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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>半導(dǎo)體制造CMP工藝后的清洗技術(shù)

半導(dǎo)體制造CMP工藝后的清洗技術(shù)

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制造半導(dǎo)體芯片的十個(gè)關(guān)鍵步驟

半導(dǎo)體制造廠,也稱為晶圓廠,是集成了高度復(fù)雜工藝流程與尖端技術(shù)之地。這些工藝步驟環(huán)環(huán)相扣,每一步都對(duì)最終產(chǎn)品的性能與可靠性起著關(guān)鍵作用。本文以互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)制程為例,對(duì)芯片制造過(guò)程
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鈮酸鋰芯片與精密劃片機(jī):科技突破引領(lǐng)半導(dǎo)體制造新潮流

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CMP設(shè)備供應(yīng)商晶亦精微科創(chuàng)板IPO新動(dòng)態(tài)

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2024-01-12 14:55:23636

半導(dǎo)體制造工藝科普

半導(dǎo)體元件制造涉及到一系列復(fù)雜的制作過(guò)程,將原材料轉(zhuǎn)化為成品元件,以應(yīng)用于提供各種關(guān)鍵控制和傳感功能應(yīng)用的需求。
2024-01-12 09:28:39640

日本半導(dǎo)體制造設(shè)備制造巨頭Tokyo Electron新年大幅加薪40%!

1月1日消息,據(jù)日媒報(bào)道,日本半導(dǎo)體制造設(shè)備制造巨頭Tokyo Electron(TEL)將把新員工的起薪月薪提高約40%,通過(guò)使其薪酬與外國(guó)同行保持一致來(lái)確保人才。
2024-01-03 16:39:281056

半導(dǎo)體制技術(shù)在實(shí)驗(yàn)室儀器中的應(yīng)用簡(jiǎn)介

內(nèi)部或外部環(huán)境的溫度在特定范圍內(nèi),以滿足實(shí)驗(yàn)的要求。實(shí)驗(yàn)室中有許多儀器和設(shè)備可以利用半導(dǎo)體制技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)溫度控制和冷卻。以下是一些常見(jiàn)的可應(yīng)用半導(dǎo)體制技術(shù)實(shí)現(xiàn)溫控
2023-12-28 10:28:16374

半導(dǎo)體零部件行業(yè)深度報(bào)告

半導(dǎo)體設(shè)備主要應(yīng)用于集成電路的制造和封測(cè)環(huán)節(jié),可細(xì)分為晶圓制造設(shè)備(前道設(shè)備)和封裝、測(cè)試設(shè)備(后道設(shè)備)。其中,前道設(shè)備主要有光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、離子注入機(jī)、CMP設(shè)備、清洗機(jī)、前道檢測(cè)設(shè)備和氧化退火設(shè)備,后道設(shè)備主要分為測(cè)試設(shè)備和封裝設(shè)備。
2023-12-27 10:57:48281

濕法清洗設(shè)備在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

芯片制造中的各道工序極為精密,那么我們是如何保持工藝中無(wú)污染的呢?
2023-12-26 17:01:27235

PFA閥門耐高溫耐高壓清洗半導(dǎo)體芯片

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,清洗機(jī)與PFA閥門扮演著至關(guān)重要的角色。它們是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備,對(duì)于提高產(chǎn)品質(zhì)量、確保生產(chǎn)效率具有舉足輕重的作用。 半導(dǎo)體清洗機(jī)是一種專門用于清洗半導(dǎo)體的設(shè)備。在半導(dǎo)體制造
2023-12-26 13:51:35255

使用壓力傳感器優(yōu)化半導(dǎo)體制造工藝

如今,半導(dǎo)體制造工藝快速發(fā)展,每一代新技術(shù)都在減小集成電路(IC)上各層特征的間距和尺寸。晶圓上高密度的電路需要更高的精度以及高度脆弱的先進(jìn)制造工藝。
2023-12-25 14:50:47174

國(guó)調(diào)基金助力潤(rùn)鵬半導(dǎo)體半導(dǎo)體特色工藝升級(jí)

據(jù)悉,潤(rùn)鵬半導(dǎo)體是華潤(rùn)微電子與深圳市合力推出的精于半導(dǎo)體特色工藝的12英寸晶圓制造項(xiàng)目。主要研發(fā)方向包括CMOS、BCD、e-Flash等工藝
2023-12-20 14:13:25214

PFA花籃在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用研究

半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代電子信息技術(shù)的基礎(chǔ),隨著科技的飛速發(fā)展,半導(dǎo)體制造技術(shù)也在不斷進(jìn)步。在這個(gè)過(guò)程中,各種新型材料和技術(shù)不斷涌現(xiàn),為半導(dǎo)體制造提供了更多可能性。PFA花籃作為一種高性能材料,在半導(dǎo)體行業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用前景。本文將重點(diǎn)探討PFA花籃在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用及其優(yōu)勢(shì)。
2023-12-14 12:03:40356

哪些因素會(huì)給半導(dǎo)體器件帶來(lái)靜電呢?

,半導(dǎo)體器件在制造和組裝過(guò)程中會(huì)發(fā)生靜電感應(yīng),當(dāng)導(dǎo)線接地時(shí),內(nèi)部電場(chǎng)將發(fā)生巨大變化,放電電流將流過(guò)電路,從而導(dǎo)致靜電擊穿。 對(duì)于這種靜電損壞的半導(dǎo)體器件非常嚴(yán)重,請(qǐng)確保在釋放電流之前,清除這些靜電荷
2023-12-12 17:18:54

在濕臺(tái)工藝中使用RCA清洗技術(shù)

半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來(lái)制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過(guò)程是晶圓清洗,這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆?;驓埩粑锏倪^(guò)程,否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物,是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235

一文詳解半導(dǎo)體制造工藝

芯片鍵合(die bonding)工藝,采用這種封裝工藝可在劃片工藝之后將從晶圓上切割的芯片黏貼在封裝基板(引線框架或印刷電路板)上。
2023-12-07 10:33:302182

半導(dǎo)體濕法清洗工藝

隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小,清潔過(guò)程變得越來(lái)越復(fù)雜。每次清洗不僅要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗,所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑范圍為0.1至20微米的顆粒、有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物以及雜質(zhì)。
2023-12-06 17:19:58562

半導(dǎo)體制造技術(shù)之刻蝕工藝

W刻蝕工藝中使用SF6作為主刻步氣體,并通過(guò)加入N2以增加對(duì)光刻膠的選擇比,加入O2減少碳沉積。在W回刻工藝中分為兩步,第一步是快速均勻地刻掉大部分W,第二步則降低刻蝕速率減弱負(fù)載效應(yīng),避免產(chǎn)生凹坑,并使用對(duì)TiN有高選擇比的化學(xué)氣體進(jìn)行刻蝕。
2023-12-06 09:38:531536

半導(dǎo)體制造之薄膜工藝講解

薄膜沉積技術(shù)主要分為CVD和PVD兩個(gè)方向。 PVD主要用來(lái)沉積金屬及金屬化合物薄膜,分為蒸鍍和濺射兩大類,目前的主流工藝為濺射。CVD主要用于介質(zhì)/半導(dǎo)體薄膜,廣泛用于層間介質(zhì)層、柵氧化層、鈍化層等工藝。
2023-12-05 10:25:18994

半導(dǎo)體封裝的作用、工藝和演變

在郵寄易碎物品時(shí),使用合適的包裝材料尤為重要,因?yàn)樗_保包裹能夠完好無(wú)損地到達(dá)目的地。泡沫塑料、氣泡膜和堅(jiān)固的盒子都可以有效地保護(hù)包裹內(nèi)的物品。同樣地,封裝是半導(dǎo)體制造工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié),可以保護(hù)芯片
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半導(dǎo)體芯片切割,一道精細(xì)工藝的科技之門

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領(lǐng)先的功率半導(dǎo)體制造

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2023-11-24 16:11:50484

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華林科納PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中的卓越應(yīng)用

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2023-09-21 15:46:00689

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP) 技術(shù)的發(fā)展應(yīng)用及存在問(wèn)題

器件制造具有以下優(yōu)點(diǎn)[1] (1) 片子平面的總體平面度: CMP 工藝可補(bǔ)償亞微米光刻中步進(jìn)機(jī)大像場(chǎng)的線焦深不足。 (2) 改善金屬臺(tái)階覆蓋及其相關(guān)的可靠性: CMP工藝顯著地提高了芯片測(cè)試中的圓片成品率。 (3) 使更小的芯片尺寸增加層數(shù)成為可能: CMP技術(shù)允許所形成的器件具有更高的縱橫比。
2023-09-19 07:23:03

半導(dǎo)體劃片機(jī)工藝應(yīng)用

半導(dǎo)體劃片工藝半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要步驟之一,主要用于將大尺寸的晶圓切割成小片,以便進(jìn)行后續(xù)的制造和封裝過(guò)程。以下是一些半導(dǎo)體劃片工藝的應(yīng)用:晶圓劃片:在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,需要將大尺寸的晶圓切割成
2023-09-18 17:06:19394

CMP拋光液市場(chǎng)高速增長(zhǎng),到2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到25億美元

得益于半導(dǎo)體業(yè)界的繁榮,世界cmp拋光液市場(chǎng)正在經(jīng)歷明顯的增長(zhǎng)。cmp拋光液是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵成分,在實(shí)現(xiàn)集成電路制造的精度和效率方面發(fā)揮了關(guān)鍵作用。隨著技術(shù)的發(fā)展,半導(dǎo)體的格局不斷重新形成,對(duì)cmp拋光液的需求從來(lái)沒(méi)有這么高過(guò)。
2023-09-14 10:28:36664

華為公開(kāi)“晶圓處理設(shè)備和半導(dǎo)體制造設(shè)備”專利

 根據(jù)專利摘要,該公開(kāi)是關(guān)于晶圓處理設(shè)備和半導(dǎo)體制造設(shè)備的。晶圓處理設(shè)備由:由支持晶圓構(gòu)成的晶圓支持部件,光源排列位于晶圓的支持方向,適合對(duì)晶圓進(jìn)行光輻射加熱。光源陣列至少使晶圓半徑方向上的所有光點(diǎn)都近而不重疊
2023-09-08 09:58:29544

陶瓷基板DPC工藝助力半導(dǎo)體制冷片的精密和散熱

隨著科技的不斷進(jìn)步,半導(dǎo)體制冷片在各種領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。而陶瓷基板DPC工藝作為一種先進(jìn)的制作技術(shù),在半導(dǎo)體制冷片制作中具有顯著的優(yōu)勢(shì)。本文將從多個(gè)方面介紹陶瓷基板DPC工藝半導(dǎo)體制冷片中
2023-09-06 14:45:22666

非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用

今天我們來(lái)聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用,說(shuō)起半導(dǎo)體清洗,是指對(duì)晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗,用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測(cè)試每個(gè)步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì),避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率,為企業(yè)實(shí)現(xiàn)降本增效的目的。
2023-09-04 18:47:39787

半導(dǎo)體制造工藝流程有哪些

聽(tīng)過(guò)“Faless、流片、MPW、CP……”嗎?如果你的反應(yīng)是“哇,這是什么高深莫測(cè)的學(xué)問(wèn)?”那打開(kāi)這篇文章,你就撿到寶了!半導(dǎo)體行業(yè),一個(gè)充滿魔法和奧秘的世界,每天都在創(chuàng)造讓你手機(jī)更炫、電腦更快
2023-08-30 09:42:241869

半導(dǎo)體先進(jìn)封測(cè)設(shè)備及市場(chǎng)研究

半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)垂直化分工格局,上游包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體制造設(shè)備等;中游為半導(dǎo)體生產(chǎn),具體可劃分為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試;半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下 游為各類終端應(yīng)用。
2023-08-29 16:24:59761

半導(dǎo)體封測(cè)設(shè)備有哪些 半導(dǎo)體制造流程詳解

半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)垂直化分工格局,上游包括半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體制造設(shè)備等;中游為半導(dǎo)體生產(chǎn),具體可劃分為芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測(cè)試;半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)下 游為各類終端應(yīng)用。
2023-08-29 09:48:351809

半導(dǎo)體制冷器的五個(gè)系列及應(yīng)用簡(jiǎn)介

半導(dǎo)體制冷器也叫半導(dǎo)體制冷模組、半導(dǎo)體熱電制冷模組、熱電制冷模塊,熱電制冷器等。它是由半導(dǎo)體制冷片及其兩側(cè)添加傳熱結(jié)構(gòu)組合而成的溫控器件。半導(dǎo)體制冷器兩側(cè)的傳熱結(jié)構(gòu)將制冷片冷面的制冷量與被冷卻空間
2023-08-25 17:58:421903

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解

半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng) 2023-2030分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場(chǎng)上有各種類型的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。一些流行的設(shè)備類型包括
2023-08-22 15:08:001225

半導(dǎo)體清洗除塵,是芯片制造的重要環(huán)節(jié)

早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法,濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來(lái)清洗除塵,優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉,缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步,人們對(duì)半導(dǎo)體清洗除塵要求越來(lái)越高,不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn),還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平
2023-08-22 10:54:45681

銅在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

半導(dǎo)體技術(shù)在當(dāng)今社會(huì)已成為高科技產(chǎn)品的核心,而在半導(dǎo)體制造的各個(gè)環(huán)節(jié)中,銅憑借其出色的性能特點(diǎn),已成為眾多工藝應(yīng)用的關(guān)鍵材料。在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,銅主要被用于制造互連線路。在傳統(tǒng)的互連制造中,銅通常被用作通過(guò)化學(xué)氣相淀積(CVD)或物理氣相沉積(PVD)技術(shù)沉積在金屬膜上。
2023-08-19 11:41:15738

半導(dǎo)體制造工藝解析

WCMP是電子束檢測(cè)應(yīng)用最重要的一層,這一層的功能主要體現(xiàn)在:可以使工程師遇到器件的漏電和接觸不良問(wèn)題。EBI的應(yīng)用可以幫助提升成品率,減少半導(dǎo)體ict技術(shù)開(kāi)發(fā)的周期,并縮短提高成品率所需的時(shí)間。
2023-08-11 10:02:32664

半導(dǎo)體制造中的清洗工藝技術(shù)改進(jìn)方法

隨著晶體管尺寸的不斷微縮,晶圓制造工藝日益復(fù)雜,對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來(lái)越高。
2023-08-01 10:01:561639

半導(dǎo)體后端工藝:了解半導(dǎo)體測(cè)試(上)

半導(dǎo)體制作工藝可分為前端和后端:前端主要是晶圓制作和光刻(在晶圓上繪制電路);后端主要是芯片的封裝。
2023-07-24 15:46:05905

cmp是什么意思 cmp工藝原理

CMP 主要負(fù)責(zé)對(duì)晶圓表面實(shí)現(xiàn)平坦化。晶圓制造前道加工環(huán)節(jié)主要包括7個(gè)相互獨(dú)立的工藝流程:光刻、刻蝕、薄膜生長(zhǎng)、擴(kuò)散、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、金屬化 CMP 則主要用于銜接不同薄膜工藝,其中根據(jù)工藝
2023-07-18 11:48:183030

ALD是什么?半導(dǎo)體制造的基本流程

半導(dǎo)體制造過(guò)程中,每個(gè)半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過(guò)數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝,前道工藝是整個(gè)制造過(guò)程中最為重要的部分,它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成,涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟,技術(shù)難點(diǎn)多,操作復(fù)雜。
2023-07-11 11:25:552897

如何使用半導(dǎo)體制造二極管?

 二極管是最簡(jiǎn)單的半導(dǎo)體器件,在本文中,我們將了解什么是半導(dǎo)體、摻雜的工作原理以及如何使用半導(dǎo)體制造二極管。但首先,讓我們仔細(xì)看看硅。硅是一種非常常見(jiàn)的元素,是沙子和石英中的主要元素。如果在元素周期表中查找“硅”,會(huì)發(fā)現(xiàn)它位于鋁旁邊,低于碳,高于鍺。
2023-07-06 11:13:55914

【博捷芯】國(guó)產(chǎn)劃片機(jī)開(kāi)創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時(shí)代

國(guó)產(chǎn)劃片機(jī)確實(shí)開(kāi)創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時(shí)代。劃片機(jī)是一種用于切割和劃分半導(dǎo)體芯片的設(shè)備,它是半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常重要的一環(huán)。在過(guò)去,劃片機(jī)技術(shù)一直被國(guó)外廠商所壟斷,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)不得不
2023-07-03 17:51:46479

東芝開(kāi)始建設(shè)300mm晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠

Electronics Corporation)開(kāi)工新建一家300晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠。該功率半導(dǎo)體制造工廠的建造將分兩個(gè)階段進(jìn)行,一期工程計(jì)劃于2024財(cái)年內(nèi)投產(chǎn)。東芝還將在新工廠附近建造一棟辦公樓,以滿足增員需求。 新工廠將具有抗震結(jié)構(gòu)和業(yè)務(wù)連續(xù)性計(jì)劃(BCP)
2023-06-29 17:45:02545

半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章(點(diǎn)擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過(guò)程來(lái)形象地說(shuō)明半導(dǎo)體制程 。在上一篇我們說(shuō)到,為制作巧克力夾心,需通過(guò)“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分,然后倒入巧克力糖漿,再蓋上一層餅干層。“倒入巧克力糖漿”和“蓋上餅干層”的過(guò)程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。
2023-06-29 16:56:17830

【氫氣安全】氫氣傳感器在半導(dǎo)體行業(yè)氫氣泄漏檢測(cè)中的應(yīng)用

。智能制造(工業(yè)4.0)的實(shí)現(xiàn),以各種信息器件的使用為基礎(chǔ),半導(dǎo)體制造技術(shù)正是其制造的核心技術(shù)。 在半導(dǎo)體行業(yè)中,每個(gè)工藝流程中引入的雜質(zhì)污染,都有可能造成半導(dǎo)體器件缺陷。 半導(dǎo)體器件的整個(gè)制造過(guò)程中會(huì)用到多種化學(xué)品,例
2023-06-29 09:38:18377

半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)ALD:這家公司是龍頭!

半導(dǎo)體制造過(guò)程中,每個(gè)半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過(guò)數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝,前道工藝是整個(gè)制造過(guò)程中最為重要的部分,它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成,涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟,技術(shù)難點(diǎn)多,操作復(fù)雜。
2023-06-28 16:54:061259

淺談半導(dǎo)體制造中的刻蝕工藝

在上一篇文章,我們介紹了光刻工藝,即利用光罩(掩膜)把設(shè)計(jì)好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步,將在晶圓上進(jìn)行刻蝕工藝,以去除不必要的材料,只保留所需的圖形。
2023-06-28 10:04:58843

半導(dǎo)體制技術(shù)應(yīng)用--尿液分析儀

尿液分析儀用于快速分析尿液中的各種成分,檢測(cè)尿液中的病理變化,為醫(yī)生診斷疾病提供依據(jù)。半導(dǎo)體制冷器在尿液分析儀中的工作原理主要是利用半導(dǎo)體的熱電制冷效應(yīng)產(chǎn)生低溫,為化學(xué)發(fā)光檢測(cè)等提供穩(wěn)定的低溫環(huán)境
2023-06-18 10:07:10455

半導(dǎo)體前端工藝:刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

半導(dǎo)體制工藝中,有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝,如“清洗”、“刻蝕”等。如果說(shuō)“清洗工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉,“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料,從而創(chuàng)建所需的微細(xì)圖案。半導(dǎo)體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設(shè)備,在其他類似工藝中也很常見(jiàn)。
2023-06-15 17:51:571177

半導(dǎo)體制造光刻工藝制作流程

金屬-氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)的革命,讓我們可以在相同面積的晶圓上同時(shí)制造出更多晶體管。MOSFET體積越小,單個(gè) MOSFET的耗電量就越少,還可以制造出更多的晶體管,讓其發(fā)揮作用,可謂是一舉多得。
2023-06-13 12:29:09596

半導(dǎo)體制冷器應(yīng)用--半導(dǎo)體冷凍治療儀

半導(dǎo)體冷凍治療儀利用半導(dǎo)體制冷組件產(chǎn)生的低溫來(lái)治療疾病,是近年來(lái)發(fā)展較快的物理治療設(shè)備。它具有溫控精確、功耗低、體積小等優(yōu)點(diǎn),在康復(fù)治療領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。半導(dǎo)體冷凍治療儀包括治療儀本體、半導(dǎo)體制
2023-06-12 09:29:18700

半導(dǎo)體制工藝的發(fā)展歷程及種類特性

半導(dǎo)體工藝的發(fā)展歷程幾乎與現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展歷程一致。早在20世紀(jì)40年代,貝爾實(shí)驗(yàn)室的研究人員發(fā)明了第一個(gè)點(diǎn)接觸式晶體二極管,標(biāo)志著半導(dǎo)體技術(shù)的誕生。
2023-06-08 09:30:50387

揭秘半導(dǎo)體制程:8寸晶圓與5nm工藝的魅力與挑戰(zhàn)

在探討半導(dǎo)體行業(yè)時(shí),我們經(jīng)常會(huì)聽(tīng)到兩個(gè)概念:晶圓尺寸和工藝節(jié)點(diǎn)。本文將為您解析8寸晶圓以及5nm工藝這兩個(gè)重要的概念。
2023-06-06 10:44:001423

博捷芯:晶圓切割提升晶圓工藝制程,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案

晶圓切割是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。提升晶圓工藝制程需要綜合考慮多個(gè)方面,包括切割效率、切割質(zhì)量、設(shè)備性能等。針對(duì)這些問(wèn)題,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機(jī)解決方案可以提供一些幫助。首先,在切割效率方面,國(guó)產(chǎn)
2023-06-05 15:30:447568

臭氧清洗系統(tǒng)的制備及其在硅晶片清洗中的應(yīng)用

半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中,清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù),如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液,會(huì)產(chǎn)生大量廢水,因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問(wèn)題。
2023-06-02 13:33:211021

KLA持續(xù)賦能化合物半導(dǎo)體制造發(fā)展

5月23-24日 “2023半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展和機(jī)遇大會(huì)” 在蘇州召開(kāi),來(lái)自KLA LS-SWIFT部門的技術(shù)專家裴舜在會(huì)上帶來(lái)了《創(chuàng)新工藝控制為碳化硅汽車芯片良率與可靠性保駕護(hù)航》的主題演講,分享KLA的全流程工藝控制解決方案如何提升車規(guī)級(jí)功率器件良率與可靠性。
2023-05-30 11:09:372427

半導(dǎo)體工藝制造裝備技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

摘 要:針對(duì)半導(dǎo)體工藝制造裝備的發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術(shù)發(fā)展的角度,分析半導(dǎo)體工藝制造裝備的總體發(fā)展趨勢(shì),重點(diǎn)介紹集成電路工藝設(shè)備、分立器件工藝設(shè)備等細(xì)分領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展態(tài)勢(shì)和主要技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-05-23 15:23:47974

碳化硅賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源模塊

功率密度和靈活性便是 Wolfspeed 和 Astrodyne TDI(ATDI)合作的原因,雙方一同挖掘 SiC 技術(shù)的優(yōu)勢(shì),以滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造/工藝設(shè)備的多種電源需求。我們攜手使用 SiC
2023-05-20 15:46:51436

SiC賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源

半導(dǎo)體器件的制造流程包含數(shù)個(gè)截然不同的精密步驟。無(wú)論是前道工藝還是后道工藝,半導(dǎo)體制造設(shè)備的電源都非常重要。
2023-05-19 15:39:04478

虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案(2)

結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì),半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長(zhǎng)期以來(lái)的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù),進(jìn)而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出,最高 輸出功率可達(dá)80W ,具有長(zhǎng)壽命和成本優(yōu)勢(shì),無(wú)需額外冷卻時(shí)間,即開(kāi)即用,取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-05-16 09:54:17533

芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體?Wafer晶圓半導(dǎo)體制造工藝

所謂“半導(dǎo)體”,是一種導(dǎo)電性能介于“導(dǎo)體”和“絕緣體”之間的物質(zhì)總稱。導(dǎo)體能導(dǎo)電,比如鐵銅銀等金屬,絕緣體不導(dǎo)電,比如橡膠。芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體?
2023-05-15 14:50:164221

頻發(fā)變數(shù),歐洲本土的半導(dǎo)體制造道阻且長(zhǎng)

半導(dǎo)體中卻只有10%是在歐洲制造的,而且大部分還是成熟工藝的汽車芯片。歐盟旨在通過(guò)這一計(jì)劃,將這個(gè)數(shù)字于2030年提高到20%。 ? 歐洲本土晶圓廠 ? 從地理位置分布就可以看出,絕大多數(shù)歐洲本土晶圓廠都建在德國(guó)、英國(guó)、意大利和法國(guó)等地方,
2023-05-15 07:05:002389

日本擬擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制,中國(guó)多家協(xié)會(huì)發(fā)表嚴(yán)正聲明!

就日方計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍,中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)嚴(yán)正聲明。 2023年3月31日,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省大臣西村康稔在內(nèi)閣會(huì)議后的記者會(huì)上宣布修改《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》,計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口
2023-05-08 10:41:49891

日本擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制 中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)發(fā)布嚴(yán)正聲明

此前,日本政府宣布修改《外匯及對(duì)外貿(mào)易法》,計(jì)劃擴(kuò)大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍,涉及6大類23種設(shè)備。日本政府的出口管制措施將對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)帶來(lái)更大的不確定性;甚至對(duì)全球產(chǎn)業(yè)鏈的穩(wěn)定都有很大
2023-05-05 15:00:491489

金屬布線的工藝半導(dǎo)體注入生命的連接

經(jīng)過(guò)氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝,晶圓表面會(huì)形成各種半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體制造商會(huì)讓晶圓表面布滿晶體管和電容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532

半導(dǎo)體工藝之金屬布線工藝介紹

本篇要講的金屬布線工藝,與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨(dú)立的工藝不同。在半導(dǎo)體制程中,光刻、刻蝕等工藝,其實(shí)是為了金屬布線才進(jìn)行的。在金屬布線過(guò)程中,會(huì)采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線材料(金屬)。
2023-04-25 10:38:49986

虹科技術(shù)|半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED光源

半導(dǎo)體行業(yè)借助紫外光譜范圍(i 線:365 nm、h線:405 nm和g線:436 nm)中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創(chuàng)建復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu)
2023-04-24 11:23:281480

半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng)

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章:下一代半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng) 編號(hào):JFKJ-21-188 作者:炬豐科技 摘要 本文簡(jiǎn)要概述了面臨的挑戰(zhàn)晶圓清洗技術(shù)正面臨著先進(jìn)的silicon技術(shù)向非平面
2023-04-23 11:03:00246

工業(yè)泵在半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備中的應(yīng)用

【摘要】 在半導(dǎo)體濕法工藝中,后道清洗因使用有機(jī)藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進(jìn)行對(duì)比研究,論述不同藥液與機(jī)臺(tái)的清洗原理,清洗特點(diǎn)與清洗局限性。【關(guān)鍵詞
2023-04-20 11:45:00823

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》金屬氧化物半導(dǎo)體制造

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章:金屬氧化物半導(dǎo)體制造 編號(hào):JFKJ-21-207 作者:炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計(jì)規(guī)則 ? 互補(bǔ)金屬氧化物
2023-04-20 11:16:00247

虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案(1)

結(jié) 構(gòu)。 得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢(shì)和成本優(yōu)勢(shì),半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長(zhǎng)期以來(lái)的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù),進(jìn)而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出,最高 輸出功率可達(dá)80W ,具有長(zhǎng)壽命和成本優(yōu)勢(shì),無(wú)需額外冷卻時(shí)間,即開(kāi)即用,取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)
2023-04-20 09:32:24412

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》硅片清洗技術(shù)的演變

通過(guò)對(duì)硅表面的清洗和表面處理制備超凈硅。集成電路在制造條件下發(fā)生了相當(dāng)大的變化,在1993年。?這些變化的驅(qū)動(dòng)力是不斷增長(zhǎng)的,生產(chǎn)高性能先進(jìn)硅器件的要求,可靠性和成本。?這些電路的特征尺寸已經(jīng)被放大
2023-04-18 10:06:00106

國(guó)內(nèi)功率半導(dǎo)體需求將持續(xù)快速增長(zhǎng)

占有率達(dá)到8.87%,位居行業(yè)第二。作為一家專業(yè)從事半導(dǎo)體分立器件研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè),晶導(dǎo)微擁有國(guó)際領(lǐng)先的GPP芯片生產(chǎn)工藝和先進(jìn)的SMD封裝技術(shù),形成了從分立器件芯片和框架的研發(fā)設(shè)計(jì)、制造
2023-04-14 13:46:39

半導(dǎo)體制造步驟

很少有人知道,所有的半導(dǎo)體工藝都是從一粒沙開(kāi)始的。因?yàn)樯匙又兴墓枋巧a(chǎn)晶圓所需要的原料。
2023-04-11 16:39:021657

陶瓷基板用于精密半導(dǎo)體制冷片封裝的優(yōu)勢(shì)

的溫度上升,實(shí)現(xiàn)制冷效果。傳統(tǒng)半導(dǎo)體制冷片通常體積較大,制冷量有限,主要用于小型制冷設(shè)備或電子器件中的溫度控制。微型半導(dǎo)體制冷片是一種新型的制冷技術(shù),它通常是采用微電子加工技術(shù)半導(dǎo)體材料和制冷結(jié)構(gòu)制成微米級(jí)別
2023-04-03 14:57:441029

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng):行業(yè)分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過(guò)程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分(產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域)。
2023-04-03 09:47:511643

半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED解決方案

針對(duì)半導(dǎo)體制造工藝的UV-LED光源需求,虹科提供高功率的紫外光源解決方案,可適配步進(jìn)器和掩膜版設(shè)備,更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱,實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體質(zhì)量控制。
2023-03-29 10:35:41710

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