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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>用于蝕刻沖洗和干燥MEMS晶片的最佳工藝條件實(shí)驗(yàn)報(bào)告

用于蝕刻沖洗和干燥MEMS晶片的最佳工藝條件實(shí)驗(yàn)報(bào)告

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2023-09-14 17:18:39785

晶片主要切割方式的原因、區(qū)別和應(yīng)用

晶片切割方式對晶振的性能和應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)生重要影響。不同的切割方式適用于不同的需求和環(huán)境條件,提供了多樣性的選擇。本文將深入探討主要的晶片切割方式,包括原因、區(qū)別以及主要的應(yīng)用領(lǐng)域。
2023-09-14 12:08:371253

采用HLGA表面貼裝封裝的MEMS傳感器產(chǎn)品提供PCB設(shè)計(jì)和焊接工藝的通用指南

本技術(shù)筆記為采用 HLGA 表面貼裝封裝的 MEMS 傳感器產(chǎn)品提供 PCB設(shè)計(jì)和焊接工藝的通用指南。
2023-09-13 08:03:50

淺談PCB蝕刻質(zhì)量及先期存在的問題

要注意的是,蝕刻時的板子上面有兩層銅。在外層蝕刻工藝中僅僅有一層銅是必須被全部蝕刻掉的,其余的將形成最終所需要的電路。這種類型的圖形電鍍,其特點(diǎn)是鍍銅層僅存在于鉛錫抗蝕層的下面。
2023-09-07 14:41:12614

怎么設(shè)計(jì)一個階梯階梯波發(fā)生器

大三上學(xué)期很多同學(xué)都會學(xué)習(xí)“模擬電子線路EDA”,最后一個實(shí)驗(yàn)是設(shè)計(jì)一個階梯階梯波發(fā)生器,通過老師的講稿和學(xué)長們的實(shí)驗(yàn)報(bào)告,我們很容易就設(shè)計(jì)出屬于“自己”的階梯波。
2023-09-06 15:16:472148

pcb蝕刻是什么意思

 在印制板外層電路的加工工藝中,還有另外一種方法,就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內(nèi)層蝕刻工藝,可以參閱內(nèi)層制作工藝中的蝕刻
2023-09-06 09:36:57994

HLGA封裝中MEMS傳感器的表面貼裝指南

本技術(shù)筆記為采用 HLGA 表面貼裝封裝的 MEMS 傳感器產(chǎn)品提供 PCB 設(shè)計(jì)和焊接工藝的通用指南。
2023-09-05 08:27:53

上海新陽上半年凈利潤8681萬元,同比增長776%

方面實(shí)現(xiàn)了償債。”本報(bào)告期間,干法蝕刻洗液產(chǎn)品銷售規(guī)模不斷擴(kuò)大,廣泛應(yīng)用于邏輯電路、模擬電路、存儲器配件等晶片制造客戶。
2023-08-28 10:59:43382

變頻器在煤泥干燥系統(tǒng)的應(yīng)用

再利用,需要進(jìn)行脫水干燥干燥系統(tǒng)的主要設(shè)備包括干燥機(jī)、燃煤爐、鼓風(fēng)機(jī)、引風(fēng)機(jī)、除塵器、刮板機(jī)、給料輸送皮帶、產(chǎn)品輸送皮帶、帶式出料機(jī)、卸料器等。這些設(shè)備中干燥機(jī)、引風(fēng)機(jī)、鼓風(fēng)機(jī)、刮板機(jī)采用變頻器驅(qū)動方式,臺達(dá)C2000系列變頻器在山西興縣某洗煤廠煤泥干燥系統(tǒng)成功應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)了提高生產(chǎn)效率、節(jié)約能源的良好效果。
2023-08-25 10:41:54245

使用各向同性濕蝕刻和低損耗線波導(dǎo)制造與蝕刻材料對非晶硅進(jìn)行納米級厚度控制

我們?nèi)A林科納通過光學(xué)反射光譜半實(shí)時地原位監(jiān)測用有機(jī)堿性溶液的濕法蝕刻,以實(shí)現(xiàn)用于線波導(dǎo)的氫化非晶硅(a-Si:H)膜的高分辨率厚度控制。由a-Si:H的本征各向同性結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的各向同性蝕刻導(dǎo)致表面
2023-08-22 16:06:56272

有關(guān)超聲波晶片測溫中的薄膜效應(yīng)實(shí)驗(yàn)報(bào)告

一層或多層薄膜。從理論和實(shí)驗(yàn)上研究了這些薄膜對溫度靈敏度的影響。使用表面阻抗方法建立了蘭姆波在一般多層板中傳播的理論模型。該模型用于計(jì)算各向異性和薄膜對半導(dǎo)體晶片溫度系數(shù)的影響。計(jì)算預(yù)測,各向異性為23%的10cm(100)硅
2023-08-18 17:05:57638

半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)市場預(yù)計(jì)增長到2028年的120億美元,復(fù)合年增長率為2.5%

半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體製造過程中使用的設(shè)備。 化學(xué)溶液通過將晶片浸入化學(xué)溶液(蝕刻劑)中來選擇性地去除半導(dǎo)體晶片的特定層或區(qū)域,化學(xué)溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58357

通信原理抽樣定理及其應(yīng)用實(shí)驗(yàn)報(bào)告

2023-08-15 15:45:280

如何實(shí)現(xiàn)PCB蝕刻工藝中的均勻性呢?有哪些方法?

PCB蝕刻工藝中的“水池效應(yīng)”現(xiàn)象,通常發(fā)生在頂部,這種現(xiàn)象會導(dǎo)致大尺寸PCB整個板面具有不同的蝕刻質(zhì)量。
2023-08-10 18:25:431215

切割工藝參數(shù)對6英寸N型碳化硅晶片的影響

采用砂漿多線切割工藝加工6英寸(1英寸=25.4 mm)N型碳化硅晶體,研究了此工藝中鋼線張力、 線速度、進(jìn)給速度等切割參數(shù)對晶片切割表面的影響。通過優(yōu)化切割工藝參數(shù),最終得到高平坦度、低翹曲度、 低線痕深度的6英寸N型碳化硅晶片
2023-08-09 11:25:311306

刻蝕工藝流程和步驟 酸性蝕刻和堿性蝕刻的區(qū)別

刻蝕和蝕刻實(shí)質(zhì)上是同一過程的不同稱呼,常常用來描述在材料表面上進(jìn)行化學(xué)或物理腐蝕以去除或改變材料的特定部分的過程。在半導(dǎo)體制造中,這個過程常常用于雕刻芯片上的細(xì)微結(jié)構(gòu)。
2023-07-28 15:16:595061

無塵干燥干燥效果的影響因素

干燥的過程當(dāng)中,如果遇到顆粒無法被完全地干燥,我們就要尋找影響干燥干燥效果的因素。一般有以下四種: 1、干燥溫度 熱量是打開水分子和吸濕聚合物之間合力的關(guān)鍵。當(dāng)高于某一溫度時,水分子和聚合物
2023-07-26 15:32:23330

深度解讀硅微納技術(shù)之的蝕刻技術(shù)

蝕刻是一種從材料上去除的過程。基片表面上的一種薄膜基片。當(dāng)掩碼層用于保護(hù)特定區(qū)域時在晶片表面,蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-14 11:13:32226

深度解讀硅微納技術(shù)之蝕刻技術(shù)

蝕刻是一種從材料上去除的過程。基片表面上的一種薄膜基片。當(dāng)掩碼層用于保護(hù)特定區(qū)域時在晶片表面,蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-12 09:26:03235

小型噴霧干燥機(jī)

小型噴霧干燥機(jī)主要適用于高校、研究所和食品醫(yī)藥化工企業(yè)實(shí)驗(yàn)室生產(chǎn)微量顆粒粉末,對所有溶液如乳濁液、懸浮液具有適用性, 適用于對熱敏感性物的干燥如生物制品、生物農(nóng)藥、酶制劑等,因所噴出的物料只是在
2023-07-10 14:12:33534

鼓風(fēng)干燥箱:基本構(gòu)成、應(yīng)用場景及發(fā)展趨勢

鼓風(fēng)干燥箱是一種重要的干燥設(shè)備,廣泛應(yīng)用于制藥、食品、化工等行業(yè)。它通過鼓風(fēng)的方式將熱量傳遞給物品,以達(dá)到干燥的目的。下面將詳細(xì)介紹鼓風(fēng)干燥箱的構(gòu)成、優(yōu)點(diǎn)、應(yīng)用場景以及發(fā)展趨勢。一、鼓風(fēng)干燥箱的構(gòu)成
2023-07-05 16:32:41591

真空干燥箱:基本原理及優(yōu)點(diǎn)

真空干燥箱是一種重要的干燥設(shè)備,它在許多行業(yè)中都有著廣泛的應(yīng)用。本文將詳細(xì)介紹真空干燥箱的原理、應(yīng)用、優(yōu)點(diǎn)以及使用時的注意事項(xiàng),以幫助讀者更好地了解和使用這種設(shè)備。首先,我們來了解一下真空干燥
2023-07-04 15:22:491101

電子干燥柜的工作原理和種類

電子干燥柜是一種非常重要的電子設(shè)備,性價(jià)比高,容量選擇范圍廣,無噪音,不反潮,干燥速度快,密封性能強(qiáng),可設(shè)定溫度,確保存儲物品的質(zhì)量,增加存儲期限。在使用干燥除濕柜時要選擇合適的種類,掌握正確
2023-07-04 13:49:51732

上海和晟 HS-DZF-6021-MT 無油真空干燥

參數(shù)要求:1. 工作條件1.1 環(huán)境溫度:室溫~30℃1.2 電源:AC380V,50Hz 2. 主要用途廣泛應(yīng)用于生物化學(xué)、化工制藥、醫(yī)療衛(wèi)生、農(nóng)業(yè)科研、環(huán)境保護(hù)等研究應(yīng)用領(lǐng)域,作粉末
2023-06-28 16:15:05

鋁等離子體蝕刻率的限制

都使用Cl基蝕刻化學(xué)物質(zhì)。當(dāng)在等離子體放電中分解時,CCl為還原物質(zhì)提供了來源,并用于去除表面氧化物和Cl,與下面的Al反應(yīng)。
2023-06-27 13:24:11377

鍺、硅、SiNx薄膜的各向同性等離子體蝕刻

CMOS和MEMS制造技術(shù),允許相對于其他薄膜選擇性地去除薄膜,在器件集成中一直具有很高的實(shí)用性。這種化學(xué)性質(zhì)非常有用,但是當(dāng)存在其他材料并且也已知在HF中蝕刻時,這就成了問題。由于器件的靜摩擦、緩慢的蝕刻速率以及橫向或分層膜的蝕刻速率降低,濕法化學(xué)也會有問題。
2023-06-26 13:32:441206

為什么燈具要做高低溫沖擊試驗(yàn)報(bào)告

,沖擊試驗(yàn)機(jī)將物品固定在平臺上,然后將平臺上升,利用重力加速沖擊。沖擊波形包括半正弦波、梯形波和三角波。 高低溫沖擊試驗(yàn)報(bào)告申請流程 1、先聯(lián)系我們的業(yè)務(wù)人員 2、確認(rèn)產(chǎn)品高低溫沖擊試驗(yàn)條件和標(biāo)準(zhǔn) 3
2023-06-26 11:12:39

半導(dǎo)體八大工藝之刻蝕工藝-干法刻蝕

離子束蝕刻 (Ion beam etch) 是一種物理干法蝕刻工藝。由此,氬離子以約1至3keV的離子束輻射到表面上。由于離子的能量,它們會撞擊表面的材料。晶圓垂直或傾斜入離子束,蝕刻過程是絕對
2023-06-20 09:48:564728

上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)

上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47726

利用氧化和“轉(zhuǎn)化-蝕刻”機(jī)制對富鍺SiGe的熱原子層蝕刻 引言

器件尺寸的不斷縮小促使半導(dǎo)體工業(yè)開發(fā)先進(jìn)的工藝技術(shù)。近年來,原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)已經(jīng)成為小型化的重要加工技術(shù)。ALD是一種沉積技術(shù),它基于連續(xù)的、自限性的表面反應(yīng)。ALE是一種蝕刻技術(shù),允許以逐層的方式從表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步驟的等離子體或熱連續(xù)反應(yīng)。
2023-06-15 11:05:05588

為什么這么難?MEMS傳感器的8大工藝問題

樣板試制。當(dāng)研發(fā)一種新的MEMS傳感器制造工藝時,最初的幾片晶圓通常不會量產(chǎn)可工作的器件。根據(jù)工藝的復(fù)雜性和創(chuàng)新性,將需要幾個星期、幾個月甚至幾年的時間去得到為數(shù)不多的好芯片。 您可能會問自己這樣一個問題:怎樣才能使
2023-06-15 08:39:16590

華林科納的半導(dǎo)體晶圓干燥的研究

通過測量晶片上的殘留物得知,晶片上已經(jīng)分配并干燥了含有金屬鹽作為示蹤元素的溶液。假設(shè)有兩種不同的沉積機(jī)制:吸附和蒸發(fā)沉積。
2023-06-08 10:57:43236

了解MEMS硅芯片的常見規(guī)格

關(guān)于 MEMS 芯片,首先要了解的是,當(dāng)它們暴露在壓力或溫度下時,它們會產(chǎn)生相應(yīng)的輸出(以毫伏為單位),前提是已提供輸入電壓或激勵電壓。 MEMS 芯片的毫伏輸出實(shí)質(zhì)上是壓力值。 因此,在各種條件下測試芯片時,要在任何 MEMS 芯片中尋找的一般特性是穩(wěn)定且可重復(fù)的輸出。
2023-06-07 15:22:501388

精準(zhǔn)醫(yī)療的MEMS——微流控技術(shù)

微流控芯片(MicrofluidicChip) ,又稱為芯片實(shí)驗(yàn)室(Lab-on-a-Chip)或生物 芯片。是利用MEMS技術(shù)將一個大型實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)縮微在一個玻璃或塑料基板上,從而復(fù)制復(fù)雜的生物學(xué)和化學(xué)反應(yīng)全過程,快速自動地完成實(shí)驗(yàn)
2023-06-05 15:00:512305

熱泵干燥系統(tǒng)如何實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)遠(yuǎn)程在線監(jiān)控

傳統(tǒng)的熱風(fēng)循環(huán)干燥加工技術(shù)因能耗大、耗時長、品控差等原因,無法滿足加工廠對高品質(zhì)產(chǎn)品的需求。熱泵干燥加工是廣泛應(yīng)用于木材、農(nóng)產(chǎn)品、藥材、食品等場景的生產(chǎn)工藝,通過PLC控制可以實(shí)現(xiàn)溫度、濕度、重量
2023-06-02 10:52:18353

碳化硅晶片的超精密拋光工藝

使用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)方法對碳化硅晶片進(jìn)行了超精密拋光試驗(yàn),探究了滴液速率、拋光頭轉(zhuǎn) 速、拋光壓力、拋光時長及晶片吸附方式等工藝參數(shù)對晶片表面粗糙度的影響,并對工藝參數(shù)進(jìn)行了優(yōu)化,最終 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子級光滑碳化硅晶片
2023-05-31 10:30:062528

載體晶圓對蝕刻速率、選擇性、形貌的影響

等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個必要步驟,然而,載體材料的選擇可能會實(shí)質(zhì)上改變蝕刻特性。在小型單個芯片上制造氮化鎵(GaN)設(shè)備,通常會導(dǎo)致晶圓的成本上升。在本研究中,英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54499

淺談蝕刻工藝開發(fā)的三個階段

納米片工藝流程中最關(guān)鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的,并使用氟化化學(xué)。優(yōu)化內(nèi)部間隔蝕刻(壓痕)和通道釋放步驟,以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111192

納芯微推出采用MEMS工藝的汽車級壓差傳感器NSPGM2系列

納芯微推出一款基于硅的壓阻效應(yīng)并采用先進(jìn)的MEMS微加工工藝設(shè)計(jì)而成的汽車級壓差傳感器模組NSPGM2系列。該產(chǎn)品采用汽車級信號調(diào)理芯片對貴金屬MEMS芯體輸出進(jìn)行校準(zhǔn)和補(bǔ)償,能將0~±5kPa
2023-05-30 14:39:41486

可以使用EspEasy沖洗一個4通道觸摸控制墻壁開關(guān)嗎?

你們中有人可能已經(jīng)使用 EspEasy 沖洗了一個 4 通道觸摸控制墻壁開關(guān)嗎? 一到三個頻道似乎不是問題。
2023-05-30 07:22:04

陸芯科技榮獲車規(guī)級IGBT最佳工藝解決方案

2023年5月25日,在杭州舉行的 CAPS2023 功率半導(dǎo)體之“芯“ 頒獎典禮上, 陸芯科技榮獲了車規(guī)級IGBT最佳工藝解決方案獎! 「車規(guī)級IGBT最佳工藝解決方案獎」是弘揚(yáng)表彰在車規(guī)級功率
2023-05-29 12:44:291127

硅在氫氧化鈉和四甲基氫氧化銨中的溫度依賴性蝕刻

過去利用堿氫氧化物水溶液研究了硅的取向依賴蝕刻,這是制造硅中微結(jié)構(gòu)的一種非常有用的技術(shù)。以10M氫氧化鉀(KOH)為蝕刻劑,研究了單晶硅球和晶片的各向異性蝕刻過程,測量了沿多個矢量方向的蝕刻速率,用單晶球發(fā)現(xiàn)了最慢的蝕刻面。英思特利用這些數(shù)據(jù),提出了一種預(yù)測不同方向表面的傾角的方法
2023-05-29 09:42:40818

led晶片推拉力機(jī)半導(dǎo)體推拉力測試儀

led晶片
力標(biāo)精密設(shè)備發(fā)布于 2023-05-24 17:40:04

如何在蝕刻工藝中實(shí)施控制?

蝕刻可能是濕制程階段最復(fù)雜的工藝,因?yàn)橛泻芏嘁蛩貢绊?b class="flag-6" style="color: red">蝕刻速率。如果不保持這些因素的穩(wěn)定,蝕刻率就會變化,因而影響產(chǎn)品質(zhì)量。如果希望利用一種自動化方法來維護(hù)蝕刻化學(xué),以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31631

熱環(huán)境中結(jié)晶硅的蝕刻工藝研究

微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)是將機(jī)械元件和電子電路集成在一個共同的基板上,通過使用微量制造技術(shù)來實(shí)現(xiàn)尺寸從小于一微米到幾微米的高性能器件。由于現(xiàn)有的表面加工技術(shù),目前大多數(shù)的MEMS器件都是基于硅的。
2023-05-19 10:19:26432

PCB常見的五種蝕刻方式

一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作抗蝕刻 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金
2023-05-18 16:23:486024

高速硅濕式各向異性蝕刻技術(shù)在批量微加工中的應(yīng)用

蝕刻是微結(jié)構(gòu)制造中采用的主要工藝之一。它分為兩類:濕法蝕刻和干法蝕刻,濕法蝕刻進(jìn)一步細(xì)分為兩部分,即各向異性和各向同性蝕刻。硅濕法各向異性蝕刻廣泛用于制造微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的硅體微加工和太陽能電池應(yīng)用的表面紋理化。
2023-05-18 09:13:12844

干燥機(jī)軸頭磨損的修復(fù)

干燥機(jī)是指一種利用熱能降低物料水分的機(jī)械設(shè)備,用于對物體進(jìn)行干燥操作。干燥機(jī)通過加熱使物料中的濕分汽化逸出,以獲得規(guī)定濕含量的固體物料。干燥的目的是為了物料使用或進(jìn)一步加工的需要。
2023-05-16 17:27:280

晶片的酸基蝕刻:傳質(zhì)和動力學(xué)效應(yīng)

拋光硅晶片是通過各種機(jī)械和化學(xué)工藝制備的。首先,硅單晶錠被切成圓盤(晶片),然后是一個稱為拍打的扁平過程,包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機(jī)械損傷,蝕刻之后是各種單元操作,如拋光和清洗之前,它已經(jīng)準(zhǔn)備好為設(shè)備制造。
2023-05-16 10:03:00636

厚聲晶片排列電阻器-阻容1號

晶片排列電阻器(Surface Mount Resistor Array)是一種常用的電阻器封裝方式,它采用集成電路工藝制造,將多個電阻器集成在一個小型封裝中。
2023-05-15 17:06:06525

簡述晶圓減薄的幾種方法

減薄晶片有四種主要方法,(1)機(jī)械研磨,(2)化學(xué)機(jī)械平面化,(3)濕法蝕刻(4)等離子體干法化學(xué)蝕刻(ADP DCE)。四種晶片減薄技術(shù)由兩組組成:研磨和蝕刻。為了研磨晶片,將砂輪和水或化學(xué)漿液結(jié)合起來與晶片反應(yīng)并使之變薄,而蝕刻則使用化學(xué)物質(zhì)來使基板變薄。
2023-05-09 10:20:061124

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