得以延續。 ? 在高速增長的半導體市場里，半導體制造商們不斷創新，芯片集成度越來越高，對光刻技術也提出了越來越高的要求。隨著芯片集成度的與日俱增正在對半導體產業鏈帶來前所未有的挑戰，制造商們渴求更高效、更低成本
2023-07-16 01:50:15
3008 
臺積電的 Suk Lee 發表了題為“摩爾定律和半導體行業的第四個時代”的主題演講。Suk Lee表示，任何試圖從半導體行業傳奇而動蕩的歷史中發掘出一些意義的事情都會引起我的注意。正如臺積電所解釋
2024-03-13 16:52:37
想問一下，半導體設備需要用到溫度傳感器的有那些設備，比如探針臺有沒有用到，具體要求是那些，
2024-03-08 17:04:59
利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半導體產業中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術和市場地位對于全球半導體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 N型單導體和P型半導體是兩種不同類型的半導體材料，它們具有不同的電子特性和導電能力。
2024-02-06 11:02:18319 
據吳中發布的最新消息，簽約項目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項目，該項投資高達15億元，旨在新建半導體光刻膠及其配套試劑的生產基地。
2024-01-26 09:18:43207 和半導體材料構成的三層結構，具有高輸入阻抗、低噪聲、高速開關等優點，被廣泛應用于數字電路、模擬電路、功率放大器等領域。 在一個低摻雜濃度的P型半導體硅襯底上，通過半導體光刻和擴散工藝，制作兩個高摻雜濃度的N+區，并用金屬鋁引出兩個電極，分別作為漏極D和源極S。接著，在漏極和源極之間的P型
2024-01-18 16:49:38214 
來源：半導體芯科技編譯 投資半導體設備行業新的生產設備 Jenoptik公司計劃投資數億歐元，為目前在德累斯頓建設的高科技工廠建造最先進的系統。新型電子束光刻系統（E-Beam）將用于為半導體
2024-01-15 17:33:16176 比利時納米電子創新中心imec和日本化學公司三井化學宣布建立戰略合作伙伴關系，將下一代EUV半導體光刻系統的關鍵組件商業化。
2024-01-08 09:10:34325 RT-thread IDE是否支持HC32L072，也就是小華半導體的芯片？如果支持，哪位好心人發的芯片支持包
2024-01-04 15:21:25
光刻膠主要下游應用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用，占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%，是第三達應用場景。
2024-01-03 18:12:21346 
光束整形（Beam Shaping）是一種利用光束控制技術來改變光束的形狀和特性的過程。隨著激光技術的不斷發展，激光的應用也越來越廣泛，但是在半導體光刻、激光印刷、激光加工、光學信息處理等領域
2023-12-29 13:45:08313 芯片和半導體有什么區別? 芯片和半導體是信息技術領域中兩個重要的概念。在理解它們之前，我們需要首先了解什么是半導體。 半導體是一種介于導體和絕緣體之間的材料。在半導體中，電流的傳導主要是由電子和空穴
2023-12-25 14:04:451457 半導體分為哪幾種類型 怎么判斷p型半導體 p型半導體如何導電? 半導體是一種具有介于導體和絕緣體之間特性的物質，其導電性能可以通過控制雜質的加入而改變。半導體可以分為兩種類型：p型半導體和n型半導體
2023-12-19 14:03:481388 在本系列第二篇文章中，我們主要了解到半導體封裝的作用。這些封裝的形狀和尺寸各異，保護和連接脆弱集成電路的方法也各不相同。在這篇文章中，我們將帶您了解半導體封裝的不同分類，包括制造半導體封裝所用材料的類型、半導體封裝的獨特制造工藝，以及半導體封裝的應用案例。
2023-12-14 17:16:52442 
光刻膠類別的多樣化，此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品，也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中，光刻膠主要由東京大賀工業、杜邦、JSR、信越化學、住友化學及東進半導體等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408 n型半導體和p型半導體之間的主要區別在于它們的載流子類型和濃度。
2023-12-13 11:12:32804 本征半導體：本征半導體主要由價電子和空穴組成。在常溫下，自由電子和空穴的數量很少，因此它的導電能力比較微弱。另外，本征半導體的載流子濃度與溫度密切相關，具有熱敏、光敏特性。
2023-12-13 11:10:05619 根據不同的誘因，常見的對半導體器件的靜態損壞可分為人體，機器設備和半導體器件這三種。
當靜電與設備導線的主體接觸時，設備由于放電而發生充電，設備接地，放電電流將立即流過電路，導致靜電擊穿。外部物體
2023-12-12 17:18:54
近期，萬潤股份在接受機構調研時透露，其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業的半導體用光刻膠樹脂類材料。
2023-12-12 14:02:58328 電子發燒友網報道（文/劉靜）12月6日，半導體材料領域又一家優秀的國產企業在科創板成功上市。作為一家半導體材料商，江蘇艾森半導體材料股份有限公司（以下簡稱：艾森半導體）自2010年成立以來，抓住
2023-12-07 00:11:002226 
光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
[半導體前端工藝：第三篇] 光刻——半導體電路的繪制
2023-11-29 11:25:52242 
為了生產高純度、高質量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節。例如，2019年，某家半導體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染，導致上萬片12吋晶圓報廢
2023-11-27 17:15:48550 【半導體后端工藝：】第一篇了解半導體測試
2023-11-24 16:11:50484 
就國別來看，來自荷蘭的進口額暴漲了超過6倍。預估其中大部分為荷蘭光刻機龍頭艾ASML的光刻機產品。來自日本的半導體設備進口額成長約40%、來自美國的進口額則僅增長20%。
2023-11-22 17:09:02419 據鼎龍控股集團消息，鼎龍（仙桃）半導體材料產業園區占地218畝，建筑面積11.5萬平方米，項目總投資約10億元人民幣。經過15個月的建設，同時進入千噸級半導體oled面板光刻膠（pspi）、萬噸級cmp拋光液（slurry）和萬噸級cmp拋光液用納米粒子研磨法等
2023-11-17 10:56:40694 半導體材料是制作半導體器件與集成電路的基礎電子材料。隨著技術的發展以及市場要求的不斷提高，對于半導體材料的要求也越來越高。因此對于半導體材料的測試要求和準確性也隨之提高，防止由于其缺陷和特性而影響半導體器件的性能。
2023-11-10 16:02:30690 站在半導體產業的時代風口，來自佛山的科創力量正在崛起，力合科創（佛山）科技園投資企業——廣東匯芯半導體有限公司（下稱“匯芯半導體”）就是其中一個代表。
2023-11-10 09:58:50459 顛覆性技術!半導體行業再放大招! 近日，日本佳能官方發布 納米壓印(NIL)半導體制造設備 未來，或將替代ASML光刻機 成為更低成本的芯片制造設備! 要知道，半導體是目前全球經濟的核心，在中國
2023-11-08 15:57:14200 
功率半導體是電力電子技術的關鍵組件，主要用作電路和系統中的開關或整流器。如今，功率半導體幾乎廣泛應用于人類活動的各個行業。我們的家電包括功率半導體，電動汽車包括功率半導體，飛機和宇宙飛船包括功率半導體。
2023-11-07 10:54:05459 
光刻是半導體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環節關鍵耗材，其質量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關。
2023-10-26 15:10:24359 
一 F-200A-60V 半導體器件測試機專為以下測試需求研制： 二 技術參數
2023-10-12 15:38:30
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化學反應，經曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上，是用于微細加工技術的關鍵性電子化學品。
2023-10-09 14:34:491674 
光刻是通過一系列操作，除去外延片表面特定部分的工藝，在半導體器件和集成電路制作中起到極為關鍵的作用。
2023-10-08 10:11:23696 一、半導體有關概念 1、半導體 半導體是導電能力介于導體與絕緣體之間的一種物體。它內部運載電荷的粒子有電子載流子(帶負電荷的自由電子)和空穴載流子(帶正電荷的空穴)。硅、鍺、硒以及大多數金屬氧化物
2023-09-26 11:00:331127 
本文檔的主要內容詳細介紹的是半導體芯片的制作和半導體芯片封裝的詳細資料概述
2023-09-26 08:09:42
在n型半導體中什么是多數載流子？? 在半導體物理學領域中，多數載流子（Majority carrier）是指在半導體材料中數量最多的帶電粒子。在n型半導體中，多數載流子是負電子，在p型半導體中，多數
2023-09-19 15:57:042483 ▌峰會簡介第五屆意法半導體工業峰會即將啟程，現我們敬邀您蒞臨現場，直擊智能熱點，共享前沿資訊，通過意法半導體核心技術，推動加快可持續發展計劃，實現突破性創新~報名鏈接：https
2023-09-11 15:43:36
意法半導體擁有最先進的平面工藝，并且會隨著G4不斷改進：? 導通電阻約比G3低15%? 工作頻率接近1 MHz? 成熟且穩健的工藝? 吞吐量、設計簡單性、可靠性、經驗…? 適用于汽車的高生產率
2023-09-08 06:33:00
，在半導體芯片制造過程中，需要保證高質量和高效率，而真空環境的應用在半導體芯片制造中已然成為了必須進行的環節。 半導體芯片有兩個主要的制造過程，一個是前期的光刻和沉積，另一個是晶圓清洗和烘干。在這兩個制造過程中，真空
2023-09-07 16:04:271038 半導體區別于導體的重要特征? 半導體和導體是電子領域中的兩個重要概念，它們雖然有些相似，但是在性質、應用和制造過程等方面都有重要的區別。本文將詳細介紹半導體與導體的重要特征，以及它們之間的區別
2023-08-27 15:55:122667 半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 
光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531586 
先楫半導體使用上怎么樣？
2023-08-08 14:56:29
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02396 半導體材料是制作半導體器件和集成電路的電子材料，是半導體工業的基礎。利用半導體材料制作的各種各樣的半導體器件和集成電路，促進了現代信息社會的飛速發展。
2023-08-07 10:22:031979 
增加。 某業內日本半導體設備制造廠商，正在研發一種用于300mm和200mm晶元先進封裝工藝的新型半導體光刻機。半導體光刻系統的設計，用于處理半導體封裝工藝中的扇出面板級封裝(FOPLP)。這種新型半導體光刻系統，需要多臺可靠的高端邊緣計算機作為支
2023-08-01 13:46:18299 
場效應管中的絕緣柵型。因此，MOS管有時被稱為絕緣柵場效應管。在一般電子電路中，MOS管通常被用于放大電路或開關電路。 1、MOS管的構造 在一塊摻雜濃度較低的P型半導體硅襯底上，用半導體光刻、擴散工藝制作
2023-08-01 09:59:068415 
半導體技術的未來通常是通過光刻設備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰性的技術問題幾乎永無休止，但光刻設備仍繼續為未來的工藝節點提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 
金屬-氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。
2023-07-27 15:24:51609 
日本在半導體界一直以設備和材料笑傲群雄，2019年一則禁令一度扼住韓國半導體喉嚨，涉及材料包括高純氟化氫、氟聚酰亞胺、感光劑光刻膠，直到幾個月前，受傷的雙方才握手言和。
2023-07-27 09:54:55828 
半導體制作工藝可分為前端和后端：前端主要是晶圓制作和光刻（在晶圓上繪制電路）；后端主要是芯片的封裝。
2023-07-24 15:46:05905 
IRDS路線圖光刻委員會主席、廈門大學嘉庚創新實驗室產業運營平臺科技總監，廈門大學半導體科學與技術學院客座教授Mark Neisser對光刻技術與半導體路線之間的關系進行了詳細解讀。
2023-07-24 09:58:20927 
在半導體制造過程中，每個半導體元件的產品都需要經過數百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術難點多，操作復雜。
2023-07-11 11:25:552897 
簡介：蘇州鐳拓激光科技有限公司智能化一站式激光設備供應商，多款高精度塑料半導體激光焊接機，咨詢塑料激光焊接機多少錢，歡迎聯系蘇州鐳拓激光！產品描述：品名：塑料半導體激光焊接機品牌：鐳拓
2023-07-06 16:24:04
半導體同時具有“導體”的特性，因此允許電流通過，而絕緣體則不允許電流通過。離子注入工藝將雜質添加到純硅中，使其具有導電性能。我們可以根據實際需要使半導體導電或絕緣。 重復光刻、刻蝕和離子注入步驟會在
2023-07-03 10:21:572170 
荷蘭實施半導體出口管制 ASML光刻機DUV系統需要許可證 芯片戰愈演愈烈。荷蘭正式實施半導體出口管制條款，這將對光刻機巨頭阿斯麥（ASML）產生更多影響。ASML的EUV光刻系統在此前已經
2023-07-01 17:38:19669 
在之前的文章里，我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發展史。現在，讓我們繼續了解光刻工藝，通過該過程將電子電路圖形轉移到晶圓上。光刻過程與使用膠片相機拍照非常相似。但是具體是怎么實現的呢？
2023-06-28 10:07:472427 
半導體光刻是生產計算機芯片的制造工藝，已有 70 年的歷史。它的起源故事很簡單，但今天的過程卻很復雜：這項技術始于 20 世紀 50 年代中期，當時一位名叫杰伊·拉斯羅普 (Jay Lathrop) 的物理學家將顯微鏡中的鏡頭倒置。
2023-06-27 17:15:40699 euv極紫外光刻機是目前最先進的半導體制造設備，用于7納米以下工程的半導體制造。荷蘭對這種尖端設備實施出口控制，限制對中國的出口。據《日本經濟新聞》報道，日本和荷蘭決定一致控制尖端產品制造設備的出口是在美國的壓力下做出的決定。
2023-06-26 10:28:08396 對于半導體行業而言，光刻技術和設備發揮著基礎性作用，是必不可少的。
2023-06-25 10:25:08443 GaN功率半導體與高頻生態系統(氮化鎵)
2023-06-25 09:38:13
突破GaN功率半導體的速度限制
2023-06-25 07:17:49
電子發燒友網報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產業中，除了光刻機等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經過曝光后將圖形信息轉移到
2023-06-22 01:27:001984 升級到半橋GaN功率半導體
2023-06-21 11:47:21
的“動蕩”。 ? 按應用環節來劃分，半導體材料可分為前端晶圓制造材料和后端封裝材料兩大類。前端晶圓制造材料包括：硅片、電子氣體、光刻膠、光掩膜版、CMP材料、靶材等；后端封裝材料包括封裝基板、引線框架、陶瓷材料、切割材
2023-06-20 01:21:003728 
GaN功率半導體在快速充電市場的應用(氮化鎵)
2023-06-19 11:00:42
GaNFast功率半導體建模(氮化鎵)
2023-06-19 07:07:27
半導體冷凍治療儀利用半導體制冷組件產生的低溫來治療疾病，是近年來發展較快的物理治療設備。它具有溫控精確、功耗低、體積小等優點，在康復治療領域有廣闊的應用前景。半導體冷凍治療儀包括治療儀本體、半導體
2023-06-12 09:29:18700 
光刻法是微電子工藝中的核心技術之一，常用于形成半導體設備上的微小圖案。過程開始于在硅片上涂布光刻膠，隨后對其進行預熱。接著，選擇一種光源（如深紫外光或X光）透過預先設計好的掩模圖案照射在硅片
2023-06-09 11:36:522037 
根據中國集成電路產業人才白皮書數據來看，目前行業內從業人員僅46w左右，人才缺口仍有30w之 巨 。在國內半導體行業快速發展的當下，定位、搶奪優質人才是企業未來長期發展的基石。
那么每年秋招就是贏得
2023-06-01 14:52:23
近日，深圳國際半導體展覽會在深圳會展中心舉行，展示以芯片設計及制造、集成電路、封測、材料及設備、5G新應用、新型顯示為主的半導體產業鏈。有眾多光刻機、晶圓制造、半導體制造、顯示面板制造等設備廠
2023-05-19 10:11:38490 
EUV光刻技術仍被認為是實現半導體行業持續創新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041790 
第95期什么是寬禁帶半導體？半導體迄今為止共經歷了三個發展階段：第一代半導體以硅（Si）、鍺（Ge）為代表；第二代半導體以砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）等化合物為代表；第三代半導體是以碳化硅
2023-05-06 10:31:461675 
半導體迄今為止共經歷了三個發展階段：第一代半導體以硅（Si）、鍺（Ge）為代表；第二代半導體以砷化鎵（GaAs）、磷化銦（InP）等化合物為代表；第三代半導體是以碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN
2023-05-05 17:46:226173 
經過氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝，晶圓表面會形成各種半導體元件。半導體制造商會讓晶圓表面布滿晶體管和電容（Capacitor）；
2023-04-28 10:04:52532 
根據維基百科的定義，光刻是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。
2023-04-25 11:11:331243 
本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中，會采用很多與之前的電子元器件層性質不同的配線材料（金屬）。
2023-04-25 10:38:49986 
光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:131057 
半導體行業借助紫外光譜范圍（i 線：365 nm、h線：405 nm和g線：436 nm）中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創建復雜的微觀結構
2023-04-24 11:23:281480 
試述為什么金屬的電阻溫度系數是正的而半導體的是負的？
2023-04-23 11:27:04
那時集成電路也剛剛發明不久，光刻工藝還在微米級別，工藝步驟也比現在簡單很多美國是走在世界前列的。在那個對工藝要求并不高的年代，很多半導體公司通常自己用鏡頭設計光刻工具，光刻機在當時甚至不如照相機的結構復雜。
2023-04-20 09:22:331314 全自動半導體激光COS測試機TC 1000 COS（chip on submount）是主流的半導體激光器封裝形式之一，對COS進行全功能的測試必不可少
2023-04-13 16:28:40
超快光譜學和半導體光刻領域皆依賴于非常短的波長，往往在極紫外extreme ultraviolet，EUV波段。然而，大多數光學材料強烈地吸收該波長范圍內的光，導致缺乏通常可用的透射部件。
2023-04-12 11:03:53648 泰晶科技擁有全系列豐富的產品條線，不斷深化半導體光刻工藝應用在石英晶體上，推出了32.768kHz K2012/1610音叉晶體，M2016/1612/1210超小尺寸晶體諧振器。
2023-04-03 09:15:55422 恩智浦半導體公司 恩智浦半導體創立于2006年，其前身為荷蘭飛利浦公司于1953年成立的半導體事業部，總部位于荷蘭埃因霍溫。 [1-2] 恩智浦2010年在美國納斯達克上市。 [3] 2015
2023-03-27 14:32:00711 GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377489 
電子發燒友App
工商網監
評論