濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

摘要

半導(dǎo)體行業(yè)的研究人員研究了臭氧對wafer-cleaning的應(yīng)用程序。來降低化學(xué)品消耗，降低成本，提高清洗效率，對臭氧進行了研究作為一種替代，傳統(tǒng)的硫酸-過氧化氫 RCA用堿性(SC-1)和酸性來清洗。它是 (SC-2)過氧化氫混合物這是因為消毒活動產(chǎn)生的多重影響。

圖1:三步ACD原理圖清洗系統(tǒng)配置

DIO3可降解有機物污染

濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

圖2:三種清潔工藝后典型的殘余金屬表面濃度在硅片上:在HF/O3干燥器中一步的過程，修改的RCA清潔，和一個堿性蝕刻

尋找一個替代 RCA清洗

濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

圖3:三種類型的CMOS器件的跨導(dǎo)數(shù)據(jù)(a)和飽和電流數(shù)據(jù)(b)

結(jié)論

濕式清洗工藝將繼續(xù)發(fā)揮作用在半導(dǎo)體制造中扮演著重要的角色晶圓結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性增加。在可靠的臭氧產(chǎn)生系統(tǒng)發(fā)展，使臭氧牽引替代傳統(tǒng)的濕清洗和pho抵抗去除方法。臭氧/水清潔產(chǎn)品更便宜，更環(huán)保。
　　審核編輯：湯梓紅

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2023-12-07 13:19:14

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一文詳解半導(dǎo)體制造工藝

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半導(dǎo)體濕法清洗工藝

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半導(dǎo)體制造之薄膜工藝講解

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半導(dǎo)體封裝的作用、工藝和演變

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無線傳感器網(wǎng)絡(luò)簡化半導(dǎo)體制造作業(yè)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《無線傳感器網(wǎng)絡(luò)簡化半導(dǎo)體制造作業(yè).pdf》資料免費下載

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2023-10-26 15:10:24

359

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芯片制造的刻蝕工藝科普

在半導(dǎo)體制程工藝中，有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝，如“清洗”、“刻蝕”等。如果說“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉，“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料，從而創(chuàng)建所需的微細(xì)圖案。半導(dǎo)體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設(shè)備，在其他類似工藝中也很常見。

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半導(dǎo)體制造過程中常用的清洗方法

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陶瓷基板DPC工藝助力半導(dǎo)體制冷片的精密和散熱

隨著科技的不斷進步，半導(dǎo)體制冷片在各種領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。而陶瓷基板DPC工藝作為一種先進的制作技術(shù)，在半導(dǎo)體制冷片制作中具有顯著的優(yōu)勢。本文將從多個方面介紹陶瓷基板DPC工藝在半導(dǎo)體制冷片中

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今天我們來聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用，說起半導(dǎo)體清洗，是指對晶圓表面進行無損傷清洗，用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測試每個步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì)，避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率，為企業(yè)實現(xiàn)降本增效的目的。

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2023-08-22 15:08:00

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半導(dǎo)體清洗除塵，是芯片制造的重要環(huán)節(jié)

早些時期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來清洗除塵，優(yōu)點就是價格低廉，缺點是有時化學(xué)藥水或者超純水會把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進步，人們對半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達到不錯的水平

2023-08-22 10:54:45

681

銅在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

半導(dǎo)體技術(shù)在當(dāng)今社會已成為高科技產(chǎn)品的核心，而在半導(dǎo)體制造的各個環(huán)節(jié)中，銅憑借其出色的性能特點，已成為眾多工藝應(yīng)用的關(guān)鍵材料。在半導(dǎo)體領(lǐng)域中，銅主要被用于制造互連線路。在傳統(tǒng)的互連制造中，銅通常被用作通過化學(xué)氣相淀積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）技術(shù)沉積在金屬膜上。

2023-08-19 11:41:15

738

智能制造中工時分析的重要作用及制造業(yè)實現(xiàn)智能制造轉(zhuǎn)型的關(guān)鍵

中的重要作用，并探討制造業(yè)如何實現(xiàn)智能制造的轉(zhuǎn)型。首先，工時分析在智能制造中發(fā)揮著優(yōu)化生產(chǎn)效率的重要作用。通過對制造過程中涉及的各個環(huán)節(jié)和工序進行工時計算和分析，企業(yè)可以更準(zhǔn)確地評估每個任務(wù)所需的時間和資源。這有

2023-08-15 14:56:39

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半導(dǎo)體制造工藝解析

WCMP是電子束檢測應(yīng)用最重要的一層，這一層的功能主要體現(xiàn)在：可以使工程師遇到器件的漏電和接觸不良問題。EBI的應(yīng)用可以幫助提升成品率，減少半導(dǎo)體ict技術(shù)開發(fā)的周期，并縮短提高成品率所需的時間。

2023-08-11 10:02:32

664

半導(dǎo)體制造中的清洗工藝技術(shù)改進方法

隨著晶體管尺寸的不斷微縮，晶圓制造工藝日益復(fù)雜，對半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來越高。

2023-08-01 10:01:56

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板對板連接器的重要作用

科學(xué)成就是由一點一滴積累起來的，惟有長期的積聚才能由點滴匯成大海。——華羅庚板對板連接器的重要作用板對板連接器是必不可少的微型耦合插頭和插座。連接器的引腳可以直接連接電路板(PCB)之間的電源和信號

2023-07-31 22:13:35

765

半導(dǎo)體后端工藝：了解半導(dǎo)體測試（上）

半導(dǎo)體制作工藝可分為前端和后端：前端主要是晶圓制作和光刻（在晶圓上繪制電路）；后端主要是芯片的封裝。

2023-07-24 15:46:05

905

淺談激光器在半導(dǎo)體制造中的作用

半導(dǎo)體是醫(yī)療設(shè)備內(nèi)部工作的一個組成部分，有助于非導(dǎo)體和導(dǎo)體之間的導(dǎo)電性以控制電流。反過來，制造完美半導(dǎo)體的組裝過程非常詳細(xì)，尤其是現(xiàn)在設(shè)備變得越來越小。

2023-07-15 09:40:52

1135

ALD是什么？半導(dǎo)體制造的基本流程

在半導(dǎo)體制造過程中，每個半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術(shù)難點多，操作復(fù)雜。

2023-07-11 11:25:55

2897

如何使用半導(dǎo)體制造二極管？

　二極管是最簡單的半導(dǎo)體器件，在本文中，我們將了解什么是半導(dǎo)體、摻雜的工作原理以及如何使用半導(dǎo)體制造二極管。但首先，讓我們仔細(xì)看看硅。硅是一種非常常見的元素，是沙子和石英中的主要元素。如果在元素周期表中查找“硅”，會發(fā)現(xiàn)它位于鋁旁邊，低于碳，高于鍺。

2023-07-06 11:13:55

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【博捷芯】國產(chǎn)劃片機開創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時代

國產(chǎn)劃片機確實開創(chuàng)了半導(dǎo)體芯片切割的新工藝時代。劃片機是一種用于切割和劃分半導(dǎo)體芯片的設(shè)備，它是半導(dǎo)體制造過程中非常重要的一環(huán)。在過去，劃片機技術(shù)一直被國外廠商所壟斷，國內(nèi)半導(dǎo)體制造企業(yè)不得不

2023-07-03 17:51:46

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東芝開始建設(shè)300mm晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠

Electronics Corporation）開工新建一家300晶圓功率半導(dǎo)體制造工廠。該功率半導(dǎo)體制造工廠的建造將分兩個階段進行，一期工程計劃于2024財年內(nèi)投產(chǎn)。東芝還將在新工廠附近建造一棟辦公樓，以滿足增員需求。新工廠將具有抗震結(jié)構(gòu)和業(yè)務(wù)連續(xù)性計劃（BCP）

2023-06-29 17:45:02

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半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章（點擊查看），我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導(dǎo)體制程。在上一篇我們說到，為制作巧克力夾心，需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分，然后倒入巧克力糖漿，再蓋上一層餅干層。“倒入巧克力糖漿”和“蓋上餅干層”的過程在半導(dǎo)體制程中就相當(dāng)于“沉積工藝”。

2023-06-29 16:56:17

830

半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)ALD：這家公司是龍頭！

2023-06-28 16:54:06

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淺談半導(dǎo)體制造中的刻蝕工藝

在上一篇文章，我們介紹了光刻工藝，即利用光罩(掩膜)把設(shè)計好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步，將在晶圓上進行刻蝕工藝，以去除不必要的材料，只保留所需的圖形。

2023-06-28 10:04:58

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半導(dǎo)體前端工藝：刻蝕——有選擇性地刻蝕材料，以創(chuàng)建所需圖形

2023-06-15 17:51:57

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半導(dǎo)體制造光刻工藝制作流程

金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。MOSFET體積越小，單個 MOSFET的耗電量就越少，還可以制造出更多的晶體管，讓其發(fā)揮作用，可謂是一舉多得。

2023-06-13 12:29:09

596

半導(dǎo)體制冷器應(yīng)用--半導(dǎo)體冷凍治療儀

半導(dǎo)體冷凍治療儀利用半導(dǎo)體制冷組件產(chǎn)生的低溫來治療疾病，是近年來發(fā)展較快的物理治療設(shè)備。它具有溫控精確、功耗低、體積小等優(yōu)點，在康復(fù)治療領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。半導(dǎo)體冷凍治療儀包括治療儀本體、半導(dǎo)體制

2023-06-12 09:29:18

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博捷芯劃片機半導(dǎo)體封裝的作用、工藝及演變

半導(dǎo)體封裝是芯片封裝的過程，其作用包括安裝、固定、密封、保護芯片和增強電熱性能。這個過程始于將晶圓分離成單個的芯片，這可以通過劃片法或鋸片法實現(xiàn)。劃片機是使用刀片或通過激光等方式高精度切割被加工

2023-06-09 15:03:24

629

揭秘半導(dǎo)體制程：8寸晶圓與5nm工藝的魅力與挑戰(zhàn)

在探討半導(dǎo)體行業(yè)時，我們經(jīng)常會聽到兩個概念：晶圓尺寸和工藝節(jié)點。本文將為您解析8寸晶圓以及5nm工藝這兩個重要的概念。

2023-06-06 10:44:00

1423

博捷芯:晶圓切割提升晶圓工藝制程，國產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機解決方案

晶圓切割是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一。提升晶圓工藝制程需要綜合考慮多個方面，包括切割效率、切割質(zhì)量、設(shè)備性能等。針對這些問題，國產(chǎn)半導(dǎo)體劃片機解決方案可以提供一些幫助。首先，在切割效率方面，國產(chǎn)

2023-06-05 15:30:44

7568

臭氧清洗系統(tǒng)的制備及其在硅晶片清洗中的應(yīng)用

在半導(dǎo)體和太陽能電池制造過程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問題。

2023-06-02 13:33:21

1021

半導(dǎo)體工藝與制造裝備技術(shù)發(fā)展趨勢

摘要：針對半導(dǎo)體工藝與制造裝備的發(fā)展趨勢進行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術(shù)發(fā)展的角度，分析半導(dǎo)體工藝與制造裝備的總體發(fā)展趨勢，重點介紹集成電路工藝設(shè)備、分立器件工藝設(shè)備等細(xì)分領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展態(tài)勢和主要技術(shù)挑戰(zhàn)。

2023-05-23 15:23:47

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碳化硅賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源模塊

功率密度和靈活性便是 Wolfspeed 和 Astrodyne TDI（ATDI）合作的原因，雙方一同挖掘 SiC 技術(shù)的優(yōu)勢，以滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造/工藝設(shè)備的多種電源需求。我們攜手使用 SiC

2023-05-20 15:46:51

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SiC賦能更為智能的半導(dǎo)體制造/工藝電源

半導(dǎo)體器件的制造流程包含數(shù)個截然不同的精密步驟。無論是前道工藝還是后道工藝，半導(dǎo)體制造設(shè)備的電源都非常重要。

2023-05-19 15:39:04

478

半導(dǎo)體工藝之氣相外延介紹

在半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)的發(fā)展中，氣相外延發(fā)揮了重要作用，該技術(shù)已廣泛用于Si半導(dǎo)體器件和集成電路的工業(yè)化生產(chǎn)。

2023-05-19 09:06:46

2464

半導(dǎo)體封裝技術(shù)研究

本文以半導(dǎo)體封裝技術(shù)為研究對象，在論述半導(dǎo)體封裝技術(shù)及其重要作用的基礎(chǔ)上，探究了現(xiàn)階段半導(dǎo)體封裝技術(shù)的芯片保護、電氣功能實現(xiàn)、通用性、封裝界面標(biāo)準(zhǔn)化、散熱冷卻功能等諸多發(fā)展趨勢，深入研究了半導(dǎo)體前端

2023-05-16 10:06:00

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虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案（2）

結(jié) 構(gòu)。得益于LED的技術(shù)優(yōu)勢和成本優(yōu)勢，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域正在擺脫長期以來的傳統(tǒng)放電汞燈技術(shù)，進而選擇 UVLED技術(shù) 作為一種理想解決方案。虹科UVLED紫外光源提供穩(wěn)定且超高功率的UV輻射輸出，最高輸出功率可達80W ，具有長壽命和成本優(yōu)勢，無需額外冷卻時間，即開即用，取代了傳統(tǒng)的燈箱結(jié)構(gòu)

2023-05-16 09:54:17

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芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體？Wafer晶圓半導(dǎo)體制造工藝

所謂“半導(dǎo)體”，是一種導(dǎo)電性能介于“導(dǎo)體”和“絕緣體”之間的物質(zhì)總稱。導(dǎo)體能導(dǎo)電，比如鐵銅銀等金屬，絕緣體不導(dǎo)電，比如橡膠。芯片的制作為什么要用半導(dǎo)體？

2023-05-15 14:50:16

4221

頻發(fā)變數(shù)，歐洲本土的半導(dǎo)體制造道阻且長

半導(dǎo)體中卻只有10%是在歐洲制造的，而且大部分還是成熟工藝的汽車芯片。歐盟旨在通過這一計劃，將這個數(shù)字于2030年提高到20%。 ? 歐洲本土晶圓廠 ? 從地理位置分布就可以看出，絕大多數(shù)歐洲本土晶圓廠都建在德國、英國、意大利和法國等地方，

2023-05-15 07:05:00

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半導(dǎo)體材料在納米光子學(xué)中的作用

半導(dǎo)體材料在開發(fā)納米光子技術(shù)方面發(fā)揮著重要作用。

2023-05-14 16:58:55

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日本擬擴大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制，中國多家協(xié)會發(fā)表嚴(yán)正聲明！

就日方計劃擴大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍，中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會嚴(yán)正聲明。 2023年3月31日，日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省大臣西村康稔在內(nèi)閣會議后的記者會上宣布修改《外匯及對外貿(mào)易法》，計劃擴大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口

2023-05-08 10:41:49

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日本擴大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會發(fā)布嚴(yán)正聲明

此前，日本政府宣布修改《外匯及對外貿(mào)易法》，計劃擴大半導(dǎo)體制造設(shè)備出口管制范圍，涉及6大類23種設(shè)備。日本政府的出口管制措施將對全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)帶來更大的不確定性；甚至對全球產(chǎn)業(yè)鏈的穩(wěn)定都有很大

2023-05-05 15:00:49

1489

金屬布線的工藝為半導(dǎo)體注入生命的連接

經(jīng)過氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝，晶圓表面會形成各種半導(dǎo)體元件。半導(dǎo)體制造商會讓晶圓表面布滿晶體管和電容（Capacitor）；

2023-04-28 10:04:52

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半導(dǎo)體工藝之金屬布線工藝介紹

本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導(dǎo)體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中，會采用很多與之前的電子元器件層性質(zhì)不同的配線材料（金屬）。

2023-04-25 10:38:49

986

虹科技術(shù)|半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED光源

半導(dǎo)體行業(yè)借助紫外光譜范圍（i 線：365 nm、h線：405 nm和g線：436 nm）中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創(chuàng)建復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu)

2023-04-24 11:23:28

1480

半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng)

書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：下一代半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng) 編號：JFKJ-21-188 作者：炬豐科技摘要本文簡要概述了面臨的挑戰(zhàn)晶圓清洗技術(shù)正面臨著先進的silicon技術(shù)向非平面

2023-04-23 11:03:00

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工業(yè)泵在半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備中的應(yīng)用

【摘要】在半導(dǎo)體濕法工藝中，后道清洗因使用有機藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進行對比研究，論述不同藥液與機臺的清洗原理，清洗特點與清洗局限性。【關(guān)鍵詞

2023-04-20 11:45:00

823

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》金屬氧化物半導(dǎo)體的制造

書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》文章：金屬氧化物半導(dǎo)體的制造編號：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設(shè)計規(guī)則 ? 互補金屬氧化物

2023-04-20 11:16:00

247

虹科分享 | 半導(dǎo)體制造工藝中的虹科光源解決方案（1）

2023-04-20 09:32:24

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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》硅片清洗技術(shù)的演變

通過對硅表面的清洗和表面處理制備超凈硅。集成電路在制造條件下發(fā)生了相當(dāng)大的變化，在1993年。?這些變化的驅(qū)動力是不斷增長的，生產(chǎn)高性能先進硅器件的要求，可靠性和成本。?這些電路的特征尺寸已經(jīng)被放大

2023-04-18 10:06:00

106

國內(nèi)功率半導(dǎo)體需求將持續(xù)快速增長

制造產(chǎn)業(yè)的轉(zhuǎn)移、下游行業(yè)需求的拉動以及國家推出的支持政策，半導(dǎo)體分立器件行業(yè)已經(jīng)進入快速發(fā)展通道。目前，我國已經(jīng)成為全球重要的半導(dǎo)體分立器件制造基地和全球最大的半導(dǎo)體分立器件市場，根據(jù)中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會

2023-04-14 13:46:39

使用虛擬實驗設(shè)計加速半導(dǎo)體工藝發(fā)展

，在半導(dǎo)體設(shè)計和制造領(lǐng)域，DOE（或?qū)嶒灒┛臻g通常并未得到充分探索。相反，人們經(jīng)常使用非常傳統(tǒng)的試錯方案來挖掘有限的實驗空間。這是因為在半導(dǎo)體制造工藝中存在著太多變量，如果要充分探索所有變量的可能情況

2023-04-13 14:19:57

415

半導(dǎo)體制造步驟

很少有人知道，所有的半導(dǎo)體工藝都是從一粒沙開始的。因為沙子中所含的硅是生產(chǎn)晶圓所需要的原料。

2023-04-11 16:39:02

1657

陶瓷基板用于精密半導(dǎo)體制冷片封裝的優(yōu)勢

半導(dǎo)體制冷片是一種基于半導(dǎo)體材料熱電效應(yīng)原理制冷的裝置。它由一系列電子元件（如P型半導(dǎo)體、N型半導(dǎo)體等）組成，當(dāng)電流通過這些元件時，會發(fā)生熱電效應(yīng)，產(chǎn)生冷熱差，從而使制冷片一側(cè)的溫度下降，另一側(cè)

2023-04-03 14:57:44

1029

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場：行業(yè)分析

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場預(yù)計將達到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對器件的性能和可靠性有重大影響。本報告?zhèn)戎赜?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。

2023-04-03 09:47:51

1643

半導(dǎo)體制造工藝中的UV-LED解決方案

針對半導(dǎo)體制造工藝的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解決方案，可適配步進器和掩膜版設(shè)備，更換傳統(tǒng)工具中的傳統(tǒng)燈箱，實現(xiàn)高質(zhì)量的半導(dǎo)體質(zhì)量控制。

2023-03-29 10:35:41

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濕式清洗工藝在半導(dǎo)體制造中的重要作用

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