工藝

改善之后的工藝與之前最大的區(qū)別在于使用光刻膠充當濺射的掩膜,在電鍍之前將電路圖形高精度的制備出來,不再進行濕法刻蝕,避免了側(cè)腐蝕對線條精度和膜基結(jié)合力的影響,同時,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻膠,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218

音圈馬達加持的Pixel Fold折疊屏手機

音圈馬達加持的Pixel Fold折疊屏手機。近日,谷歌宣布,2023年度 I/O 大會在美國加利福尼亞州山景城舉行。這次還帶來傳聞已久的Pixel Fold折疊屏手機。 據(jù)小編音圈馬達獲悉,谷歌
2023-05-12 08:38:40227

全面解讀光刻工藝制造流程

光刻膠可以通過光化學反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩(掩模版)轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景,這里的待加工基片可以是集成電路材料,顯示面板材料或者印刷電路板。
2023-05-11 16:10:492775

積木易搭Magic Swift Plus為雕刻工藝品精雕復刻提供三維數(shù)字化解決方案

一、傳統(tǒng)工藝品制作煥發(fā)生機,3D掃描技術(shù)帶來生產(chǎn)工藝革新 傳統(tǒng)工藝美術(shù)是老百姓在日常生活和勞作中的精神提煉與藝術(shù)創(chuàng)作的具體體現(xiàn)。而雕刻便是傳統(tǒng)工藝美術(shù)的具體表現(xiàn)之一。傳統(tǒng)的雕刻工藝包括木雕、浮雕
2023-04-25 13:04:47375

光刻技術(shù)的種類介紹

根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331243

什么是光刻技術(shù)

光刻技術(shù)簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù),CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261

半導體工藝之金屬布線工藝介紹

本篇要講的金屬布線工藝,與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中,光刻、刻蝕等工藝,其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中,會采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線材料(金屬)。
2023-04-25 10:38:49986

光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52

ASML是如何崛起的?半導體發(fā)展的三個歷史階段

那時集成電路也剛剛發(fā)明不久,光刻工藝還在微米級別,工藝步驟也比現(xiàn)在簡單很多美國是走在世界前列的。在那個對工藝要求并不高的年代,很多半導體公司通常自己用鏡頭設(shè)計光刻工具,光刻機在當時甚至不如照相機的結(jié)構(gòu)復雜。
2023-04-20 09:22:331314

OPPO Reno5pro 不開機 不充電 充電反復重啟 通病修復#手機維修#硬聲創(chuàng)作季

手機技術(shù)電路維修
也許吧發(fā)布于 2023-04-19 09:20:38

淺談EUV光刻中的光刻膠和掩模等材料挑戰(zhàn)

新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā),必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn),imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164

三相對稱負載型連接時線電壓的最大是相電壓有效的多少倍?

三相對稱負載型連接時線電壓的最大是相電壓有效的多少倍?
2023-04-07 11:44:42

泰晶科技攜全系列產(chǎn)品亮相2023(春季)亞洲智能穿戴展

泰晶科技擁有全系列豐富的產(chǎn)品條線,不斷深化半導體光刻工藝應(yīng)用在石英晶體上,推出了32.768kHz K2012/1610音叉晶體,M2016/1612/1210超小尺寸晶體諧振器。
2023-04-03 09:15:55422

PCB加工的蝕刻工藝

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個比較復雜的物理和化學反應(yīng)的過程,本文就對其最后的一步--蝕刻進行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

OPPO Pad 2 獨具好屏 煥新登場

OPPO Pad 2 獨具好屏,眼界大開 輕薄靈巧 舒適握持 全新發(fā)布的 OPPO Pad 2 采用堅固耐用的全金屬一體化機身設(shè)計,并帶來創(chuàng)新星軌雕刻工藝,使得機身背部的金屬光澤能夠隨光線變化流動,在呈現(xiàn)獨特美感的同時,更具質(zhì)感;6.54mm 輕薄機身結(jié)合圓角設(shè)計,輕巧好帶
2023-03-26 13:15:02518

【魯班貓創(chuàng)意氛圍賽】智能像素時鐘--報名帖

ESP8266制作該項目。硬件組成部分框圖如下:可以實現(xiàn)像素時鐘的顯示、天氣的顯示、當前時間的顯示、黑客帝國流星特效、喝水提醒、倒計時等功能。
2023-03-25 21:19:15

被卡脖子的半導體設(shè)備(萬字深度報告)

光刻是將設(shè)計好的電路圖從掩膜版轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上,通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術(shù)。光刻工藝包括三個核心流程:涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影,整個過程涉及光刻機,涂膠顯影機、量測設(shè)備以及清洗設(shè)備等多種核心設(shè)備,其中價值量最大且技術(shù)壁壘最高的部分就是光刻機。
2023-03-25 09:32:394952

虹軟助力OPPO打造超強影像旗艦機OPPO Find X6

OPPO隆重推出了其旗下超光影三主攝影像旗艦OPPO Find X6系列。這次OPPO Find X6系列帶來的「超光影三主攝」,開啟了移動影像全主攝時代。OPPO Find X6系列每一個攝像頭
2023-03-24 14:51:491728

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